分析装置以及分析方法制造方法及图纸

本发明专利技术的分析装置能够以小型的装置检测试样的对象元素的价数以及该试样的结晶性。分析装置(100)具备配置试样S的试样支架(110)、对试样S照射X射线的X射线源(11)、检测因X射线的照射而从试样S发出的特征X射线的第1检测器(141)、检测由试样衍射的X射线的第2检测器(142)和信号处理装置(20)，信号处理装置(20)基于由第1检测器(141)检测的特征X射线，检测试样的对象元素的价数；基于由第2检测器(142)检测的X射线，检测所述试样的晶体信息。检测所述试样的晶体信息。检测所述试样的晶体信息。

【技术实现步骤摘要】
分析装置以及分析方法


[0001]本公开内容涉及一种分析装置以及分析方法。

技术介绍

[0002]例如，专利文献1中公开一种装置，使用大型辐射光设施SPring
‑
8中具备的辐射X射线光源，检测由试样发出的元素固有的特征X射线，由此检测试样中包含的元素所形成的化合物的电子结构等。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2002
‑
214165号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的技术问题
[0007]如果使用大型辐射光设施中具备的辐射X射线光源，则有可能能够同时检测出试样中包含的元素的价数以及试样的结晶性。此外，存在对于以小型的装置检测元素的价数以及试样的结晶性的需要。
[0008]本专利技术是为了解决这样的技术问题而完成的，其目的在于提供一种以小型的装置检测试样的对象元素的价数以及该试样的结晶性的技术。
[0009]用于解决上述技术问题的方案
[0010]本公开内容的分析装置具备：X本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种分析装置，其特征在于，具备：X射线源，对试样照射X射线；第1检测器，检测因X射线的照射而由所述试样发出的特征X射线；第2检测器，检测由所述试样衍射的X射线；信号处理装置，所述信号处理装置，基于由所述第1检测器检测的所述特征X射线，检测所述试样的对象元素的价数，基于由所述第2检测器检测的X射线，检测所述试样的晶体信息。2.如权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述信号处理装置同时执行检测所述试样的对象元素的价数的处理、和检测所述试样的晶体信息的处理。3.如权利要求2所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置进一步具备过滤器，比起第1范围的X射线，吸收比该第1范围大的第2范围的X射线要更多，来自所述X射线源的X射线通过所述过滤器而照射至所述试样。4.如权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述信号处理装置被控制为如下两种模式中的任一种：检测所述试样的对象元素的价数的第1模式、和检测所述试样的晶体信息的第2模式。5.如权利要求4所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置进一步具备过滤器，比起第1范围的X射线，吸收比该第1范围大的第2范围的X射线要更多，在所述第1模式中，X射线不通过所述过滤器而照射至所述试样，在所述第2模式中，X射线通过所述过滤器而照射至所述试样。6.如权利要求5所述的分析装置，其特征在于，进一步具备移动部，在被控制为所述第1模式时，将所述过滤器移动至X射线不通过的位置，在被控制为所述第2模式时，将所述过滤器移动至使X射线通过的位置。7.如权利要求4～权利要求6的任一项所述的分析装置，其特征在于，在所述第1模式中，来自所述X射线源的X射线相对于所述试样的主面垂直或者大致垂直地照射。8.如权利要求4～权利要求6的任一项所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置进一步具备驱动装置，以使X射线对所述试样的入...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤贤治，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：