显影装置和光刻系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及显示技术领域，公开了一种显影装置和光刻系统，该光刻系统包括该显影装置，该显影装置在槽体中设置多个支撑组件，各支撑组件包括竖直设置的支撑轴和与支撑轴连接的支撑件，支撑组件的驱动端与控制单元的独立的驱动信号输出端连接，可独立控制各支撑组件的支撑件的上表面高度，对应调节放置在支撑件上表面的待处理玻璃基板的对应局部的水平高度。本实用新型专利技术提供的显影装置和光刻系统可调节待处理玻璃基板的不同位置的高度，使其在显影中可部分抬出显影液，进而调节不同部分的显影程度，根据光刻胶的特性对浸入显影液部分和未浸入显影液部分的刻印图形的线宽进行做大或做小补偿，调节不同部分的线宽的均一性，提高产品良率。提高产品良率。提高产品良率。

【技术实现步骤摘要】
显影装置和光刻系统


[0001]本技术涉及显示
，具体地，涉及显影装置和光刻系统。

技术介绍

[0002]液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称LCD)的显示面板一般在玻璃基板上设置薄膜晶体管阵列，每一个薄膜晶体管对应一个像素单元，通过控制薄膜晶体管的开关来控制对应像素单元是否接收对应的灰阶显示电压，来控制显示，即薄膜晶体管为液晶显示器的显示面板的主要控制器，薄膜晶体管的质量直接影响显示面板的良率，而光刻显影工艺是在玻璃基板上制造薄膜晶体管的一项重要的技术。
[0003]在光刻工艺中，玻璃基板在涂胶/显影机中经历了一系列的工艺步骤，包括：预处理玻璃基板，在玻璃基板的上表面涂胶、甩胶、烘焙(常称软烘)；通过设备内部的自动传送装置将玻璃基板在各操作位之间转移；通过另一套传送装置将经过涂胶处理的玻璃基板每次一片地送入对准与曝光系统；通过光刻机将特定掩膜的图形直接刻印在涂胶的玻璃基板上；曝光后的玻璃基板从曝光系统转移到玻璃基板轨道系统，在进行短时间的曝光后烘焙(常称后烘)，以提供光刻胶的粘附性并较少驻波；而后玻璃基板重新回到涂胶/显影机中，当用显影液喷到玻璃基板上时，图形显现出来(在正性光刻胶的曝光区和负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维刻印图形)；显影后的玻璃基板再次烘焙(常称硬烘)，而后进行测量，检测刻印图形的线宽(CD)是否得当，如有重大缺陷，可以将玻璃基板去胶然后返工。
[0004]故在常规的工艺流程中，玻璃基板经过涂胶、软烘、曝光、后烘、显影、硬烘、测量以后，就直接进行刻蚀或离子注入。
[0005]在目前的显示面板的制造过程中，显影后的玻璃基板存在线宽CPK(Complex Process Capability index，工序能力指标)不达标的问题，即线宽的均一性不好，影响最终产品的良率。
[0006]在现有技术中，主要通过调整掩膜厚度的均一性以及曝光机的曝光参数来改善线宽的均一性，但该手段的改善效果有限，实际效果不理想。

