【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及包括外壳和介质的处理系统或处理反应器,外壳具有 至少一个电介质阻挡放电灯,介质如通过即将由该灯所产生的辐射进 行处理的流体和/或气体和/或固体材料。
技术介绍
作为常规的以汞为基础的放电灯的一种选择,电介质阻挡放电灯 正变得越来越重要,在作为在窄光谱中产生具有高效率的高强度高功率uv光的源时尤为重要。这些灯通常具有圓柱形、圓顶状或同轴设计并且由水的内流和/或外流冷却。这些灯的基本原理是通过电介质阻挡放电产生受激准分子辐射(excimer radiation )。这种灯的两个电极中的至少一个通常位于在灯灯罩或灯罩周围的放电体积之外,以通过电容偶合实现能量供应,这种电容偶合穿过灯罩壁进入放电体积,以在 这种体积中开始气体放电。若导电流体由这种灯所产生的辐射进行处理,那么可通过经过处 理的流体提供能量供应(见US 6633109和US 5843784 ),且无需将与 流体电接触的外电极直接定位于灯罩。若容纳电介质阻挡放电灯和流 体的相关流体处理系统或反应器的外壳也导电,那么可通过外壳和流 体提供灯的能量供应。这样做的好处是这种外电极不再必要,并消除 了由 ...
【技术保护点】
一种处理系统或反应器(1),所述处理系统或反应器(1)包括外壳(10),所述外壳(10)具有至少一个电介质阻挡放电灯(2),所述电介质阻挡放电灯(2)具有第一电极(20)和至少一个导电体(4;7),其中,至少一个灯(2)的至少一个第二电极由包围所述灯(2)的体积(31)或空间(61)内的导电介质(3;6)提供,所述至少一个导电体(4;7)与所述介质(3;6)电接触并布置在所述外壳(10)与所述灯(2)之间的中间位置。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2005-1-28 05100564.31.一种处理系统或反应器(1),所述处理系统或反应器(1)包括外壳(10),所述外壳(10)具有至少一个电介质阻挡放电灯(2),所述电介质阻挡放电灯(2)具有第一电极(20)和至少一个导电体(4;7),其中,至少一个灯(2)的至少一个第二电极由包围所述灯(2)的体积(31)或空间(61)内的导电介质(3;6)提供,所述至少一个导电体(4;7)与所述介质(3;6)电接触并布置在所述外壳(10)与所述灯(2)之间的中间位置。2. 如权利要求1所述的处理系统或反应器(1),其特征在于 所述外壳(10)导电并构成所述至少一个灯(2)的第三电极。3. 如权利要求2所述的处理系统或反应器(1),其特征在于 至少一个第二电极(4; 5、 7)和所述笫三电极(10)具有至少基本上 相同的电位。4. 如权利要求1所述的处理系统或反应器(1),其特征在于 至少一个第二电极(4; 5、 7)连接到接地电位并提供作为与所述第一 电极(20)有关的中间对电极。5. 如权利要求1所述的处理系统或反应器(1),其特征在于 所述体积(31)在所述至少一个灯(2)与所述外壳(10)之间延伸并 包括导电介质(3),所述导电介质(3)即将由所述灯(2)和至少一 个导电体(4)的辐射进行处理。6. 如权利要求1所述的处理系统或反应器(...
【专利技术属性】
技术研发人员:W谢恩,G格鲁尔,JMJ格博尔斯,A范德波尔,
申请(专利权)人:皇家飞利浦电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]
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