一种锗单晶片用双面镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种锗单晶片用双面镀膜设备，顶板放置喷涂机构，顶板内部有滚动机构，底板上有夹持机构，夹持机构的中部有锗单晶片；喷涂管设置有两根，安装在滚动机构上，喷头安装在喷涂管的底部侧面；滚动带设置有两条，两个滚动齿轮分别连接正向喷涂管与反向喷涂管；电机与动力齿轮连接，滚动带上下并列放置在顶板的内部。本实用新型专利技术的一种锗单晶片用双面镀膜设备，通过电机为动力齿轮提供驱动力带动齿条与滚动齿轮的转动，喷涂管随着滚动齿轮的移动，从而完成左右移动喷涂镀膜的工作；喷涂管上带有喷头的的一侧分别朝向锗单晶片的两侧，安装在两个滚动齿轮的侧面；两根喷涂管可同时左右进行喷涂镀膜，提高工作效率，节省工作时间。省工作时间。省工作时间。

【技术实现步骤摘要】
一种锗单晶片用双面镀膜设备


[0001]本技术涉及双面镀膜
，尤其涉及一种锗单晶片用双面镀膜设备。

技术介绍

[0002]锗单晶片是不含大角晶界或孪晶的锗晶体。呈金刚石型晶体结构，是重要的半导体材料，广泛应用在各领域；而镀膜设备能够在微颗粒表面沉积各种金属薄膜、金属氧化物薄膜、金属氮化物薄膜及合金薄膜，且所镀薄膜致密、均匀、纯度高、附着力强等。但是现有的镀膜设备基本采用单面喷涂的设计，但是锗单晶片需两面进行镀膜；相对来说单面喷涂会导致工作进度缓慢，加工速度难以提高；针对此弊端，该专利进行此类设计创新。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种锗单晶片用双面镀膜设备，具备双面同时镀膜的特点，解决了现有技术中的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种锗单晶片用双面镀膜设备，包括底板，所述底板两侧设置有支架，支架的顶端与顶板的底端固定，顶板表面放置有喷涂机构，顶板的内部设置有滚动机构，底板安装有夹持机构，夹持机构的中部放置有锗单晶片；
[0005]所述喷涂机构包括涂料箱、喷涂管和喷头本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种锗单晶片用双面镀膜设备，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)两侧设置有支架(2)，支架(2)的顶端与顶板(3)的底端固定，顶板(3)表面放置有喷涂机构(4)，顶板(3)的内部设置有滚动机构(5)，底板(1)安装有夹持机构(6)，夹持机构(6)的中部放置有锗单晶片(7)；所述喷涂机构(4)包括涂料箱(41)、喷涂管(42)和喷头(43)，涂料箱(41)放置在顶板(3)上方，喷涂管(42)安装在滚动机构(5)上，喷头(43)安装在喷涂管(42)的底部侧面；所述滚动机构(5)包括电机(51)、滚动带(52)、动力齿轮(53)、固定齿轮(54)、滚动齿轮(55)和齿条(56)，电机(51)安装在顶板(3)一侧与动力齿轮(53)连接，滚动带(52)上下并列放置在顶板(3)的内部，动力齿轮(53)和固定齿轮(54)分别安装在滚动带(52)的两侧，滚动齿轮(55)安装在滚动带(52)上活动连接，齿条(56)与滚动带(52)、动力齿轮(53)、固定齿轮(54)和滚动齿轮(55)相啮合。2.根据权利要求1所述的一种锗...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴洁，裴泽轩，刘怀成，李怀宇，
申请(专利权)人：保定晶泽光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：