便于样品测试的装置和方法制造方法及图纸

技术编号:31567168 阅读:45 留言:0更新日期:2021-12-25 11:04
一种培养皿,包括基底和盖。基底包括侧壁和凹形底板,侧壁和凹形底板限定在基底的顶端处敞开的第一内部体积。基底还包括在其底板和底端之间的环形边缘。盖包括侧壁和顶板,侧壁和顶板限定在盖的底端开口的第二内部体积。盖还包括从盖径向向外延伸的环形边缘。盖的侧壁的内表面被构造成用于可滑动地接纳于基底的侧壁的外表面周围,以在第一内部体积和第二内部体积彼此重叠的情况下围绕基底接合盖,从而限定由基底和盖的侧壁、底板和顶板界定的密封的组合的内部体积。的组合的内部体积。的组合的内部体积。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】便于样品测试的装置和方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年5月17日提交的美国临时专利申请No.62/849,509的优先权,该美国临时专利申请的全部内容通过引用的方式并入本文中。


[0003]本专利技术涉及样品测试,并且更具体地涉及便于针对微生物有机体测试样品(例如测试水样品或其它合适样品)的装置和方法。

技术介绍

[0004]细菌污染是世界上水媒感染从而导致胃肠炎、腹泻、痉挛、呕吐和发热的主要原因。在欠发达国家,这些感染每年杀死数百万人。
[0005]已经表明引起人类疾病的主要细菌水媒病原体包括:沙门氏菌属;志贺氏菌;弗氏菌;索氏菌;霍乱弧菌;钩端螺旋体属;小肠结肠炎耶尔森氏菌;土拉弗朗西斯菌;大肠杆菌;以及铜绿假单胞菌。
[0006]由于水作为自然资源的重要性和由水媒细菌引起的污染的影响,专门测试水样品中这些细菌的存在以确定污染的总体水平和潜伏致病微生物的可能性是重要的。

