磁头及磁记录装置制造方法及图纸

提供能提高记录密度的磁头及磁记录装置。磁头包括第1磁极、第2磁极及设置于第1磁极与第2磁极之间的层叠体。层叠体包括第1磁性层、设置于第1磁性层与第2磁极之间的第2磁性层、设置于第2磁性层与第2磁极之间的第3磁性层、设置于第1磁性层与第2磁性层之间的第1非磁性层、设置于第2磁性层与第3磁性层之间的第2非磁性层及设置于第1磁极与第1磁性层之间的第3非磁性层。沿第2方向的第1磁极的第1磁极长度比沿第2方向的第2磁极的第2磁极长度短，第2方向相对于从第1磁性层向第2磁性层的第1方向垂直且沿第1磁极的介质对置面。沿第3方向的第1磁性层的长度比沿第3方向的第2磁性层的长度长，第3方向相对于第1方向垂直。第3方向相对于第1方向垂直。第3方向相对于第1方向垂直。

【技术实现步骤摘要】
磁头及磁记录装置
[0001]本申请以日本专利申请2020
‑
113972(申请日：2020年7月1日)为基础，由该申请享受优先权。本申请通过参照该申请而包含该申请的全部内容。


[0002]本专利技术的实施方式涉及磁头及磁记录装置。

技术介绍

[0003]使用磁头向HDD(Hard Disk Drive，硬盘驱动器)等磁记录介质记录信息。在磁头及磁记录装置中，期望提高记录密度。

技术实现思路

[0004]本专利技术的实施方式提供能够提高记录密度的磁头及磁记录装置。
[0005]用于解决课题的手段
[0006]根据本专利技术的实施方式，磁头包括第1磁极、第2磁极、以及设置于所述第1磁极与所述第2磁极之间的层叠体。所述层叠体包括第1磁性层、设置于所述第1磁性层与所述第2磁极之间的第2磁性层、设置于所述第2磁性层与所述第2磁极之间的第3磁性层、设置于所述第1磁性层与所述第2磁性层之间的第1非磁性层、设置于所述第2磁性层与所述第3磁性层之间的第2非磁性层、以及设置于所述第1磁极与所述第1磁性层之间的第3非磁性层。沿着第2方向的所述第1磁极的第1磁极长度比沿着所述第2方向的所述第2磁极的第2磁极长度短，该第2方向相对于从所述第1磁性层向所述第2磁性层的第1方向垂直且沿着所述第1磁极的介质对置面。沿着第3方向的所述第1磁性层的第1磁性层长度比沿着所述第3方向的所述第2磁性层的第2磁性层长度长，该第3方向相对于所述第1方向垂直。根据上述构成的磁头，能够提供能提高记录密度的磁头及磁记录装置。
附图说明
[0007]图1的(a)及图1的(b)是例示第1实施方式的磁头的示意图。
[0008]图2是例示第1实施方式的磁记录装置的示意性剖视图。
[0009]图3是例示参考例的磁头的特性的图表(graph)。
[0010]图4的(a)及图4的(b)是例示磁头的示意性剖视图。
[0011]图5的(a)及图5的(b)是例示第1实施方式的磁头的示意图。
[0012]图6是例示第1实施方式的磁头的示意性剖视图。
[0013]图7是例示第1实施方式的磁头的示意性剖视图。
[0014]图8是例示第1实施方式的磁头的示意性俯视图。
[0015]图9是例示第1实施方式的磁头的示意性俯视图。
[0016]图10的(a)及图10的(b)是例示第2实施方式的磁头的示意图。
[0017]图11的(a)及图11的(b)是例示第2实施方式的磁头的示意图。
[0018]图12是例示第2实施方式的磁头的示意性剖视图。
[0019]图13是例示第2实施方式的磁头的示意性剖视图。
[0020]图14是例示第2实施方式的磁头的示意性俯视图。
[0021]图15是例示第2实施方式的磁头的示意性俯视图。
[0022]图16是例示参考例的磁头的示意性俯视图。
[0023]图17是例示磁头的特性的图表。
[0024]图18是例示磁头的特性的图表。
[0025]图19是例示实施方式的磁记录装置的示意性立体图。
[0026]图20是例示实施方式的磁记录装置的一部分的示意性立体图。
[0027]图21是例示实施方式的磁记录装置的示意性立体图。
[0028]图22的(a)及图22的(b)是例示实施方式的磁记录装置的一部分的示意性立体图。
[0029]【标号说明】
[0030]20
…
层叠体，20D
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电路，21～23
…
第1磁性层～第3磁性层，21M、22M
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磁化，25a～25c
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磁性层，30D
