【技术实现步骤摘要】
外延设备的反应工况调节方法、装置、系统及电子设备
[0001]本申请涉及外延生长
，具体而言，涉及一种外延设备的反应工况调节方法、装置、系统及电子设备。
技术介绍
[0002]外延设备一般通过反应室加热并通入反应气体进行外延生长。
[0003]现有技术中，反应室为封闭高温结构，无法观察反应室内反应情况，反应室内的外延生长速率主要取决于反应室内温度和反应气体的流量，当反应室内外延生长效果不理想时，工作人员仅能根据产出的外延片的质量结合经验来调节反应室内工况，缺少一种及时且有效的手段来获取并调节反应室内反应情况。
[0004]针对上述问题，目前尚未有有效的技术解决方案。
技术实现思路
[0005]本申请的目的在于提供一种外延设备的反应工况调节方法、装置、系统及电子设备，能及时地进行反应室内反应工况的动态反馈调节，以使反应室内的晶体生长情况满足预期需求。
[0006]第一方面，本申请提供了一种外延设备的反应工况调节方法，用于调节外延设备的反应室内反应工况以进行晶体生长，所述方法包括以下...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种外延设备的反应工况调节方法，用于调节外延设备的反应室内反应工况以进行晶体生长，其特征在于，所述方法包括以下步骤：实时获取所述外延设备的反应室的尾气浓度信息；根据所述尾气浓度信息调节所述反应室内的温度和/或所述反应室内反应气体的流量。2.根据权利要求1所述的一种外延设备的反应工况调节方法，其特征在于，所述实时获取所述外延设备的反应室的尾气浓度信息的步骤包括：实时获取在预设浓度范围外的尾气浓度信息。3.根据权利要求2所述的一种外延设备的反应工况调节方法，其特征在于，所述预设浓度范围根据所述晶体的预期生长速率设定。4.根据权利要求1所述的一种外延设备的反应工况调节方法，其特征在于，所述尾气浓度信息包括主反应气体浓度信息和/或反应后气体浓度信息。5.根据权利要求1所述的一种外延设备的反应工况调节方法，其特征在于，所述根据所述尾气浓度信息调节所述反应室内的温度和/或所述反应室内反应气体的流量的步骤包括：根据所述尾气浓度信息以预设的调节间隔调节所述反应室内的温度和/或所述反应室内反应气体的流量，和/或以预设的调节幅度调节所述反应室内的温度和/或所述反应室内反应气体的流量。6.根据权利要求5所述的一种外延设备的反应工况调节方法，其特征在于，预设的所述调节间隔为3
‑
8分钟。7.一种外延设备的反应工况调节装置，用于调节外延设备的反应...
【专利技术属性】
技术研发人员：戴科峰，仇礼钦，唐卓睿，黄吉裕，罗骞，
申请(专利权)人：季华实验室，
类型：发明
国别省市：
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