本实用新型专利技术公开了一种磁流变抛光液在线匀化装置，涉及光学元件抛光加工领域，包括底板，底板的顶部两侧均安装有气缸，两个气缸的输出端均通过活塞杆安装有连接板，两个连接板之间固定有活动柱，活动柱的两侧通过螺栓安装有第一桨叶。本实用新型专利技术通过设置有清液组件，当活动柱上移后，由于清液环与活动柱的外壁相接触，使得清液环能够刮除掉活动柱表面附着的抛光液，避免大量的抛光液被活动柱带出而掉落至装置外部，进而减少抛光液的浪费，同时活动柱上移带动第一桨叶和第二桨叶上移，而当第一桨叶或第二桨叶与清液环相接触时，使用者通过拉动拉杆，以使活动板带动连杆移动，而连杆移动后可带动清液环移动，以使清液环不与活动柱表面相接触。表面相接触。表面相接触。
【技术实现步骤摘要】
一种磁流变抛光液在线匀化装置
[0001]本技术涉及光学元件抛光加工领域，具体为一种磁流变抛光液在线匀化装置。
技术介绍
[0002]磁流变抛光技术被誉为光学制造界的革命性技术，它利用磁流变抛光液的可控流变性实现对工件材料的精确微量确定性去除，能高效率获得数十纳米以下高精度型面、纳米级表面质量且近无亚表面缺陷，很好地满足航天、航空和国防等领域光学元件的加工要求。
[0003]根据公开号为CN105642143B的中国专利公开了一种磁流变抛光液在线匀化装置，该专利技术能够实现磁流变抛光液各组份匀化，解决磁流变抛光液长时间工作沉降问题，适用于高、低粘度宽范围磁流变抛光液的在线匀化；但由于该装置中的传送泵体位于储液罐内部，并浸泡于抛光液内部，使得传送泵体表面会附着有较多的抛光液，导致在取出传送泵体时，少部分抛光液会被带出进而会掉落至装置外部，从而造成抛光液的浪费；同时该装置中只有转轴支撑放置座和储液罐转动，而由于储液罐有一定重量，使得储液罐转动时转轴难以对其起到稳定支撑的作用，进而降低了储液罐转动时的稳定性。
技术实现思路
[0004]基于此，本技术的目的是提供一种磁流变抛光液在线匀化装置，以解决不便清理传送泵体表面附着的抛光液与储液罐转动时的稳定性较差的技术问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种磁流变抛光液在线匀化装置，包括底板，所述底板的顶部两侧均安装有气缸，两个所述气缸的输出端均通过活塞杆安装有连接板，两个所述连接板之间固定有活动柱，所述活动柱的两侧通过螺栓安装有第一桨叶，所述活动柱的底端通过螺栓安装有第二桨叶，所述底板的顶部中间位置处安装有电机，所述电机的输出端连接有放置座，所述放置座的内部设置有储液罐，且所述储液罐与放置座分体设置，所述放置座的底部设置有支撑组件，所述储液罐的顶部设置有清液组件。
[0006]通过采用上述技术方案，气缸工作可使活塞杆伸长或收缩进而可带动连接板上下移动，连接板上下移动后可带动活动柱上下移动，同时电机工作后可带动放置座转动，继而可带动储液罐转动，而第一桨叶和第二桨叶可对抛光液进行搅动。
[0007]进一步的，所述清液组件包括有开设于储液罐顶部两侧的凹槽，两个所述凹槽的内部均固定有弹簧，所述弹簧的一端连接有滑板，所述滑板的顶部固定有活动板，所述活动板的一侧安装有拉杆，所述活动板的另一侧安装有连杆，所述连杆的一端固定有清液环。
[0008]通过采用上述技术方案，使用者通过拉杆带动活动板移动，进而可使滑板在凹槽内部滑动，同时连杆会带动清液环移动，以便调整清液环的位置。
[0009]进一步的，两个所述清液环均为半圆形，所述清液环的直径与活动柱的直径相同，所述清液环的内壁与活动柱的外壁相接触。
[0010]通过采用上述技术方案，可使清液环对活动柱表面的抛光液进行清除，从而避免大量的抛光液被活动柱带出而造成浪费。
[0011]进一步的，所述活动板通过滑板与凹槽滑动连接，所述弹簧采用不锈钢材料制作而成。
[0012]通过采用上述技术方案，以便滑板在凹槽内部滑动，而滑板移动时可带动活动板移动，同时其可挤压或拉伸弹簧。
[0013]进一步的，所述支撑组件包括有开设于底板顶部的滑动槽、安装于放置座底部两侧的支撑杆和开设于储液罐底部两侧的定位孔，所述支撑杆的底端固定有旋转球，所述放置座的内部下方固定有延伸至定位孔内部的定位柱。
[0014]通过采用上述技术方案，放置座转动时可带动支撑杆转动，而支撑杆转动后可带动旋转球转动，支撑杆转动时可对放置座和储液罐起到支撑作用，进而提高了储液罐转动时的稳定性。
[0015]进一步的，所述旋转球位于滑动槽的内部，所述旋转球与滑动槽滑动连接，所述定位孔与定位柱相适配。
[0016]通过采用上述技术方案，以便旋转球在滑动槽内部滑动，同时定位柱伸入至定位孔内部后，方便对储液罐进行限位。
