一种痕量元素X射线荧光测定方法及装置、电子设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种痕量元素X射线荧光测定方法、装置、电子设备及介质，所述方法包括：获取光谱仪采集标准物质获得的荧光光谱数据集，所述光谱仪的X光管与标准物质之间设置有一薄片，所述薄片为能抑制堆积脉冲的金属片；利用背景散射内标法对所述荧光光谱数据集进行处理；根据处理后的荧光光谱数据集与对应的标准物质痕量元素含量，建立基于标准物质的痕量元素的检测校准模型；将待测样品的荧光光谱数据输入到所述检测校准模型中，得到所述样品中所述痕量元素的含量。述痕量元素的含量。

【技术实现步骤摘要】
一种痕量元素X射线荧光测定方法及装置、电子设备


[0001]本申请涉及痕量元素检测领域，尤其涉及一种痕量元素X射线荧光测定方法及装置、电子设备。

技术介绍

[0002]公知的检测精痕量元素含量已经在直读光谱仪、辉光发电质谱仪、电感耦合等离子体质谱法等光谱技术中实现。
[0003]虽然这几种方法在合金中微量元素检测上精度、探测限以及灵敏度非常高，但是直读光谱仪采用棱镜和色散元件；辉光放电质谱法用辉光放电源作为离子源与质谱仪器联接进行质谱测定；电感耦合等离子体质谱法的进样系统非常严格，配备有真空装置。这些特点使这几种测量方法虽然可以实现检测痕量元素的目的，但是具备复杂检测系统、庞大的体积、检测流程复杂以及昂贵的价格等缺点。
[0004]X射线荧光法具有全谱、经济、便携等特点，研究该光谱仪检测物质中元素成分成为研究热点。在实现本专利技术的过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在堆积脉冲干扰、精度不高、背景高的问题。

技术实现思路

[0005]本申请实施例的目的是提供一种痕量元素X射线荧光测定方法及装置、电子设备，以解决本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种痕量元素X射线荧光测定方法，其特征在于，包括：获取光谱仪采集标准物质获得的荧光光谱数据集，所述光谱仪的X光管与标准物质之间设置有一薄片，所述薄片为能抑制堆积脉冲的金属片；利用背景散射内标法对所述荧光光谱数据集进行处理；根据处理后的荧光光谱数据集与对应的标准物质痕量元素含量，建立基于标准物质的痕量元素的检测校准模型；将待测样品的荧光光谱数据输入到所述检测校准模型中，得到所述样品中所述痕量元素的含量。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，利用背景散射内标法对所述荧光光谱数据集进行处理，包括：按照公式(1)，对所述荧光光谱数据集进行背景散射线内标法处理：式中x
new
是处理后的荧光光谱数据集，x
Kα
是所述荧光光谱数据集中的痕量元素特征峰的面积，x
background
是所述荧光光谱数据集中的背景的面积。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在建立基于标准物质的痕量元素的检测校准模型之后，还包括：对所述检测校准模型进行评估；根据所述评估的结果，判断所述检测校准模型是否合格；如果所述检测校准模型不合格，在对所述薄片的厚度、材质或者所述背景散射内标法的参数进行调整后，重新建立所述检测校准模型。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，对所述检测校准模型进行评估，包括：通过交叉验证、相对误差分析、确定系数计算、不确定度计算和检测限计算，对检测校准模型的量化能力进行评估。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述不确定度计算包括：按照公式(2)，对所述方法的不确定度u进行计算：其中k是构建检测校准曲线的斜率，x
Kα
是所述荧光光谱数据集中的痕量元素特征峰的面积，x
background
是所述荧光光谱数据集中用作背景散射线内标法的背景的面积...

【专利技术属性】
技术研发人员：郝军，李福生，江晓宇，王清亚，徐磊，陈凯伟，
申请(专利权)人：台州高视通智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：