薄膜感测器及触控显示器制造技术

一种薄膜感测器及触控显示器，所述薄膜感测器包含基材、金属纳米线层及光学胶层。所述金属纳米线层形成于所述基材上，并且包含相互间隔排列的多个电极线。所述光学胶层形成于所述金属纳米线层上，并且匹配所述金属纳米线层，以在高温高湿(65℃/90％RH/DC 5V/240小时)的耐候试验下，所述电极线的线阻变化率小于10％，并且相邻的两个所述电极线之间的绝缘阻抗大于300MΩ。借此能够提高所述薄膜感测器的可靠性。的可靠性。的可靠性。

【技术实现步骤摘要】
薄膜感测器及触控显示器


[0001]本专利技术涉及一种薄膜感测器及触控显示器，特别是涉及一种含有金属纳米线的薄膜感测器及触控显示器。

技术介绍

[0002]近年来触控荧幕广泛应用于各类电子产品，尤其行动通讯产品大多使用触控荧幕，而且为了方便携带，更进一步发展出可折叠的触控荧幕。
[0003]一般用于显示面板的透明导电材料为氧化铟锡(简称ITO)，但是ITO薄膜容易碎而不能挠曲，在可携式电子产品的应用上较为受限。因此，发展替代ITO的可挠曲透明导电薄膜为本
的重点项目之一。
[0004]目前替代ITO的材料发展较为成熟的一种是金属纳米线(Metal Nanowires)，将含有金属纳米线的涂层图案化可形成导电线路，并可进一步形成薄膜感测器。然而，现有的含有金属纳米线的薄膜感测器在某些使用环境下，导电线路容易发生开路或短路的现象，导致产品功能失效。故，提供一种具有可提高可靠性的金属纳米线薄膜感测器为目前研发的课题。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供一种能够提高可靠性的薄膜感测器。
[0006]本专利技术的薄膜感测器在一些实施态样中，是包含基材、金属纳米线层及光学胶层。所述金属纳米线层形成于所述基材上，并且包含相互间隔排列的多个电极线。所述光学胶层形成于所述金属纳米线层上，并且匹配所述金属纳米线层，以在高温高湿(65℃/90％RH/DC 5V/240小时)的耐候试验下，所述电极线的线阻变化率小于10％，并且相邻的两个所述电极线之间的绝缘阻抗大于300MΩ。
[0007]在一些实施态样中，所述光学胶层选自以下光学胶材料制成：非紫外光固化的压克力胶系及橡胶系，其中由所述非紫外光固化的压克力胶系材料制成的光学胶层具有介电常数(频率100KHz)小于4、吸水率(WA％)小于0.3且水气穿透率(38℃/90％RH)小于400g/m2/day的性质；由所述橡胶系材料制成的光学胶层具有介电常数(频率100KHz)小于4、吸水率(WA％)小于0.3且水气穿透率(38℃/90％RH)小于100g/m2/day的性质。
[0008]在一些实施态样中，所述光学胶层的厚度介于25至250微米。
[0009]在一些实施态样中，所述金属纳米线层进一步包括多个填充于所述电极线之间的绝缘部。
[0010]在一些实施态样中，所述金属纳米线层是在图案化形成所述电极线之后再形成所述绝缘部的结构层。
[0011]在一些实施态样中，所述薄膜感测器还包含保护层，形成于所述金属纳米线层上，并且所述光学胶层形成于所述保护层上。
[0012]在一些实施态样中，所述保护层具有介电常数(频率100KHz)小于4及水气穿透率
(38℃/90％RH)小于12g/m2/day的性质。
[0013]在一些实施态样中，所述保护层的厚度介于0.2至10微米。
[0014]在一些实施态样中，相邻的两个所述电极线之间的线距介于10至50微米。
[0015]此外，本专利技术提供一种含有前述能够提高可靠性的薄膜感测器的触控显示器。
[0016]本专利技术触控显示器在一些实施态样中，是包含显示模块及整合于所述显示模块的前述薄膜感测器。
[0017]在一些实施态样中，所述触控显示器还包含黏着层，设置于所述显示模块及所述薄膜感测器之间，所述薄膜感测器通过所述黏着层来贴合所述显示模块。
[0018]在一些实施态样中，所述薄膜感测器贴合于所述显示模块的封装基板、偏光板或电极承载基板。
[0019]在一些实施态样中，所述基材是作为所述显示模块的封装基板、偏光板或电极承载基板的基材。
[0020]本专利技术至少具有以下功效：本专利技术薄膜感测器通过匹配金属纳米线层的光学胶层的设计，使得在高温高湿(65℃/90％RH/DC 5V/240小时)的耐候试验下，金属纳米线层的电极线的线阻变化率小于10％，并且相邻的两个电极线之间的绝缘阻抗大于300MΩ，整体能够提高薄膜感测器的可靠性。
附图说明
