DNA成像缓冲液中的DNA保护试剂制造技术

本发明专利技术公开了用于保护DNA免受在使用荧光染料进行DNA测序期间发生的光诱导损伤和其他修饰的方法和组合物。修饰的方法和组合物。修饰的方法和组合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】DNA成像缓冲液中的DNA保护试剂
对先前申请的引用
[0001]本申请要求于2020年4月20日提交的美国临时专利申请63/012,836的优先权，其全部内容通过引用并入本文以用于所有目的。

技术介绍

[0002]许多DNA测序方法和其他分析方法涉及将荧光标记的核苷酸掺入多核苷酸中，并基于通过激发波长照射多核苷酸时产生的荧光信号来检测该掺入。例如，合成测序方法涉及通过引物延伸掺入标记的核苷酸、照射该标记的核苷酸和检测荧光信号的多个循环。已经观察到该方法损坏延伸的引物和/或多核苷酸模板，从而限制读取长度并降低长读数的准确性。

技术实现思路

[0003]本公开提供了用于保护DNA免受使用荧光染料进行DNA测序期间发生的光诱导损伤和其他修饰的方法和组合物。在标准条件下进行的反应中，在20或95个合成测序循环期间累积的损伤导致信号损失高达50％。通过在每个循环的成像步骤中使用成像缓冲液保护DNA模板和生长链，可使相同循环次数的信号损失最小化到低于10％。
[0004]下文描述提供了大规模平行核酸测序方法的更多细节。该方法可包括使用阵列进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种核酸合成测序方法，所述方法包括使用包含固定化DNA模板的阵列进行至少20个核酸测序循环，其中每个循环包括：i)将可逆终止子核苷酸掺入阵列上的多个延伸引物中，其中荧光染料分子在掺入之前或之后与掺入的可逆终止子核苷酸结合，从而使荧光染料分子与模板和延伸引物结合；ii)使所述阵列与包含trolox和5mM至200mM还原型谷胱甘肽的成像缓冲液接触；iii)照射所述阵列以诱导自荧光染料分子的荧光发射并检测所述荧光发射；然后iv)从所述阵列上的所述DNA模板中去除所述成像缓冲液和所述荧光染料分子。2.根据权利要求1所述方法，其中所述成像缓冲液中的trolox浓度为2mM至4mM。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述成像缓冲液在7.5至9.0的pH下缓冲。4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述荧光染料分子直接与所述掺入的可逆终止子核苷酸缀合。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述固定化DNA模板为各自具有模板序列的多个拷贝的DNA纳米球(DNB)。6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述固定化DNA模板中的每一者为各自具有模板序列的单一拷贝的DNA链的克隆簇。7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中在步骤(iv)中去除所述成像缓冲液和去除所述荧光染料分子同时发生。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中与在没有成像缓冲液的情况下发生的信号损失相比，在20、50、100、150、200、300、400、500、600、700、800或1000个测序循环之后的累积信号损失减小。9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中在第20个测序循环中测量的荧光发射是在第一个循环中测量的所述发射的至少90％。10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中在存在所述成像缓冲液的情况下，在第20个测序循环中测量的所述发射相对于第一个循环中所述发射的减少比在不存在所述成像缓冲液的情况下在第20个测序循环中测量的所述发射相对于在第一个循环中发射的减...

【专利技术属性】
技术研发人员：斯尼泽纳，
申请(专利权)人：深圳华大智造科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：