一种通过形成固溶体制备无泥裂金属氧化物层的方法技术

本发明专利技术公开了一种通过形成固溶体制备无泥裂金属氧化物层的方法，包括，通过对基体材料的处理，使其表面呈现薄壁沟壑的蜂窝状，将构成涂层的组分或前驱体物以涂层液形式涂覆于处理后的基体表面，热分解过程中涂覆液内的物质与蜂窝状基体的沟壑壁等表面反应，升温分解至生成金属氧化物固溶体，此时金属及其氧化物与涂覆液组分热分解后组分形成的固溶体与基体紧密结合，大大消除和缓解了基体材料与表面层的内应力，制备得到无泥裂涂层。本发明专利技术制备得到的无泥裂固溶体结构可以实现对基体的覆盖和保护，有效防止因物料渗透导致的基体钝化，提高了基体材料的抗腐蚀性能和抗氧化性能，使得相应电极在应用过程中的使用寿命等电化学性能得到了大幅度提升。化学性能得到了大幅度提升。化学性能得到了大幅度提升。

【技术实现步骤摘要】
一种通过形成固溶体制备无泥裂金属氧化物层的方法


[0001]本专利技术属于
，具体涉及到一种通过形成固溶体制备无泥裂金属氧化物层的方法。

技术介绍

[0002]电化学氧化技术在有机电合成及水处理中有着广泛的应用，阳极是实现电化学氧化的关键部件，其稳定性对电化学氧化反应效率有着重要的影响。例如钛基金属氧化物阳极因具有相对较好的稳定性而被广泛应用。一般通过在基体表面形成致密的金属氧化物层而使得基体不被电解液腐蚀，防止基体钝化，涂层的制备方法一般有浸渍法，溶胶凝胶法、电沉积法、热分解法等。
[0003]由于基体和涂层之间热膨胀系数存在差异，且差别随着界面温度的升高而增大，层间会产生并累积热应力，导致裂纹的产生和扩展，使得基体抗氧化能力下降(王志平,费宇杰,刘延宽.热障涂层失效机理、改进方法及未来发展方向. 表面技术,2021,50(07):126
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137)，出现典型的“泥裂”现象(Wang L Y,Pan F R, Wang L.Novel approach for preparing Ti based ATO fi本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种通过形成固溶体制备无泥裂金属氧化物层的方法，其特征在于：包括，对基体材料进行处理，使其表面呈现蜂窝状；将构成涂层的组分或前驱体以涂层液形式涂覆于处理后的基体表面；干燥和热分解处理，使涂层液与基体表面反应至生成金属氧化物固溶体，制备得到无泥裂涂层。2.如权利要求1所述的通过形成固溶体制备无泥裂金属氧化物层的方法，其特征在于：所述基体材料为纯钛金属或其合金，其表面具有粒子堆积形貌的致密金属，或具有相应尺寸的金属颗粒、或具有相应表面形貌的多孔金属材料。3.如权利要求1或2所述的通过形成固溶体制备无泥裂金属氧化物层的方法，其特征在于：所述表面具有粒子堆积形貌的致密金属，其表面凸起部分等效平均粒径尺寸<100μm，和/或凹进部分平均深度>10μm。4.如权利要求1或2所述的通过形成固溶体制备无泥裂金属氧化物层的方法，其特征在于：所述对基体材料进行处理，是采用酸蚀或电解刻蚀的方法，将基体材料的表面刻蚀出薄壁沟壑，基体整体呈蜂窝状；其中，所述薄壁沟壑，薄壁平均厚度<1000nm，相邻薄壁的间距<1000nm。5.如权利要求1或2所述的通过形成固溶体制备无泥裂金属氧化物层的方法，其特征在于：所述采用酸蚀，酸为任何具有腐蚀性的酸，其酸浓度为0～95％。6.如权利要求3所述的通过形成固溶体制备无泥裂金属氧化物层的方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：朵亚琳，王岚，张烨，王龙耀，
申请(专利权)人：常州大学，
类型：发明
国别省市：