X射线分析装置以及X射线分析方法制造方法及图纸

技术编号:31456272 阅读:32 留言:0更新日期:2021-12-18 11:22
本发明专利技术提供一种能够简单地对试样中的对象元素的价数进行分析的X射线分析装置以及X射线分析方法。X射线分析装置的信号处理装置的控制器(22)具备:存储部(306),对基于从金属的单体发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、从包含该金属的单体的2种以上的化合物各自发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、和2种以上的化合物各自的金属的价数而生成的校准曲线进行存储;处理部(302),获取从未知试样包含的金属中发射的Kα1射线的峰能量以及该金属的Kα2射线的峰能量;计算部(308),通过将获取到的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量应用至校准曲线,计算未知试样中包含的金属的平均价数。试样中包含的金属的平均价数。试样中包含的金属的平均价数。

【技术实现步骤摘要】
X射线分析装置以及X射线分析方法


[0001]本公开内容涉及一种X射线分析装置以及X射线分析方法。

技术介绍

[0002]已知通过对试样照射激发射线,从而确定该试样的价数的X射线分析装置。被激发射线照射的试样发出的特征X射线具有由该试样含有的原子所确定的波长。因此,X射线分析装置能够通过检测特征X射线的每个波长的强度,确定试样的价数。
[0003]原子具有多个电子壳(K壳、L壳以及M壳等),若对试样中含有的原子照射X射线,则通过该X射线的能量,内核的电子被激发。电子从该壳的外侧的壳(例如,L壳)向由于电子被激发而变空的壳(例如,K壳)转移。在电子从L壳向K壳转移的情况下发出的特征X射线被称为Kα射线,在电子从M壳向K壳转移的情况下发出的特征X射线被称为Kβ射线。
[0004]下述非专利文献1中公开了一种基于Kβ射线的峰能量检测试样的价数的X射线分析装置。在该X射线分析装置中,生成示出Kβ射线的峰能量和价数之间的关系的校准曲线,基于该校准曲线,检测试样的平均价数。
[0005]现有技术文献
[0006]非专利文献<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种X射线分析装置,其特征在于,具备:装置主体,具有对被照射激发射线的试样所发出的特征X射线进行分光从而检测每个波长的强度的分光器;信号处理装置,对由所述装置主体输出的信号进行处理,所述信号处理装置具有:存储部,存储基于从金属的单体发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、从包含所述金属且该金属的价数各自不同的2种以上的化合物各自发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、和所述2种以上的化合物各自的所述金属的价数而生成的校准曲线;运算部,构成为基于所述装置主体检测到的每个所述波长的强度,获取从未知试样中包含的所述金属发射的Kα1射线的峰能量以及从该金属发射的Kα2射线的峰能量,将获取到的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量应用至所述校准曲线,由此计算所述未知试样中包含的所述金属的平均价数。2.如权利要求1所述的X射线分析装置,其特征在于,所述校准曲线以y=px+q来表示,y是示出所述平均价数的变量,x是从所述金属发射的Kα1射线的峰能量减去对从所述金属发射的Kα2射线的峰能量乘以系数n的值而得的参数,所述信号处理装置基于从所述金属的单体发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、从所述2种以上的化合物各自所包含的所述金属发射的Kα1射线的峰能量及Kα2射线的峰能量、和所述2种以上的化合物各自所包含的所述金属的价数,计算斜率p、截距q以及系数n,由此生成校准曲线。3.如权利要求2所述的X射线分析装置,其特征在于,所述信号处理装置将X轴为所述参数、Y轴为所述平均价数的所述校准曲线显示在显示部。4.如权利要求2或者权利要求3所述的X射线分析装置,其特征在于,所述2种以上的化合物包含所述金属的价数彼此不同的3种以上的化合物,所述信号处理装置通过对从所述金属的单体发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、从所述3种以上的化合物各自的所述金属发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、所述3种以上的化合物各自所包含的所述金属的价数应用最小二乘法,计算斜率p、截距q以及系数n,从而生成所述校准曲线。5.如权利要求2或者权利要求3所述的X射线分析装置,其特征在于,所述2种以上的化合物包含所述金属的价数彼此不同的第1化合物以及第2化合物,在将从所述金属的单体发射的Kα1射线的峰能量设为m1、将从所述金属的单体发射的Kα2射线的峰能量设为m2、将所述第1化合物中包含的所述金属的价数设为v、将所述第2化合物中包含的所述金属的价数设为w、将从所述第1化合物中发射的Kα1射线的峰能量设为a1、将从所述第1化合物中发射的Kα2射线的峰能量设为a2、将从所述第2化合物中发射的Kα1射线的峰能量设为b1、
将从所述第2化合物中发射的Kα2射线的峰能量设为b2的情况下,所述信号处理装置通过使用n={(v

w)
·
m1

v
·
b1+w
·
a1}/{(v

w)
·
m2

v
·
b2+w

【专利技术属性】
技术研发人员:佐藤贤治
申请(专利权)人:株式会社岛津制作所
类型:发明
国别省市:

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