[0017]进一步的，所述储液罐的顶部中间位置处开设有通孔，所述通孔的直径大于两个第二桨叶间的间距。
[0018]通过采用上述技术方案，以便活动柱能够通过通孔进入至储液罐的内部，同时第二桨叶也能够通过通孔。
[0019]综上所述，本技术主要具有以下有益效果：
[0020]1、本技术通过设置有清液组件，当活动柱上移后，由于清液环与活动柱的外壁相接触，使得清液环能够刮除掉活动柱表面附着的抛光液，避免大量的抛光液被活动柱带出而掉落至装置外部，进而减少抛光液的浪费，同时活动柱上移带动第一桨叶和第二桨叶上移，而当第一桨叶或第二桨叶与清液环相接触时，使用者通过拉动拉杆，以使活动板带动连杆移动，而连杆移动后可带动清液环移动，以使清液环不与活动柱表面相接触，当第一桨叶上移后再松开拉杆，此时连杆会带动清液环复位，并再次贴合于活动柱的表面，进而可对活动柱表面的抛光液进行清理；
[0021]2、本技术通过设置有支撑组件，当放置座转动时其会带动支撑杆转动，支撑杆转动后可带动旋转球转动，以使旋转球在滑动槽内部滑动，而支撑杆则会一直对放置座和储液罐起到支撑作用，从而提高了储液罐转动时的稳定性，同时由于定位柱卡入至定位孔内部后，可对储液罐进行限位，防止储液罐随意晃动，使得储液股能够一直随着放置座转动。
附图说明
[0022]图1为本技术的底板立体结构示意图；
[0023]图2为本技术的底板正剖结构示意图；
[0024]图3为本技术的图2中A处的放大图；
[0025]图4为本技术的图2中处B的放大图。
[0026]图中：1、底板；2、气缸；3、活塞杆；4、连接板；5、活动柱；6、第一桨叶；7、第二桨叶；8、放置座；9、清液组件；901、凹槽；902、弹簧；903、滑板；904、活动板；905、连杆；906、清液环；907、拉杆；10、储液罐；11、通孔；12、支撑组件；1201、支撑杆；1202、旋转球；1203、滑动槽；1204、定位柱；1205、定位孔；13、电机。
具体实施方式
[0027]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0028]下面根据本技术的整体结构，对其实施例进行说明。
[0029]一种磁流变抛光液在线匀化装置，如图1
‑
2所示，包括底板1，底板1的顶部两侧均安装有气缸2，两个气缸2的输出端均通过活塞杆3安装有连接板4，两个连接板4之间固定有活动柱5，气缸2工作可使活塞杆3伸长或收缩进而可带动连接板4上下移动，连接板4上下移动后可带动活动柱5上下移动，活动柱5的两侧通过螺栓安装有第一桨叶6，活动柱5的底端通过螺栓安装有第二桨叶7，底板1的顶部中间位置处安装有电机13，电机13的输出端连接有放置座8，放置座8的内部设置有储液罐10，电机13工作后可带动放置座8转动，继而可带本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种磁流变抛光液在线匀化装置，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的顶部两侧均安装有气缸(2)，两个所述气缸(2)的输出端均通过活塞杆(3)安装有连接板(4)，两个所述连接板(4)之间固定有活动柱(5)，所述活动柱(5)的两侧通过螺栓安装有第一桨叶(6)，所述活动柱(5)的底端通过螺栓安装有第二桨叶(7)，所述底板(1)的顶部中间位置处安装有电机(13)，所述电机(13)的输出端连接有放置座(8)，所述放置座(8)的内部设置有储液罐(10)，且所述储液罐(10)与放置座(8)分体设置，所述放置座(8)的底部设置有支撑组件(12)，所述储液罐(10)的顶部设置有清液组件(9)。2.根据权利要求1所述的一种磁流变抛光液在线匀化装置，其特征在于：所述清液组件(9)包括有开设于储液罐(10)顶部两侧的凹槽(901)，两个所述凹槽(901)的内部均固定有弹簧(902)，所述弹簧(902)的一端连接有滑板(903)，所述滑板(903)的顶部固定有活动板(904)，所述活动板(904)的一侧安装有拉杆(907)，所述活动板(904)的另一侧安装有连杆(905)，所述连杆(905)的一端固定有清液环(906)。3.根据权利要求2所述的一种磁流变抛光液在线匀化装置，其特征在于：两...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖志宏，解滨，
申请(专利权)人：日禺光学科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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