技术实现思路

[0007]根据本专利技术的方面提供一种包括盖和基底的培养皿。基底限定纵向轴线并且具有顶端和底端。该基底包括侧壁、底板和环形边缘。侧壁从基底的顶端朝基底的底端延伸。侧壁包括环形内表面和环形外表面。底板在设置在基底的顶端和底端之间的位置处由侧壁支撑。底板从侧壁的环形内表面径向地向内延伸,并朝基底的底端纵向延伸。底板具有面向基底的顶端的凹形表面和面向基底的底端的凸形表面。底板的凹形表面和侧壁的环形内表面限定在基底的顶端处敞开的第一内部体积。环形边缘在设置在底板和基底的底端之间的位置处从侧壁延伸。盖限定纵向轴线并且具有顶端和底端。盖包括从盖的顶端朝盖的底端延伸的侧壁。侧壁包括环形内表面和环形外表面。所述盖还包括在盖的顶端处设置在侧壁的顶部上的顶板。顶板限定底端的面向盖的内表面和顶端的面向盖的外表面。顶板的内表面和侧壁的环形内表面限定在盖的底端处敞开的第二内部体积。盖还包括从侧壁的环形外表面径向向外延伸的环形边缘。盖的侧壁的环形内表面被构造成用于可滑动地接纳在基底的侧壁的环形外表面周围,以使盖围绕基底接合,其中,第一内部体积和第二内部体积至少部分地彼此重叠,以限定由基底和盖的侧壁、底板和顶板界定的密封的组合内部体积。
[0008]在本专利技术的一个方面,基底由光学透明材料形成,并且盖由不透明材料形成。
[0009]在本专利技术的另一方面,基底由相对较硬的材料形成,并且盖由相对柔性的材料形成。
[0010]在本专利技术的又一方面,基底的环形边缘包括从侧壁径向向外延伸的径向部分和从侧壁纵向延伸到基底的底端的纵向部分。环形边缘包围圆柱形体积。
[0011]在本专利技术的又一方面,盖的环形边缘的外径大于顶板的外径,以在盖的环形边缘的顶部上并且在顶板周围限定环形凹部。
[0012]在本专利技术的又一方面,顶板被构造成容纳于基底的环形边缘的纵向部分的圆柱形体积内,其中,基底的环形边缘的纵向部分设置在盖的环形凹部中,以将基底堆叠在盖上。
[0013]在本专利技术的另一方面,盖的侧壁的环形内表面以第一角度设置,并且基底的侧壁的环形外表面以不同于第一角度的第二角度设置。
[0014]在本专利技术的另一方面,盖和基底的环形边缘限定手指握持部,该手指握持部构造成便于盖和基底的操作、接合和脱离。
[0015]在本专利技术的又一方面,在触底状态下,对应于盖围绕基底的完全接合位置,基底的侧壁抵接盖的顶板和/或盖的侧壁抵接基底的环形边缘。
[0016]在本专利技术的又一方面,在触底状态下,对应于盖围绕基底的完全接合位置,基底的侧壁抵接盖的顶板,并且盖的侧壁与基底的环形边缘间隔开。
[0017]根据本专利技术的各个方面提供的另一种培养皿包括基底和盖。基底限定纵向轴线并且具有顶端和底端。该基底还包括侧壁和底板,该侧壁包括环形内表面和环形外表面,该底板在设置在基底的顶端和底端之间的位置处由侧壁支撑。盖限定纵向轴线并且具有顶端和底端。盖包括侧壁和顶板,侧壁包括环形内表面和环形外表面,并且顶板在盖的顶端处设置在侧壁的顶部上。基底或盖中的一个限定相对较硬的构造,而基底或盖中的另一个限定相对柔性的构造。盖的侧壁的环形内表面被构造成可滑动地接纳在基底的侧壁的环形外表面周围。基底或盖中的相对柔性的一个被构造成挠曲以能够围绕基底的侧壁的环形外表面可滑动地接纳盖的侧壁的环形内表面,并且围绕基底密封地接合盖。
[0018]在本专利技术的一个方面,基底限定相对较硬的构造,并且盖限定相对柔性的构造。在这样的实施例中,基底可以由硬聚苯乙烯形成和/或盖可以由低密度聚乙烯形成。
[0019]在本专利技术的又一方面,基底和/或盖由具有较高的氧气透过率和较低的水蒸气透过率的材料形成。
[0020]在本专利技术的又一方面,基底和/或盖包括从其各自的侧壁延伸的环形边缘。环形边缘限定手指握持部,该手指握持部被构造成便于基底和/或盖的操作、接合和脱离。
[0021]在本专利技术的又一方面,基底包括从其侧壁延伸的环形边缘,并且盖的顶板被构造成至少部分地接纳在基底的环形边缘内,以将基底堆叠在盖上。
[0022]根据本专利技术的各个方面,还提供一种确定样品中微生物有机体的存在或不存在的方法。该方法包括获得培养皿。培养皿可以包括上文或本文中另外详述的培养皿的任何或所有特征。在各个方面,培养皿包括基底和盖。该基底包括侧壁和由侧壁支撑的底板。底板具有面向基底的开口顶端的凹形表面和面向基底的底端的凸形表面。盖包括侧壁和在盖的顶端处设置在侧壁的顶部上的顶板。顶板限定面向盖的底端的内表面和面向盖的顶端的外表面。盖围绕基底接合,其中,盖的侧壁的环形内表面围绕基底的侧壁的环形外表面设置,以限定由基底和盖的侧壁、底板和顶板界定的密封的内部体积。
[0023]该方法还包括:使盖与基底脱离;将样品倾倒至基底中,使得样品分布在基底的凹形表面上;使盖相对于基底接近使得盖的侧壁的环形内表面滑动至围绕基底的侧壁的环形外表面密封接合,以将样品密封地封闭在密封的内部体积内;培育培养皿;以及对在所述密封的内部体积内形成的任何细菌菌落进行计数。
[0024]在本专利技术的一个方面,在将样品倾倒到基底中之前,将生长培养基设置在基底内或引入基底中。
[0025]在本专利技术的另一方面,倾倒样品包括:将样品倾倒在生长培养基上。
