【技术实现步骤摘要】
X射线分析装置以及X射线分析方法
[0001]本公开内容涉及一种X射线分析装置以及X射线分析方法。
技术介绍
[0002]已知通过对试样照射激发射线,从而确定该试样的价数的X射线分析装置。被激发射线照射的试样发出的特征X射线具有由该试样含有的原子所确定的波长。因此,X射线分析装置能够通过检测特征X射线的每个波长的强度,确定试样的价数。
[0003]原子具有多个电子壳(K壳、L壳以及M壳等),若对试样中含有的原子照射X射线,则通过该X射线的能量,内核的电子被激发。电子从该壳的外侧的壳(例如,L壳)向由于电子被激发而变空的壳(例如,K壳)转移。在电子从L壳向K壳转移的情况下发出的特征X射线被称为Kα射线,在电子从M壳向K壳转移的情况下发出的特征X射线被称为Kβ射线。
[0004]下述非专利文献1中公开了一种基于Kβ射线的峰能量检测试样的价数的X射线分析装置。在该X射线分析装置中,生成示出Kβ射线的峰能量和价数之间的关系的校准曲线,基于该校准曲线,检测试样的平均价数。
[0005]现有技术文献
[0 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种X射线分析装置,其特征在于,具备:装置主体,具有对被照射激发射线的试样所发出的特征X射线进行分光从而检测每个波长的强度的分光器;信号处理装置,对由所述装置主体输出的信号进行处理,所述信号处理装置具有:存储部,存储基于从金属的单体发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、从包含所述金属且该金属的价数各自不同的2种以上的化合物各自发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、和所述2种以上的化合物各自的所述金属的价数而生成的校准曲线;运算部,构成为基于所述装置主体检测到的每个所述波长的强度,获取从未知试样中包含的所述金属发射的Kα1射线的峰能量以及从该金属发射的Kα2射线的峰能量,将获取到的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量应用至所述校准曲线,由此计算所述未知试样中包含的所述金属的平均价数。2.如权利要求1所述的X射线分析装置,其特征在于,所述校准曲线以y=px+q来表示,y是示出所述平均价数的变量,x是从所述金属发射的Kα1射线的峰能量减去对从所述金属发射的Kα2射线的峰能量乘以系数n的值而得的参数,所述信号处理装置基于从所述金属的单体发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、从所述2种以上的化合物各自所包含的所述金属发射的Kα1射线的峰能量及Kα2射线的峰能量、和所述2种以上的化合物各自所包含的所述金属的价数,计算斜率p、截距q以及系数n,由此生成校准曲线。3.如权利要求2所述的X射线分析装置,其特征在于,所述信号处理装置将X轴为所述参数、Y轴为所述平均价数的所述校准曲线显示在显示部。4.如权利要求2或者权利要求3所述的X射线分析装置,其特征在于,所述2种以上的化合物包含所述金属的价数彼此不同的3种以上的化合物,所述信号处理装置通过对从所述金属的单体发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、从所述3种以上的化合物各自的所述金属发射的Kα1射线的峰能量以及Kα2射线的峰能量、所述3种以上的化合物各自所包含的所述金属的价数应用最小二乘法,计算斜率p、截距q以及系数n,从而生成所述校准曲线。5.如权利要求2或者权利要求3所述的X射线分析装置,其特征在于,所述2种以上的化合物包含所述金属的价数彼此不同的第1化合物以及第2化合物,在将从所述金属的单体发射的Kα1射线的峰能量设为m1、将从所述金属的单体发射的Kα2射线的峰能量设为m2、将所述第1化合物中包含的所述金属的价数设为v、将所述第2化合物中包含的所述金属的价数设为w、将从所述第1化合物中发射的Kα1射线的峰能量设为a1、将从所述第1化合物中发射的Kα2射线的峰能量设为a2、将从所述第2化合物中发射的Kα1射线的峰能量设为b1、
将从所述第2化合物中发射的Kα2射线的峰能量设为b2的情况下,所述信号处理装置通过使用n={(v
‑
w)
·
m1
‑
v
·
b1+w
·
a1}/{(v
‑
w)
·
m2
‑
v
·
b2+w
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。