一种真空镀膜蒸发装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于真空镀膜技术领域，尤其为一种真空镀膜蒸发装置，包括工作台，所述工作台顶部设有旋转台，所述旋转台顶部设有镀膜坩埚，且所述工作台顶部设有电极本体，所述镀膜坩埚开设有若干个放置腔，若干个所述放置腔内均设有储存皿，若干个所述储存皿外壁均固定连接有把手，且所述镀膜坩埚开设有与所述把手相对应的避让槽；本实用新型专利技术中通过设置的多个储存皿分别位于多个放置腔内，储存皿能够盛放镀膜药剂，由于放置腔与避让槽连通，并且避让槽的宽度小于放置腔的直径，能够使储存皿稳定的放置在放置腔内部，储存皿上的把手位于避让槽内，可以通过把手直接的操作储存皿，便于对储存皿进行处理。存皿进行处理。存皿进行处理。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜蒸发装置


[0001]本技术属于真空镀膜
，具体涉及一种真空镀膜蒸发装置。

技术介绍

[0002]真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上，电子蒸发其原理是镀膜机内通过电极产生电子束打到镀膜药剂上从而使镀膜药剂蒸发附着在被镀膜产品上，在高真空下，电子枪灯丝加热后发射热电子，被加速阳极加速，获得很大的动能轰击到的蒸发材料上，把动能转化成热使蒸发材料加热气化，而实现电子束蒸发镀膜。
[0003]中国专利公开了电子蒸发真空镀膜机的蒸发组件，(授权公告号CN207933521U)，该专利技术能够在镀膜坩埚上设置有多个凹槽并放置多个衬套，多个衬套可以盛放大量的镀膜药剂，从而可满足大批量的镀膜作业，此外，多个衬套可以分别盛放不同种类的镀膜药剂，程序可以根据镀膜的要求控制转台带动镀膜坩埚旋转，从而使电子束打到不同的衬套的镀膜药剂上，但是衬套是沉陷在凹槽内的，衬套内还需要放置镀膜药剂，并且衬套的顶面与缺口的底面齐平放置，使衬套位于凹槽内没有多余露出的空间，从而不便于将衬套从凹本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜蒸发装置，包括工作台(1)，所述工作台(1)顶部设有旋转台(11)，所述旋转台(11)顶部设有镀膜坩埚(12)，且所述工作台(1)顶部设有电极本体(13)，其特征在于：所述镀膜坩埚(12)开设有若干个放置腔(121)，若干个所述放置腔(121)内均设有储存皿(2)，若干个所述储存皿(2)外壁均固定连接有把手(21)，且所述镀膜坩埚(12)开设有与所述把手(21)相对应的避让槽(122)，所述镀膜坩埚(12)顶部设有数量与所述储存皿(2)相对应的限位件(3)，所述限位件(3)包括弧形挡板(31)和两个直板(32)，两个所述直板(32)与所述弧形挡板(31)一体成型，且所述弧形挡板(31)和两个所述直板(32...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏文校，
申请(专利权)人：东莞市优上纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：