本实用新型专利技术属于真空镀膜技术领域，尤其为一种真空镀膜蒸发装置，包括工作台，所述工作台顶部设有旋转台，所述旋转台顶部设有镀膜坩埚，且所述工作台顶部设有电极本体，所述镀膜坩埚开设有若干个放置腔，若干个所述放置腔内均设有储存皿，若干个所述储存皿外壁均固定连接有把手，且所述镀膜坩埚开设有与所述把手相对应的避让槽；本实用新型专利技术中通过设置的多个储存皿分别位于多个放置腔内，储存皿能够盛放镀膜药剂，由于放置腔与避让槽连通，并且避让槽的宽度小于放置腔的直径，能够使储存皿稳定的放置在放置腔内部，储存皿上的把手位于避让槽内，可以通过把手直接的操作储存皿，便于对储存皿进行处理。存皿进行处理。存皿进行处理。
【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜蒸发装置
[0001]本技术属于真空镀膜
，具体涉及一种真空镀膜蒸发装置。
技术介绍
[0002]真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上，电子蒸发其原理是镀膜机内通过电极产生电子束打到镀膜药剂上从而使镀膜药剂蒸发附着在被镀膜产品上，在高真空下，电子枪灯丝加热后发射热电子，被加速阳极加速，获得很大的动能轰击到的蒸发材料上，把动能转化成热使蒸发材料加热气化，而实现电子束蒸发镀膜。
[0003]中国专利公开了电子蒸发真空镀膜机的蒸发组件，(授权公告号CN207933521U)，该专利技术能够在镀膜坩埚上设置有多个凹槽并放置多个衬套，多个衬套可以盛放大量的镀膜药剂，从而可满足大批量的镀膜作业，此外，多个衬套可以分别盛放不同种类的镀膜药剂，程序可以根据镀膜的要求控制转台带动镀膜坩埚旋转，从而使电子束打到不同的衬套的镀膜药剂上，但是衬套是沉陷在凹槽内的，衬套内还需要放置镀膜药剂，并且衬套的顶面与缺口的底面齐平放置，使衬套位于凹槽内没有多余露出的空间，从而不便于将衬套从凹槽内取出。
[0004]因此，本领域技术人员提供了一种真空镀膜蒸发装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
技术实现思路
[0005]为解决上述
技术介绍
中提出的问题。本技术提供了一种真空镀膜蒸发装置，具有储存皿上的把手位于避让槽内，可以通过把手直接的操作储存皿，便于对储存皿进行处理的特点。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种真空镀膜蒸发装置，包括工作台，所述工作台顶部设有旋转台，所述旋转台顶部设有镀膜坩埚，且所述工作台顶部设有电极本体，所述镀膜坩埚开设有若干个放置腔，若干个所述放置腔内均设有储存皿，若干个所述储存皿外壁均固定连接有把手，且所述镀膜坩埚开设有与所述把手相对应的避让槽，所述镀膜坩埚顶部设有数量与所述储存皿相对应的限位件，所述限位件包括弧形挡板和两个直板，两个所述直板与所述弧形挡板一体成型，且所述弧形挡板和两个所述直板均固定在所述镀膜坩埚上。
[0007]优选的，所述避让槽与所述放置腔连通。
[0008]优选的，所述避让槽的宽度小于所述放置腔的直径。
[0009]优选的，所述弧形挡板包围所述储存皿，且所述弧形挡板内径等于所述放置腔的直径。
[0010]优选的，所述储存皿为圆筒状。
[0011]优选的，两个所述直板分别位于所述放置腔顶部两侧。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术中通过设置的多个储存皿分别位于多个放置腔内，储存皿能够盛放镀膜药剂，由于放置腔与避让槽连通，并且避让槽的宽度小于放置腔的直径，能够使储存皿稳定的放置在放置腔内部，储存皿上的把手位于避让槽内，可以通过把手直接的操作储存皿，便于对储存皿进行处理，且设置的限位件包围着放置腔，使储存皿可以顺着弧形挡板从放置腔内取出或放置在放置腔内，并且电子束受到限位件的遮挡能够准确的打到储存皿内的镀膜药剂上。
附图说明
[0013]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：
[0014]图1为本技术的结构示意图；
[0015]图2为本技术的俯视图；
[0016]图3为本技术中放置腔的结构示意图；
[0017]图4为本技术中储存皿的结构示意图。
