一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法技术

本发明专利技术属于光电技术领域，尤其是一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，针对现有的光学反射膜反射率较低的问题，现提出如下方案，其包括以下步骤：S1、母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统；S2、干燥后进入熔融挤出系统进行成型；S3、成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理；S4、电晕处理后的薄膜使用正面涂层装置进行正面涂层，同时还进行反面涂层，本发明专利技术取代了之前的双相泡孔结构，不仅增加了泡孔的数量，还进一步改善了纳微材料与聚酯界面相容性，提升了泡孔在基体中的分散性，从而能有效增加光线进入薄膜后折射和反射的次数，使反射膜的反射率达到了99%以上。以上。以上。

【技术实现步骤摘要】
一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法


[0001]本专利技术涉及光电
，尤其涉及一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法。

技术介绍

[0002]发射膜是LCD背光源模组构成材料的一部分，位于背光膜组的底部，其作用是将透过挡光板漏到下面的光线再反射回去，重新回到面板侧，从而达到减少光损失，增加光亮度的作用。而白色反射膜表面呈微细的凹凸结构，使光线发生多个方向的反射，也就是扩散反射，扩散反射是白色反射膜主要的反射方式。对白色反射膜而言，光线除表面散射外，同时一部分光线折射进入薄膜介质中，薄膜内部由于有大量的填料和/或微泡，光线遇到这些异物又会发生反射，折射和再反射，尤其是微泡内介质的折射率1.0，光线在微泡的内表面将发生反射，及较大角度的折射。所有这些复杂的内部结构，都很好地阻止了光线不能顺利透过薄膜介质，进而改变光路反射回薄膜表面。
[0003]现有技术中，光学反射膜反射率较低，因此我们提出了一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，用来解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是为了解决光学反射膜反射率较低的缺点，而提出的一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，包括以下步骤：S1、母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统；S2、干燥后进入熔融挤出系统进行成型；S3、成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理；S4、电晕处理后的薄膜使用正面涂层装置进行正面涂层，同时还进行反面涂层；S5、涂层后的基膜热风干燥，干燥后再涂覆保护膜层；S6、涂覆保护膜层后的基膜再进行固化，使低分子量的涂层迅速转变成高分子量的涂层，最后基膜经过测厚、在线检测后收卷包装。
[0006]优选的，所述正面涂层装置包括涂布压辊、刮刀、上分流器、流液管道、容器、液位传感器、过滤网、电磁阀、机架、流量传感器、涂布辊、橡胶辊，涂布压辊和涂布辊之间设有聚酯薄膜，涂布辊、橡胶辊、上分流器、容器、涂布压辊安装在机架上，流液导管与容器连接，电磁阀安装在流液管道上，液位传感器与过滤网安装于容器内，所述反面涂层时需要用到逗号涂布刮刀、下分流器和下橡胶辊，所述上分流器底部排列着大小均匀的小孔，上分流器与流量传感器连接，且上分流器与刮刀和涂布辊相连，所述下分流器与涂布压辊、下橡胶辊，所述涂布辊、橡胶辊、上分流器、涂布压辊连接在一起，所述基膜热风干燥在涂布机烘道内进行，涂布机烘道包括导向轮、温度传感器、热风干燥装置、紫外线UV固化装置、横拉系统，导向轮和横拉系统上设有涂层基膜，温度传感器设于热风干燥装置上。
[0007]优选的，所述母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统，干燥系统设置温度为140
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160℃，干燥后进入熔融挤出系统，该系统各区域设置温度为140
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255℃，其中机头设置温度为255℃，成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理，电晕处理设置电压范围在10000
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21000V之间，输出功率范围10
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60kW，频率调节范围10
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25kHz，极间隙控制在1.5
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3mm。
[0008]优选的，所述涂层时需要用到涂布液，涂布液的配方如下：聚酯丙烯酸酯水溶体30份、纳米硅溶液20份、流平剂15份、光引发剂15份、发光粒子10份、乙醇7份、PH调节剂3份，所述发光粒子为荧光粉、镁粒子、铜粒子、银粒子、铝粒子、铬粒子、钯粒子中的一种或几种。
[0009]优选的，所述涂布液配置方法如下：在容器中，搅拌下加入聚酯丙烯酸酯水溶液30份、纳米硅溶液20份、乙醇7份，搅拌10分钟后，再滴加PH调节剂，使酯丙烯酸酯溶液PH=8.5
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9.5之间，搅拌下再加入流平剂10份、光引发剂10份，再次滴加PH调节剂，使得PH=8.5
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9.5之间，再搅拌5分钟，加入发光粒子后搅拌5分钟，即制得聚酯涂布液。
[0010]优选的，涂层后的基膜热风干燥，热风温度控制在85
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110℃。
[0011]优选的，所述母料与辅料比例为90：10，母料分子量为2.1
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3.2万，相对密度1.35
