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制造真空开关的铜铬触点的方法及其开关触点技术

技术编号:3144739 阅读:208 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
由于在铜-铬相图中的混合间隙,必要时通过快速过冷却在高温下熔融的合金可以产生均质合金。因此,为了进一步加工成触点而产生高的费用。根据本发明专利技术,如下地制造用于真空开关的铜-铬触点,即,在浇铸或喷射方法之后接着用快速冷却来产生薄的铜-铬片而作为触点的原材料。通过在制造中的合适的过程控制可以在带(50)中垂直于带方向调整浓度分布,因为铬尤其以Cr微粒或微滴(Cr)的形式在表面扩散。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于制造真空开关的铜铬触点的方法。此外本专利技术还涉及 这样制造的开关触点。
技术介绍
用于能量供应和分配的真空开关管需要由抗电弧(lichtbogenresistent)材 料组成的电气开关触点,该材料能承受局部超过5MW/cn^的高温负载,不会释 放气态的或其它有害的污染物并且可以特別经济地制造。大多数情况下为真空开关管中的开关触点采用含铜的材料,其主要部分是 包含铜(Cu)和铬(Cr)的混合物,其中, 一般铬份额在20% (质量百分比) 和50% (质量百分比)之间。在真空开关技术中采用的特殊触点形状(按键触 点或圆盘触点、螺旋触点、罐形触点、或轴向;兹场触点)要求必须对触点区域 进行机械加工,因此需要至少2至3 mm的材料厚度。为了制造包含铜(Cu )和铬(Cr)的材料而引入相图。这例如在M. Hansen 和K. Anderko的手册Constitution of Binary Alloys, McGraw-Hill Book Company, Inc.(1958)的第524页公知。Cu-Cr相图具有一些热力学的特性,特别是共晶 (Eutektikum)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种由铜和铬制成的、用作真空开关的开关触点的触点的制造方法,其中,通过将CuCr熔炼材料快速冷却到室温而在非热力学平衡下设置预定的铬浓度,该方法具有以下步骤: -借助浇铸方法用快速冷却产生由铜和铬制成的带或薄片作为所述开关触点的原材料 , -从所述带或片中冲压出触点表层,以及 -将所述冲压件固定在触点支承上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】DE 2006-5-10 102006021772.11. 一种由铜和铬制成的、用作真空开关的开关触点的触点的制造方法,其中,通过将CuCr熔炼材料快速冷却到室温而在非热力学平衡下设置预定的铬浓度,该方法具有以下步骤-借助浇铸方法用快速冷却产生由铜和铬制成的带或薄片作为所述开关触点的原材料,-从所述带或片中冲压出触点表层,以及-将所述冲压件固定在触点支承上。2. 根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述带或片具有1至2mm的厚度。3. 根据权利要求1或2所述的制造方法,其特征在于,为了制造所述带或片将预定浓度的高温液态铜-铬喷射或浇注到旋转的滚筒上,其中,为所述滚筒配设有冷却装置,以冷却所述液态的金属合金。4. 根据权利要求3所述的制造方法,其特征在于,按照定义设置冷却率。5. 根据权利要求1至4中任一项所述的制造方法,其特征在于,根据所述按照定义设置的冷却率有针对性地调整垂直于带表面/片...

【专利技术属性】
技术研发人员:沃纳哈特曼罗曼兰兹安德烈亚斯斯特尔泽
申请(专利权)人:西门子公司
类型:发明
国别省市:DE[德国]

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