技术实现思路

[0007]鉴于上述问题，本技术的目的在于提供一种显影装置和光刻系统，从而实现对玻璃基板的局部显影补偿，改善线宽的均一性，提升产品良率。
[0008]根据本技术的一方面，提供一种显影装置，包括：
[0009]槽体，用于盛放显影液；
[0010]多个支撑组件，设置在所述槽体中，分布在待处理玻璃基板放置位范围内，每一个支撑组件均包括支撑轴和支撑件，所述支撑轴竖直设置在所述槽体中，所述支撑件与所述支撑轴连接，且可沿所述支撑轴的轴向往复移动，所述支撑件的上表面对应待处理玻璃基板放置位；
[0011]控制单元，包括与所述多个支撑组件的每一个的驱动端一一连接的多个独立的驱动信号输出端。
[0012]可选地，还包括：
[0013]显影液参数监控单元，设置在所述槽体的内壁。
[0014]可选地，所述显影液参数监控单元包括浓度传感器和析光度传感器中的至少一个。
[0015]可选地，所述多个支撑组件至少设置在待处理玻璃基板的放置位的边缘位置和中心位置。
[0016]可选地，所述控制单元还包括与所述显影液参数监控单元的显影液参数信号输出端连接的显影液参数信号输入端。
[0017]可选地，所述槽体还包括进液口和排液口，以及分别设置在所述进液口和所述排液口的进液控制器和排液控制器；
[0018]所述控制单元还包括连接至所述进液控制器的控制端和所述排液控制器的控制端的第一显影液更换控制信号输出端和第二显影液更换控制信号输出端。
[0019]可选地，所述显影装置还包括液面水平监测单元，包括实时液位信号输出端；
[0020]所述槽体还包括进液口和排液口，以及分别设置在所述进液口和所述排液口的进液控制器和排液控制器；
[0021]所述控制单元还包括预设液位信号输入端和与所述实时液位信号输出端连接的实时液位信号输入端。
[0022]可选地，还包括：
[0023]宽度量测装置，包括设置在所述槽体上方的摄像头和线宽数据处理单元，所述摄像头竖直朝向所述槽体中的待处理玻璃基板放置位，所述线宽数据处理单元的线宽信号输出端连接至所述控制单元的线宽信号输入端。
[0024]可选地，还包括：
[0025]摄像头移动轨道，固定设置在槽体上方，且覆盖面与所述待处理玻璃基板放置位的尺寸相匹配，所述摄像头可沿所述摄像头移动轨道移动。
[0026]根据本技术的另一方面，提供一种光刻系统，包括本技术提供的显影装置。
[0027]本技术提供的显影装置在槽体中设置多个支撑组件，各支撑组件包括竖直设置的支撑轴和与支撑轴连接的支撑件，各支撑组件的驱动端与控制单元的独立的多个驱动信号输出端一一连接，可独立的控制各支撑组件的支撑件沿支撑轴的轴向往复移动，控制各支撑件的上表面的高度，对应调节放置在支撑件上表面的待处理玻璃基板的对应局部的水平高度，可调节待处理玻璃基板的不同位置的高度，使其在显影中可部分抬出显影液，进而调节不同部分的显影程度，根据光刻胶的特性，对浸入显影液的部分和未浸入显影液的部分的刻印图形的线宽进行做大或做小补偿，调节不同部分的线宽的均一性，提高产品良率。
[0028]本技术提供的光刻系统包括本技术提供的显影装置，可实现对玻璃基板各部分的线宽补偿，提升线宽的均一性，提高产品良率。
附图说明
[0029]通过以下参照附图对本技术实施例的描述，本技术的上述以及其他目的、特征和优点将更为清楚，在附图中：
[0030]图1示出了根据本技术实施例的显影装置的结构示意图；
[0031]图2示出了根据本技术实施例的显影装置的支撑组件与待处理玻璃基板的配置示意图；
[0032]图3示出了根据本技术另一实施例的显影装置的结构示意图。
具体实施方式
[0033]以下将参照附图更详细地描述本技术的各种实施例。在各个附图中，相同的元件采用相同或类似的附图标记来表示。为了清楚起见，附图中的各个部分没有按比例绘制。
[0034]下面结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进一步详细描述。
[0035]图1示出了根据本技术实施例的显影装置的结构示意图。
[0036]参照图1，本技术实施例的显影装置100包括主要槽体110和设置在槽体110中的支撑组件120，以及图中未示出的控制单元。
[0037]槽体110设置进液口111和排液口112，实现显影液的提供和排出，以及控制其中的显影液的液位102，使其与待处理玻璃基板10的设置水平相当。在该显影装置100不工作或系统维护时通过排液口112排出其中的显影液。其中，显影液例如为四甲基氢氧化铵(TMAH)，待处理玻璃基板例如为液晶显示器的阵列基板，其尺寸可达到1300毫米至3000毫米，整体具有一定的韧性。
[0038]支撑组本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显影装置，其特征在于，包括：槽体，用于盛放显影液；多个支撑组件，设置在所述槽体中，分布在待处理玻璃基板放置位范围内，每一个支撑组件均包括支撑轴和支撑件，所述支撑轴竖直设置在所述槽体中，所述支撑件与所述支撑轴连接，且可沿所述支撑轴的轴向往复移动，所述支撑件的上表面对应待处理玻璃基板放置位；控制单元，包括与所述多个支撑组件的每一个的驱动端一一连接的多个独立的驱动信号输出端。2.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，还包括：显影液参数监控单元，设置在所述槽体的内壁。3.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，所述显影液参数监控单元包括浓度传感器和析光度传感器中的至少一个。4.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述多个支撑组件至少设置在待处理玻璃基板的放置位的边缘位置和中心位置。5.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，所述控制单元还包括与所述显影液参数监控单元的显影液参数信号输出端连接的显影液参数信号输入端。6.根据权利要求5所述的显影装置，其特征在于，所述槽体还包括进液口和...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪杰，杨莉，周汝树，
申请(专利权)人：昆山龙腾光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：