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1.38，透光率≥88%，吸水率≤0.58%，母料用PET树脂，辅料用三氧化二铝、氧化锌、硫酸钡、氧化膜、滑石粉中的一种或几种，优选的，所述正面涂层具体步骤如下：生产线运行，电晕后的聚酯薄膜按设定的速度运行，涂布速度为18
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20m/min，按配比混合后搅拌制成的涂布液注入容器中，涂布液达到一定的液位后，液位传感器发出信号，安装在流液管道上的电磁阀打开，涂布液经过过滤网、流液管道进入上分流器，上分流器排列着大小均匀的小孔，分流器的流液大小均匀有流量传感器控制，上分流器均匀地把涂布液喷涂布辊上，在运行的聚酯薄膜上，刮刀采用气动和微调机构来调节和控制刮刀位置，涂布辊与聚酯薄膜运行的方向相同，而涂布压辊的运转方向与聚酯薄膜的前进方向相反，涂布液经过涂布压辊后，在薄膜表面形成涂布层，涂布层的厚度经过流量传感器控制。
[0012]与现有技术相比，本专利技术的优点在于：本专利技术取代了之前的双相泡孔结构，不仅增加了泡孔的数量，还进一步改善了纳微材料与聚酯界面相容性，提升了泡孔在基体中的分散性，从而能有效增加光线进入薄膜后折射和反射的次数，使反射膜的反射率达到了99%以上，与传统的同类型产品反射率指标相比具有一定的优势。
附图说明
[0013]图1为一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法的正面涂层装置的结构图；图2为正面涂层装置的A
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A剖面图；图3为一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法的反面涂层示意图；图4为涂布机烘道结构；图5为反射膜增加微泡粒子图；图6为反射膜增加金属粒子图；图7为微棱镜型反光膜结构图。
[0014]图中：1涂布压辊、2聚酯薄膜、3刮刀、4上分流器、5流液管道、6容器、7液位传感器、
8过滤网、9电磁阀、10机架、11流量传感器、12涂布辊、13橡胶辊、14导向轮、15涂层基膜、16温度传感器、17热风干燥装置、18紫外线UV固化装置、19横拉系统、20逗号涂布刮刀、21下分流器、22下橡胶辊、201微泡介质、202金属镀层、211反射膜。
具体实施方式
[0015]下面将结合本实施例中的附图，对本实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实施例一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0016]参照图1
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7，一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，包括以下步骤：S1、母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统；S2、干燥后进入熔融挤出系统进行成型；S3、成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理，电晕处理使薄膜张力大大提高利于润湿，而且表面粗糙度也大大提高；S4、电晕处理后的薄膜使用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统；S2、干燥后进入熔融挤出系统进行成型；S3、成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理；S4、电晕处理后的薄膜使用正面涂层装置进行正面涂层，同时还进行反面涂层；S5、涂层后的基膜热风干燥，干燥后再涂覆保护膜层；S6、涂覆保护膜层后的基膜再进行固化，使低分子量的涂层迅速转变成高分子量的涂层，最后基膜经过测厚、在线检测后收卷包装。2.根据权利要求1所述的一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，其特征在于，所述正面涂层装置包括涂布压辊（1）、刮刀（3）、上分流器（4）、流液管道（5）、容器（6）、液位传感器（7）、过滤网（8）、电磁阀（9）、机架（10）、流量传感器（11）、涂布辊（12）、橡胶辊（13），涂布压辊（1）和涂布辊（12）之间设有聚酯薄膜（2），涂布辊（12）、橡胶辊（13）、上分流器（4）、容器（6）、涂布压辊（1）安装在机架（10）上，流液导管（5）与容器（6）连接，电磁阀（9）安装在流液管道（5）上，液位传感器（7）与过滤网（8）安装于容器（6）内，所述反面涂层时需要用到逗号涂布刮刀（20）、下分流器（21）和下橡胶辊（22），所述上分流器（4）底部排列着大小均匀的小孔，上分流器（4）与流量传感器（11）连接，且上分流器（4）与刮刀（3）和涂布辊（12）相连，所述下分流器（21）与涂布压辊（1）、下橡胶辊（22），所述涂布辊（12）、橡胶辊（13）、上分流器（4）、涂布压辊（1）连接在一起，所述基膜热风干燥在涂布机烘道内进行，涂布机烘道包括导向轮（14）、温度传感器（16）、热风干燥装置（17）、紫外线UV固化装置（18）、横拉系统（19），导向轮（14）和横拉系统（19）上设有涂层基膜（15），温度传感器（16）设于热风干燥装置（17）上。3.根据权利要求1所述的一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，其特征在于，所述母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统，干燥系统设置温度为140
‑
160℃，干燥后进入熔融挤出系统，该系统各区域设置温度为140
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255℃，其中机头设置温度为255℃，成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理，电晕处理设置电压范围在10000
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21000V之间，输出功率范围10
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60kW，频率调节范围10
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2...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨彪，杨建鹏，孙艳斌，李彬彬，张玲，齐宝山，吕廷磊，王鹏，董相岗，王新宇，
申请(专利权)人：山东胜通光学材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：