[0021]本专利技术的其他的特征及功效，将于参照图式的实施方式中清楚地呈现，其中：
[0022]图1是本专利技术薄膜感测器的实施例的剖面示意图；及
[0023]图2是本专利技术触控显示装置的实施例的剖面示意图。
具体实施方式
[0024]在本专利技术被详细描述之前，应当注意在以下的说明内容中，类似的元件是以相同的编号来表示。文中所提及的“上”、“下”等位置词仅指当前指定视图的相对位置，而非绝对位置。此外，除非内文中有所特别限定，否则“形成(或设置)于......上”用词所代表的态样可包含直接形成及间接形成的不同态样。
[0025]参阅图1，是本专利技术薄膜感测器的实施例的剖面示意图。薄膜感测器1包含：基材11、金属纳米线层12及光学胶层13。金属纳米线层12形成于基材11上，并且包含多个相互间隔排列的电极线121，其中相邻的两个电极线121之间的线距介于约10微米至50微米之间。光学胶层13形成于金属纳米线层12上，除了提供贴合功能之外，还用来提高薄膜感测器1的可靠性。更具体来讲，光学胶层13是匹配金属纳米线层12，以在高温高湿(High Temperature and High Humidity，HTHH)(65℃/90％RH/DC 5V/240小时)的耐候试验下，让电极线121的线阻变化率小于10％，并且相邻的两个电极线121之间的绝缘阻抗大于300MΩ。其中，因金属纳米线层12的金属离子会产生迁移，因此光学胶层13需匹配金属纳米线层12来设置，以有效减少金属离子迁移的产生。反观其他采用传统导电材料层(例如ITO)的感测器，因不会有金属离子迁移的问题，因此在光学胶的设置上不需也不会特别与导电材料层进行匹配。换言之，光学胶层13与金属纳米线层12匹配，是指光学胶层13所选用的光学胶性质是配合金属纳米线层12的金属纳米线材质，以控制水含量保持在金属离子的电解临界
值以下，以有效减少金属离子迁移的产生。
[0026]在一些实施例中，光学胶层13的厚度可为介于25至250微米，较佳地是介于50至150微米。光学胶层13的材料可选自以下光学胶材料：非紫外光固化的压克力胶系及橡胶系，其中由所述非紫外光固化的压克力胶系材料制成的光学胶层13具有介电常数(频率100KHz)小于4(优选小于3)、吸水率(WA％)小于0.3(优选小于0.25)且水气穿透率(38℃/90％RH)小于400g/m2/day的性质，也就是说在温度38℃、相对湿度90％的环境下量测的水气穿透率(Water vapor transmission rate，简称WVTR)小于每天(24小时)每平方公尺400克；由所述橡胶系材料制成的光学胶层13具有介电常数(频率100KHz)小于4(优选小于3)、吸水率(WA％)小于0.3(优选小于0.25)且水气穿透率(38℃/90％RH)小于100g/m2/day的性质。在一实施例中，光学胶层13优选是采用橡胶系材料制成的光学胶。
[0027]在本实施例中，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种薄膜感测器，其特征在于：包含：基材；金属纳米线层，形成于所述基材上，并且包含相互间隔排列的多个电极线；及光学胶层，形成于所述金属纳米线层上，并且匹配所述金属纳米线层，以在高温高湿(65℃/90％RH/DC 5V/240小时)的耐候试验下，所述电极线的线阻变化率小于10％，并且相邻的两个所述电极线之间的绝缘阻抗大于300MΩ。2.根据权利要求1所述薄膜感测器，其特征在于：所述光学胶层选自以下光学胶材料制成：非紫外光固化的压克力胶系及橡胶系，其中由所述非紫外光固化的压克力胶系材料制成的光学胶层具有介电常数(频率100KHz)小于4、吸水率(WA％)小于0.3且水气穿透率(38℃/90％RH)小于400g/m2/day的性质；由所述橡胶系材料制成的光学胶层具有介电常数(频率100KHz)小于4、吸水率(WA％)小于0.3且水气穿透率(38℃/90％RH)小于100g/m2/day的性质。3.根据权利要求2所述薄膜感测器，其特征在于：所述光学胶层的厚度介于25至250微米。4.根据权利要求1所述薄膜感测器，其特征在于：所述金属纳米线层进一步包括多个填充于所述电极线之间的绝缘部。5.根据权利要求4所述薄膜感测器，其特征在于：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁紫君，陳煌，徐云国，蔡利煌，吕力鍀，
申请(专利权)人：宸美厦门光电有限公司，
类型：发明
国别省市：