具有标记元件的基底、包括其的容器制造技术

本实用新型专利技术涉及具有标记元件的基底、包括其的容器，标记元件在基底的第一表面区域及其第二表面区域上延伸；在第一表面区域上，对于第一表面区域的表面粗糙度，基底具有第一粗糙度值；在第二表面区域上，对于第二表面区域的表面粗糙度，基底具有第二粗糙度值；在沿至少部分地穿过第一表面区域和第二表面区域的至少一条切割线的基底的至少一个高度轮廓中，沿与第一表面区域相对应的高度轮廓的第一部分的基底的高度大于沿与第二表面区域相对应的高度轮廓的第二部分的基底的高度；在高度轮廓中，第二部分的最大高度点或平均高度与第一部分的最小高度点或平均高度之间的高度差的绝对值定义为深度值；深度值与第二粗糙度值的比例在2到35之间。例在2到35之间。例在2到35之间。

【技术实现步骤摘要】
具有标记元件的基底、包括其的容器


[0001]本技术涉及一种具有标记元件的基底、包括这种基底的容器以及用于生产具有标记元件的基底、优选地根据本技术的基底的方法。

技术介绍

[0002]在现有技术中，通常的做法是使用识别部件来使物体、如容器可识别。这方面在制药领域中尤其重要，在该领域中，通常要求用于容纳药物组合物的容器(如小瓶、注射器、药筒等)具有允许识别每个独立容器的部件。例如，这对于填充、路径选择、存储、分派期间自动处理容器以及确保质量和安全标准非常重要，这些标准通常要求每个容器在其生命周期中具有高的可追溯性。所述识别部件通常设计为标记元件的形式，标记元件则用于满足上述要求。
[0003]到目前为止，通常在每个容器上贴上标签并在标签上打印独特的识别码如条形码。在其他应用中，已经借助使用油墨的印刷工艺将独特的识别码直接转移到容器上。因此，两种方法都需要打印的码。一旦在容器和独特的识别码之间建立连接，就可以通过读取相应的独特的识别码识别容器。
[0004]然而，在使用期间将标签贴在表面上或使用打印机往往很慢且复杂，因此通常代表生产本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有标记元件的基底，其特征在于：所述标记元件在所述基底的至少一个第一表面区域和所述基底的至少一个第二表面区域上延伸；其中，在所述第一表面区域上，对于所述第一表面区域的至少一个表面粗糙度，所述基底具有至少一个第一粗糙度值；在所述第二表面区域上，对于所述第二表面区域的表面粗糙度，所述基底具有至少一个第二粗糙度值；其中，在沿至少部分地穿过所述第一表面区域和第二表面区域的至少一条切割线的基底的至少一个高度轮廓中，沿与所述第一表面区域相对应的所述高度轮廓的第一部分的基底的高度大于沿与所述第二表面区域相对应的所述高度轮廓的第二部分的基底的高度；其中，在所述高度轮廓中，第二部分的最大高度点或至少一个平均高度与第一部分的最小高度点或至少一个平均高度之间的高度差的绝对值定义为深度值；其中，所述深度值与第二粗糙度值的比例在2到35之间。2.根据权利要求1所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述表面粗糙度为在相应表面区域的至少一部分上的平均表面粗糙度或均方根表面粗糙度。3.根据权利要求1或2所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述第一粗糙度值比第二粗糙度值小10、20、30、40、50、60、70、80、90或100倍，所述第一粗糙度值在0.5至20nm之间，和/或所述第二粗糙度值在5至1000nm之间。4.根据权利要求3所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述第一粗糙度值在1至10nm之间。5.根据权利要求3所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述第一粗糙度值在1至5nm之间。6.根据权利要求3所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述第二粗糙度值在100至700nm之间。7.根据权利要求3所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述第二粗糙度值在100至300nm之间或300至500nm之间。8.根据权利要求1或2所述的具有标记元件的基底，其特征在于，高度值由所述高度轮廓中第一部分的最大高度点处的高度定义；其中，所述高度值与深度值的比例在100至2000之间，和/或其中，所述高度在0.1至20mm之间。9.根据权利要求8所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述高度在0.5至15mm之间。10.根据权利要求8所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述高度在0.7至1.7mm之间。11.根据权利要求1或2所述的具有标记元件的基底，其特征在于，在所述第一表面区域之上或之下，对于所述第一表面区域中或位于其下面的基底的至少一个不同深度处的两种材料的至少一个浓度比，所述基底具有至少一个第一比值；其中，在所述第二表面区域之上或之下，对于所述第二表面区域中或位于其下面的基
底的至少一个不同深度处的两种材料的至少一个浓度比，所述基底具有至少一个第二比值。12.根据权利要求11所述的具有标记元件的基底，其特征在于，关于所述第一比值和第二比值，将所述基底设计成使得耐水解性提高。13.根据权利要求11所述的具有标记元件的基底，其特征在于，(i)所述两种材料的浓度比为材料B与Si、Na与Si、Ca与Si和/或Al与Si的浓度比；(ii)所述不同深度为相应表面区域以下达2μm的深度；和/或(iii)通过至少一种ToF
‑
SIMS测量，在相应表面区域的至少一个位置处获得和/或能够获得所述两种材料的浓度比。14.根据权利要求13所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述不同深度为相应表面区域以下达1μm的深度。15.根据权利要求13所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述不同深度为相应表面区域以下达0.5μm的深度。16.根据权利要求13所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述不同深度为相应表面区域以下达0.2μm的深度。17.根据权利要求13所述的具有标记元件的基底，其特征在于，通过在不同深度的至少一个表层的至少一种ToF
‑
SIMS测量，在相应表面区域的至少一个位置处获得和/或能够获得所述两种材料的浓度比。18.根据权利要求1或2所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述基底至少部分包括玻璃、和至少一种聚合物材料。19.根据权利要求18所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述基底至少部分包括硅酸盐玻璃。20.根据权利要求18所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述基底至少部分包括铝硅酸盐玻璃和/或硼硅酸盐玻璃。21.根据权利要求18所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述基底至少部分包括环烯烃共聚物(COC)或环烯烃聚合物(COP)。22.根据权利要求1或2所述的具有标记元件的基底，其特征在于，所述标记元件包括至少一个雕刻在所述基...

【专利技术属性】
技术研发人员：O，
申请(专利权)人：肖特股份有限公司，
类型：新型
国别省市：