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记录回路，30F
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介质对置面，30c
…
线圈，30i
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绝缘部，31、32
…
第1磁极、第2磁极，31M、32M
…
磁场，33
…
屏蔽件，41～44
…
第1非磁性层～第4非磁性层，45a～45d
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非磁性层，60
…
记录部，70
…
再现部，71
…
磁再现元件，72a、72b
…
第1再现磁屏蔽件、第2再现磁屏蔽件，80
…
磁记录介质，81
…
磁记录层，82
…
介质基板，83
…
磁化，85
…
介质移动方向，θ1
…
角度，110～115、118、119、120～125
…
磁头，150
…
磁记录装置，154
…
悬架，155
…
臂，156
…
音圈马达，157
…
轴承部，158
…
头万向节组件，159
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头滑块，159A
…
空气流入侧，159B
…
空气流出侧，160
…
头堆叠组件，161
…
支承框，162
…
线圈，180
…
记录用介质盘，180M
…
主轴马达，181
…
记录介质，190
…
信号处理部，210
…
磁记录装置，AR、AR1
…
箭头，CF1、CF2
…
第1构成、第2构成，D1～D3
…
第1方向～第3方向，DX
…
位置，Iw
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记录电流，Jc
…
电流密度，L21、L22
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第1磁性层长度、第2磁性层长度，OS
…
振荡强度，SNR
…
SN比，T1、T2
…
第1端子、第2端子，W1、W2
…
第1布线、第2布线，WW
…
记录宽度，ic
…
电流，je
…
电子流，t21～t23
…
第1磁性层厚度～第3磁性层厚度，t41～t44
…
第1非磁性层厚度～第4非磁性层厚度，w1、w2
…
第1磁极长度、第2磁极长度
具体实施方式
[0031]以下，参照附图的同时，对本专利技术的各实施方式进行说明。
[0032]附图是示意性或概念性的，各部分的厚度与宽度的关系、部分间的大小的比率等，不一定与现实的相同。即便在表示相同部分的情况下，也存在根据附图而彼此的尺寸、比率表示得不同的情况。
[0033]在本申请说明书和各附图中，对于与关于已经出现的附图而在前描述的要素同样的要素，标注同一标号，适当省略详细的说明。
[0034](第1实施方式)<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁头，具备：第1磁极；第2磁极；以及层叠体，设置于所述第1磁极与所述第2磁极之间，所述层叠体包括：第1磁性层；第2磁性层，设置于所述第1磁性层与所述第2磁极之间；第3磁性层，设置于所述第2磁性层与所述第2磁极之间；第1非磁性层，设置于所述第1磁性层与所述第2磁性层之间；第2非磁性层，设置于所述第2磁性层与所述第3磁性层之间；以及第3非磁性层，设置于所述第1磁极与所述第1磁性层之间，沿着第2方向的所述第1磁极的第1磁极长度比沿着所述第2方向的所述第2磁极的第2磁极长度短，该第2方向相对于从所述第1磁性层向所述第2磁性层的第1方向垂直且沿着所述第1磁极的介质对置面，沿着第3方向的所述第1磁性层的第1磁性层长度比沿着所述第3方向的所述第2磁性层的第2磁性层长度长，该第3方向相对于所述第1方向垂直。2.根据权利要求1所述的磁头，所述第3方向与所述第2方向交叉。3.根据权利要求2所述的磁头，所述第1方向相对于所述介质对置面倾斜。4.根据权利要求1所述的磁头，所述第3方向沿着所述第2方向。5.一种磁头，具备：第1磁极；第2磁极；以及层叠体，设置于所述第1磁极与所述第2磁极之间，所述层叠体包括：第1磁性层；第2磁性层，设置于所述第1磁极与所述第1磁性层之间；第3磁性...

【专利技术属性】
技术研发人员：高岸雅幸，成田直幸，前田知幸，永泽鹤美，岩崎仁志，首藤浩文，
申请(专利权)人：东芝电子元件及存储装置株式会社，
类型：发明
国别省市：