一种成像仪及成像系统技术方案

本公开实施例提供了一种成像仪及成像系统，该成像仪包括底座，底座上开设有球面凹槽；旋转球，旋转球的一部分置于球面凹槽内，旋转球内具有容纳腔体；镜片，镜片固定于旋转球上，且镜片位于球面凹槽外；磁体，磁体固定于容纳腔体内；多个第一电磁铁，多个第一电磁铁分布于球面凹槽的内壁；控制器，控制器配置为控制任意一个或多个第一电磁铁产生与磁体的磁极相吸引的磁力，以通过磁力带动旋转球转动。以通过磁力带动旋转球转动。以通过磁力带动旋转球转动。

【技术实现步骤摘要】
一种成像仪及成像系统


[0001]本公开涉及显示
，特别是涉及一种成像仪及成像系统。

技术介绍

[0002]微镜成像仪在光学传感、激光雷达、3D摄像头、条形码扫描、激光打印机、医疗成像等领域得到广泛应用。此外，微镜成像仪还可以应用于数字显示，例如高清电视、激光微投影、数字影院、汽车抬头显示(HUD)、激光键盘、增强现实(AR)等。
[0003]相关技术中，微镜成像仪包括尺寸在微米量级或纳米量级的微镜组件，通过MEMS(Micro
‑
Electro
‑
Mechanical System，微机电系统)对微镜组件施加机械力或电场力可使微镜组件中的镜片转动，从而对入射至镜片的激光进行调整而用于成像。微镜成像仪中的微镜组件的镜片与旋转轴的一端连接，且镜片在机械力或电场力的作用下相对于旋转轴转动，这使得镜片仅由旋转轴支撑，使得微镜组件的稳定性较差，进而使得成像仪的稳定性较差。