[0026]在本专利技术的又一方面,对任何细菌菌落进行计数包括:透过基底观察并利用盖作为背景。
[0027]在本专利技术的又一方面,当盖的侧壁的环形内表面滑动至围绕基底的侧壁的环形外表面密封地接合时,盖的侧壁被挠曲。
[0028]在本专利技术的又一方面,盖的侧壁的环形内表面以第一角度设置,而基底的侧壁的环形外表面以不同的第二角度设置,使得随着盖的侧壁的环形内表面逐渐滑动到围绕侧壁的环形外表面密封接合,它们之间的接合强度逐渐增加。
[0029]在本专利技术的另一方面,培育培养皿包括:允许氧气透过盖或基底中的至少一个进入密封的内部体积中,并且抑制水蒸气从密封的内部体积透过盖或基底。
[0030]在本发本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种培养皿,包括:基底,所述基底限定纵向轴线并且具有顶端和底端,所述基底包括:侧壁,所述侧壁从所述基底的顶端朝所述基底的底端延伸,所述侧壁包括环形内表面和环形外表面;底板,所述底板在设置在所述基底的顶端和底端之间的位置处由所述侧壁支撑,所述底板从所述侧壁的环形内表面径向地向内延伸并且纵向地朝所述基底的底端延伸,所述底板具有面向所述基底的顶端的凹形表面和面向所述基底的底端的凸形表面,其中,所述底板的凹形表面和所述侧壁的环形内表面限定第一内部体积,所述第一内部体积在所述基底的顶端处敞开;以及环形边缘,所述环形边缘在设置在所述基底的所述底板与所述底端之间的位置处从所述侧壁延伸;以及盖,所述盖限定纵向轴线并且具有顶端和底端,所述盖包括:侧壁,所述侧壁从所述盖的顶端朝所述盖的底端延伸,所述侧壁包括环形内表面和环形外表面;顶板,所述顶板在所述盖的顶端处设置在侧壁的顶部上,所述顶板限定面向所述盖的底端的内表面和面向所述盖的顶端的外表面,其中,所述顶板的所述内表面和所述侧壁的环形内表面限定第二内部体积,所述第二内部体积在所述盖的底端处敞开;以及环形边缘,所述环形边缘从所述侧壁的环形外表面径向地向外延伸,其中,所述盖的侧壁的环形内表面被构造成能够滑动地接纳于所述基底的侧壁的环形外表面周围,以使所述盖围绕所述基底接合,其中,所述第一内部体积和所述第二内部体积至少部分地彼此重叠,以限定由所述基底的侧壁和所述盖的侧壁、所述底板和所述顶板界定的密封的组合的内部体积。2.根据权利要求1所述的培养皿,其中,所述基底由光学透明的材料形成,并且所述盖由不透明的材料形成。3.根据权利要求1所述的培养皿,其中,所述基底由相对较硬的材料形成,并且所述盖由相对柔性的材料形成。4.根据权利要求1所述的培养皿,其中,所述基底的环形边缘包括从所述侧壁径向地向外延伸的径向部分和从所述侧壁纵向延伸到所述基底的底端的纵向部分,所述环形边缘包围圆柱形体积。5.根据权利要求4所述的培养皿,其中,所述盖的环形边缘的外径大于所述顶板的外径,以在所述盖的环形边缘的顶部和所述顶板的周围限定环形凹部。6.根据权利要求5所述的培养皿,其中,所述顶板被构造成用于被接纳于所述基底的环形边缘的纵向部分的所述圆柱形体积内,其中,所述基底的环形边缘的纵向部分被设置在所述盖的环形凹部内,以将所述基底堆叠在所述盖上。7.根据权利要求1所述的培养皿,其中,所述盖的侧壁的环形内表面以第一角度设置,并且其中,所述基底的侧壁的环形外表面以不同于所述第一角度的第二角度设置。8.根据权利要求1所述的培养皿,其中,所述盖和所述基底的环形边缘限定手指握持部,所述手指握持部被构造成有利于对所述盖和所述基底的操作、接合和脱离。9.根据权利要求1所述的培养皿,其中,在对应于所述盖围绕所述基底的完全接合位置
的触底状态下,实现以下状态中的至少一个:所述基底的侧壁抵接所述盖的顶板,或者所述盖的侧壁抵接所述基底的环形边缘。10.根据权利要求1所述的培养皿,其中,在对应于所述盖围绕所述基底的完全接合位置的触底状态下,所述基底的侧壁抵接所述盖的顶板,并且所述盖的侧壁与所述基底的环形边缘间隔开。11.一种培养皿,包括:基底,所述基底限定纵向轴线并且具有顶端和底端,所述基底包括侧壁和底板,所述侧壁包括环形内表面和环形外表面,所述底板在设置在所述基底的顶端和底端之间的位置处由所述侧壁支撑;以及盖,所述盖限定纵向轴线并且具有顶端和底端,所述盖包括侧壁和顶板,侧壁包括环形内表面和环形外表面,所述顶板在所述盖的顶端处设置在侧壁的顶部上,其中,所述基底或所述盖中的一个限定相对较硬的构造,并且其中,所述基底或所述盖中的另一个限定相对柔性的构造,以及其中,所述盖的侧壁的环形内表面被构造成能够滑动地接纳于所述基底的侧壁的环形外表面周围,以围绕所述基底接合所述盖,并且其中,所述基底或所述盖中相对柔性的一个被构造成挠曲,以允许所述盖围绕所述基底滑动并且围绕所述基底密封接合所述盖。12.根据权利要求11所述的培养皿,其中,所述基底限定相对较硬的构造,并且所述盖限定相对柔性的构造。13.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:丹尼尔
申请(专利权)人:IDEXX实验室公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1