一种纳米薄膜制备及化学状态测试系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种纳米薄膜制备及化学状态测试系统，系统包括制备室以及与制备室连接的分析室，制备室和分析室均为真空，且制备室的真空度小于分析室的真空度；制备室内具有氩离子枪和制备平台；分析室内具有X射线光电子能谱分析仪，X射线光电子能谱分析仪用于对制备室制备得到的薄膜材料的表面原子进行化学状态测试；系统还包括设置在制备室和分析室内的样品输送装置，样品输送装置用于将制备室制备得到的薄膜材料输送至分析室内。本方案中制备的薄膜材料不会经历空气的曝光，不需要用Ar离子枪把薄膜材料表面的氧化层蚀刻掉，从而避免薄膜材料中电子结合能的变化，因此可以提高薄膜材料的表面原子的化学状态的测试的准确度。准确度。准确度。

【技术实现步骤摘要】
一种纳米薄膜制备及化学状态测试系统


[0001]本技术涉及纳米薄膜
，特别涉及一种纳米薄膜制备及化学状态测试系统。

技术介绍

[0002]X射线光电子能谱(XPS)仪器可以测试纳米薄膜材料中原子的化学状态。目前，先利用真空镀膜设备制备薄膜，制备完毕后将制备的薄膜从真空室取出，再将制备的薄膜材料送往XPS仪器中进行化学状态测试。但是薄膜材料从真空镀膜设备中取出再送往XPS仪器的过程中，薄膜材料会暴露在空气中一段时间，所以会导致薄膜材料表面氧化。这样的话，在利用XPS仪器测试薄膜材料中原子的化学状态之前，通常先用XPS仪器中的Ar离子枪把薄膜材料表面的氧化层蚀刻掉，然后再进行XPS测试。但是Ar离子蚀刻会带来一个问题，由于Ar离子蚀刻过程中，离子能量较高，可能会引起薄膜材料中电子结合能的变化，因此测试的薄膜材料的表面原子的化学状态可能不准确。

技术实现思路

[0003]本技术提供一种纳米薄膜制备及化学状态测试系统，使得薄膜材料不必暴露在空气中，提高对薄膜材料的表面原子的化学状态测试的准确度。
[0004]为解决上述问题，本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种纳米薄膜制备及化学状态测试系统，其特征在于，包括制备室以及与所述制备室连接的分析室，所述制备室和所述分析室均为真空，且所述制备室的真空度小于所述分析室的真空度；其中：所述制备室内具有氩离子枪和制备平台，所述制备平台包括衬托、基片和样品托，所述衬托包括第一衬托以及与所述第一衬托连接的第二衬托，所述第二衬托水平设置，所述第一衬托与所述第二衬托之间呈第一预设角度，所述基片固定于所述第一衬托上，所述样品托固定于所述第二衬托上；所述样品托上用于放置靶材，所述基片用于吸收所述靶材在被刻蚀过程中溅射出来的靶材原子；所述氩离子枪用于喷射氩离子对设置在所述样品托上的靶材进行刻蚀，得到薄膜材料；所述氩离子枪的氩离子喷射方向与水平方向呈第二预设角度；所述第一预设角度和所述第二预设角度用于使因所述氩离子枪的刻蚀操作而溅射下来的靶材原子能够沉积到所述基片上；所述分析室内具有X射线光电子能谱分析仪，所述X射线光电子能谱分析仪用于对所述制备室制备得到的薄膜材料的表面原子进行化学状态测试；所述系统还包括设置在所述制备室和所述分析室内的样品输送装置，所述样品输送装置用于将所述制备室制备得到的薄膜材料输送至所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：于泠然，徐秀兰，于广华，冯春，滕蛟，李明华，王学敏，
申请(专利权)人：广东麦格智芯精密仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：