技术实现思路

[0004]本公开实施例的目的在于提供一种成像仪及成像系统，以提高成像仪的稳定性。具体技术方案如下：
[0005]本公开实施例的一方面提供了一种成像仪，所述成像仪包括：
[0006]底座，所述底座上开设有球面凹槽；
[0007]旋转球，所述旋转球的一部分置于所述球面凹槽内，所述旋转球内具有容纳腔体；
[0008]镜片，所述镜片固定于所述旋转球上，且所述镜片位于所述球面凹槽外；
[0009]磁体，所述磁体固定于所述容纳腔体内；
[0010]多个第一电磁铁，所述多个第一电磁铁分布于所述球面凹槽的内壁；
[0011]控制器，所述控制器配置为控制任意一个或多个第一电磁铁产生与所述磁体的磁极相吸引的磁力，以通过所述磁力带动所述旋转球转动。
[0012]一些实施例中，所述磁体为电磁铁。
[0013]一些实施例中，所述第一电磁铁包括铁芯和套设在所述铁芯上的线圈，所述铁芯位于所述旋转球的中心，且所述铁芯的轴线垂直于所述镜片。
[0014]一些实施例中，所述旋转球的外侧表面具有至少两个导电区，所述至少两个导电区之间具有绝缘区，所述磁体通过所述至少两个导电区与所述控制器电连接。
[0015]一些实施例中，所述成像仪还包括至少两个导电结构，每一导电结构包括：
[0016]导电球，所述导电球与一个导电区接触；
[0017]导电杆，所述导电杆一端与所述底座固定连接，另一端与所述导电球连接，所述导电球可绕所述导电杆的轴线转动，且所述导电杆与所述控制器电连接。
[0018]一些实施例中，所述成像仪包括四个导电结构，所述四个导电结构固定于所述底座上且沿所述球面凹槽的槽口的四周均匀排布；
[0019]所述旋转球的外侧表面具有四个导电区，每相邻两个导电区之间均具有所述绝缘区，每一导电结构的导电球与一个导电区接触。
[0020]一些实施例中，还包括至少一个绝缘小球，所述至少一个绝缘小球位于所述旋转球与所述球面凹槽的内壁之间，且所述绝缘小球的直径大于所述多个第一电磁铁的靠近所述旋转球的一侧与所述球面凹槽的内壁之间的距离。
[0021]一些实施例中，所述成像仪还包括有机膜层，所述有机膜层覆盖所述球面凹槽的内壁的除所述多个第一电磁铁外的其他区域，且所述有机膜层的厚度等于所述多个第一电磁铁的靠近所述旋转球的一侧与所述球面凹槽的内壁之间的距离。
[0022]一些实施例中，所述成像仪还包括支撑杆，所述支撑杆位于所述球面凹槽外，所述支撑杆的一端与旋转球固定连接，所述支撑杆的另一端与所述镜片的中心固定连接；或
[0023]所述镜片的平面形状为圆形。
[0024]本公开实施例的另一方面提供了一种成像系统，所述成像系统包括至少一个前述任一所述的成像仪，所述成像系统还包括控制单元，所述控制单元与所述多个成像仪的控制器连接。
[0025]本公开实施例有益效果：
[0026]本公开实施例提供的一种成像仪及成像系统，该成像仪包括底座、旋转球、镜片、磁体、多个第一电磁铁及控制器。其中，旋转球的一部分放置于底座上的球面凹槽内，且旋转球可相对于球面凹槽转动。本公开实施例提供的成像仪中，控制器可控制一个或多个第一电磁铁通电，以使第一电磁铁产生磁场，且使磁体远离镜片的一侧的磁极与第一电磁铁的靠近旋转球的一侧的磁极的极性相反。基于此，磁体的远离镜片的一侧在磁场所产生的吸附力的作用下向第一电磁铁处移动，从而带动旋转球在球面凹槽内旋转，进而带动与旋转球固定连接的镜片旋转，以对入射至镜片表面的光线进行调节，光线经由镜片反射后映射至成像面上实现成像。本公开实施例提供的成像仪中，旋转球的一部分放置于底座上的球面凹槽中，当需要调节入射至镜片表面的光线时，旋转球在磁场的作用下相对于球面凹槽旋转，底座可对旋转球起支撑及限位作用，提高了成像仪的稳定性。
[0027]当然，实施本公开的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
[0028]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的实施例。
[0029]图1为本公开一些实施例的一种成像仪的一种结构示意图；
[0030]图2为本公开一些实施例的一种成像仪的一种俯视图；
[0031]图3为本公开一些实施例的一种成像仪的另一种结构示意图；
[0032]图4为本公开一些实施例的一种成像系统的一种结构示意图。
具体实施方式
[0033]下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员基于本申请所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
[0034]为提高成像仪的稳定性，本公开实施例提供了一种成像仪及成像系统，下面将结合附图对本公开实施例提供的成像仪及成像系统进行详细说明。
[0035]如图1所示，本公开实施例提供的成像仪100包括：
[0036]底座1，底座1上开设有球面凹槽11；
[0037]旋转球2，旋转球2的一部分置于球面凹槽11内，旋转球2内具有容纳腔体；
[0038]镜片3，镜片3固定于旋转球2上，且镜片3位于球面凹槽11外；
[0039]磁体4，磁体4固定于容纳腔体内；
[0040]多个第一电磁铁5，多个第一电磁铁5分布于球面凹槽11的内壁；
[0041]控制器，控制器配置为控制任意一个或多个第一电磁铁5产生与磁体4的磁极相吸引的磁力，以通过磁力带动旋转球2转动。
[0042]本公开实施例中，旋转球2置于球面凹槽11内，底座1用于支撑旋转球2，且旋转球2在磁场力、电场力等的作用下可相对于球面凹槽1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种成像仪，其特征在于，包括：底座，所述底座上开设有球面凹槽；旋转球，所述旋转球的一部分置于所述球面凹槽内，所述旋转球内具有容纳腔体；镜片，所述镜片固定于所述旋转球上，且所述镜片位于所述球面凹槽外；磁体，所述磁体固定于所述容纳腔体内；多个第一电磁铁，所述多个第一电磁铁分布于所述球面凹槽的内壁；控制器，所述控制器配置为控制任意一个或多个第一电磁铁产生与所述磁体的磁极相吸引的磁力，以通过所述磁力带动所述旋转球转动。2.根据权利要求1所述的成像仪，其特征在于，所述磁体为电磁铁。3.根据权利要求2所述的成像仪，其特征在于，所述磁体包括铁芯和套设在所述铁芯上的线圈，所述铁芯位于所述旋转球的中心，且所述铁芯的轴线垂直于所述镜片。4.根据权利要求2所述的成像仪，其特征在于，所述旋转球的外侧表面具有至少两个导电区，所述至少两个导电区之间具有绝缘区，所述磁体通过所述至少两个导电区与所述控制器电连接。5.根据权利要求4所述的成像仪，其特征在于，所述成像仪还包括至少两个导电结构，每一导电结构包括：导电球，所述导电球与一个导电区接触；导电杆，所述导电杆一端与所述底座固定连接，另一端与所述导电球连接，所述导电球可绕所述导电杆的轴线转动，且所述导电杆与所述控制器电连接。6.根据权利要求5...

【专利技术属性】
技术研发人员：褚博华，杨宏建，张奇峰，陈华斌，董懿嘉，
申请(专利权)人：北京京东方显示技术有限公司，
类型：新型
国别省市：