【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种微波等离子体消除设备,以及操作这种设备的方 法。本专利技术特别适用于处理从多个处理腔室中排放的气体流的微波等离 子体消除设备。
技术介绍
在腔室内形成半导体或者平板显示器件的过程中可以向处理腔室 提供多种不同的气体。在化学气相沉积过程中,气体被提供给容纳衬底的处理腔室并且反应以在衬底表面上形成薄膜。例如,LPCVD(低压化 学气相沉积)氮处理使用DCS (二氯曱硅烷)和氨在晶片的表面上形成 氮化硅。在刻蚀工艺中,可以将例如三氯化硼和氯气的气体提供给腔室 以去除掉不需要的铝,并且在多晶硅刻蚀工艺中,将溴化氢和氯气提供 给腔室。可以将例如全氟化物CF4、 C2F6、 NF3和SF6以及氟气(F2)的 清洗气体周期性地提供给腔室,以从腔室清洗掉不需要的沉积物。处理工具通常具有多个处理腔室,其中每一个处理腔室可以在沉 积、刻蚀或者清洗过程的各个不同阶段,因此在任何给定时间从腔室排 放的气体具有各种不同的压力、成分和/或质量流速。在这些过程中, 通常存在提供给处理腔室的包含在从处理腔室排放的气体中的残留气 体量。全氟化物CF C2F6、 NF3和SF6是公知的温室气体,因此,希望 在将气体排放到大气之前从处理腔室排放的气体中去除掉这些气体。可以使用微波等离子体消除器件高效地从气体流中去除掉全氟化 物。在英国专利号GB2273027中描述了这种器件的例子。在该器件中,波导将来自微波发生器的微波辐射传输到容纳着紧密相对的两个电极 的气体腔室中。要处理的气体通过气体入口流到气体腔室中,并在电极 之间穿过。电极起到局部增强穿过腔室的微波辐射的电场的作用, ...
【技术保护点】
一种微波等离子体消除设备,包括微波发生器、用于接收来自微波发生器的微波能量并在其中利用该微波能量产生等离子体的气体腔室、用于监控没有在气体腔室内吸收的微波能量的量的装置,和根据来自监控装置的输出调节微波发生器产生的微波能量的功率的装置。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】GB 2005-11-24 0523947.01.一种微波等离子体消除设备,包括微波发生器、用于接收来自微波发生器的微波能量并在其中利用该微波能量产生等离子体的气体腔室、用于监控没有在气体腔室内吸收的微波能量的量的装置,和根据来自监控装置的输出调节微波发生器产生的微波能量的功率的装置。2. 根据权利要求l的设备,其中监控装置包括用于检测从气体腔 室反射的微波能量的功率的装置。3. 根据权利要求2的设备,其中检测装置被设置在波导内,该波导用于将来自微波发生器的微波辐射传送到气体腔室。4. 根据权利要求2或者3的设备,其中检测装置被设置在位于气 体腔室和微波发生器之间的隔离器内。5. 根据上述任一权利要求的设备,其中调节装置被配置为周期性 地调节微波发生器产生的微波能量的功率。6. 根据上述任一权利要求的设备,其中气体腔室具有接收气体流 的气体入口和气体出口 ,并且其中调节装置被配置为响应于进入气体腔 室的气体流的变化调节微波发生器产生的微波能量的功率。7. 根据权利要求6的设备,其中调节装置被配置为响应于进入气 体腔室的气体流的质量流速的变化调节微波发生器产生的微波能量的 功率。8. 根据权利要求6或者7的设备,其中调节装置被配置为响应于 进入气体腔室的气体流的成分的变化调节微波发生器产生的微波能量 的功率。9. 根据上述任一权利要求的设备,其中调节装置被配置为改变微 波发生器产生的微波能量的功率,当所述功率变化时监控所述输出,并 根据监控的输出确定微波发生器产生的微波的最佳功率。10. 根据上述任一权利要求的设备,其中调节装置被配置为调节微 波发生器产生的微波能量的功率,以最小化没有在气体腔室内吸收的微 波能量的量,同时保持该设备的气体破坏效率在预定水平或者高于预定 水平。11. 一种用于处理从多个处理腔室排放的气体的微波等离子体消 除设备,该设备包括微波发生器、用于将来自微波发生器的微波能量传 送给气体腔室的波导,该气体腔室用于接收所述气体并在其中利用微波 能量产生等离子体、用于在气体腔室内所述气体的处理过程中检测没有 在气体腔室内吸收的微波能量的量的检测器,和根据来自检测器的输出 调节微波发生器产生的微波能量的功率的控制器。12. 根据权利要求11的设备,其中控制器被配置为调节微波发生 器产生的微波能量的功率,以最小化没有在气体腔室内吸收的微波能量 的所述量,同时保持该设备的气体破坏效率在预定水平或者高于预定水 平13. 根据上迷任一权利要求的设备,其中气体腔室包括微波谐振腔。14. 一种操作微波等离子体消除设备的方法,该设备包括微波发 生器和用于接收来自微波发生...
【专利技术属性】
技术研发人员:M拉多尤,JR史密斯,AJ西利,
申请(专利权)人:爱德华兹有限公司,
类型:发明
国别省市:GB[英国]
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