[0018]图中：1、工作台；11、旋转台；12、镀膜坩埚；121、放置腔；122、避让槽；13、电极本体；2、储存皿；21、把手；3、限位件；31、弧形挡板；32、直板。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]请参阅图1
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4，本技术提供以下技术方案：一种真空镀膜蒸发装置，包括工作台1，工作台1顶部设有旋转台11，旋转台11顶部设有镀膜坩埚12，且工作台1顶部设有电极本体13，镀膜坩埚12开设有若干个放置腔121，若干个放置腔121内均设有储存皿2，若干个储存皿2外壁均固定连接有把手21，且镀膜坩埚12开设有与把手21相对应的避让槽122，镀膜坩埚12顶部设有数量与储存皿2相对应的限位件3，限位件3包括弧形挡板31和两个直板32，两个直板32与弧形挡板31一体成型，且弧形挡板31和两个直板32均固定在镀膜坩埚12上。
[0021]本实施方案中：工作台1顶部设有旋转台11，旋转台11顶部设有镀膜坩埚12，且工作台1顶部设有电极本体13，多个储存皿2能够盛放镀膜药剂，储存皿2可以便于盛放镀膜药剂，并位于镀膜坩埚12上，使电极本体13能够产生电子束打到镀膜药剂上，且原理与公开号CN207933521U，名称为电子蒸发真空镀膜机的蒸发组件说明书中第21段中所提到电子束产生的原理一致，通过电极发出的电子束通过偏转磁极偏转后射入衬套的镀膜药剂中，从而使镀膜药剂蒸发到被镀膜的产品上，储存皿2能够位于放置腔121内，旋转台11能够通过电机驱动，使旋转台11可以带着镀膜坩埚12转动，便于将电子束打到每一个储存皿2内的镀膜药剂上，通过储存皿2位于放置腔121内，储存皿2能够盛放镀膜药剂，由于放置腔121与避让槽122连通，并且避让槽122的宽度小于放置腔121的直径，能够使储存皿2稳定的放置在放置腔121内部，储存皿2上的把手21位于避让槽122内，可以通过把手21直接的操作储存皿2，
便于对储存皿2进行处理，且设置的限位件3包围着放置腔121，弧形挡板31包围储存皿2，且弧形挡板31内径等于放置腔121的直径，两个直板32分别位于放置腔121顶部两侧，使储存皿2可以顺着弧形挡板31从放置腔121内取出或放置在放置腔121内，并且电子束受到限位件3的遮挡能够准确的打到储存皿2内的镀膜药剂上。
[0022]在图1
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2中：弧形挡板31包围储存皿2，且弧形挡板31内径等于放置腔121的直径，两个直板32分别位于放置腔121顶部两侧，使储存皿2可以顺着弧形挡板31从放置腔121内取出或放置在放置腔121内，并且电子束受到限位件3的遮挡能够准确的打到储存皿2内的镀膜药剂上。
[0023]在图3
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4中：避让槽122与放置腔121连通，避让槽122的宽度小于放置腔121的直径，储存皿2为圆筒状，储存皿2可以便于盛放镀膜药剂，放置腔121和避让槽122，可以使储存皿2稳定的放置在放置腔121内部，储存皿2上的把手21位于避让槽122内，可以通过把手21直接的操作储存皿2，便于对储存皿2进行处理。
[0024]本技术的工作原理及使用本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜蒸发装置，包括工作台(1)，所述工作台(1)顶部设有旋转台(11)，所述旋转台(11)顶部设有镀膜坩埚(12)，且所述工作台(1)顶部设有电极本体(13)，其特征在于：所述镀膜坩埚(12)开设有若干个放置腔(121)，若干个所述放置腔(121)内均设有储存皿(2)，若干个所述储存皿(2)外壁均固定连接有把手(21)，且所述镀膜坩埚(12)开设有与所述把手(21)相对应的避让槽(122)，所述镀膜坩埚(12)顶部设有数量与所述储存皿(2)相对应的限位件(3)，所述限位件(3)包括弧形挡板(31)和两个直板(32)，两个所述直板(32)与所述弧形挡板(31)一体成型，且所述弧形挡板(31)和两个所述直板(32...
【专利技术属性】
技术研发人员：苏文校，
申请(专利权)人：东莞市优上纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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