真空吸附平台制造技术

本实用新型专利技术公开一种真空吸附平台。所述真空吸附平台包括平台本体，所述平台本体设有吸附面，所述吸附面设置有吸附孔和通气孔；其中，所述吸附孔用于与真空发生装置连接；所述平台本体在其异于所述吸附面的表面还设置有泄气孔，所述泄气孔用于将所述通气孔与大气环境连通。本实用新型专利技术的真空吸附平台，能够便于转移导光板。导光板。导光板。

【技术实现步骤摘要】
真空吸附平台


[0001]本技术涉及真空吸附
，特别涉及一种真空吸附平台。

技术介绍

[0002]导光板经裁切成型后，导光板的侧边通常不够光滑，需要对导光板的侧边进行抛光。抛光时，需要通过真空吸附平台来吸附导光板，以将导光板固定，从而便于对导光板的侧边进行抛光。抛光完成后，关闭真空吸附平台，通过机械手将导光板从真空吸附平台上转移出去，但此时导光板的侧面与真空吸附平台的吸附面之间为负压，大气压将导光板压在真空吸附平台上，导致导光板难以被转移。

技术实现思路

[0003]本技术的主要目的是提出一种真空吸附平台，旨在便于转移吸附面上的导光板。
[0004]为实现上述目的，本技术提出的真空吸附平台。所述真空吸附平台包括平台本体，所述平台本体设有吸附面，所述吸附面设置有吸附孔和通气孔；其中，所述吸附孔用于与真空发生装置连接；所述平台本体在其异于所述吸附面的表面还设置有泄气孔，所述泄气孔用于将所述通气孔与大气环境连通。
[0005]可选的，所述泄气孔设置在所述平台本体的底面；所述平台本体内部还设有连通通道，所述连通通道沿上下方向延伸，以将所述通气孔与所述泄气孔连通。
[0006]可选的，所述平台本体的底面设有沉槽，所述泄气孔设置在所述沉槽内。
[0007]可选的，所述通气孔的数量为多个；多个所述通气孔沿所述吸附面的宽度方向间隔排布；或者，多个所述通气孔沿所述吸附面的长度方向间隔排布。
[0008]可选的，所述通气孔的孔径为2.5mm
‑
3.5mm。/>[0009]可选的，在同一方向上间隔排布的所述通气孔，相邻的所述通气孔之间的间距为8mm
‑
10mm。
[0010]可选的，所述吸附孔的数量为多个，多个所述吸附孔包括设置在所述吸附面的周边的第一吸附孔，以及设置于所述吸附面的中部的第二吸附孔。
[0011]可选的，多个所述通气孔分设在所述第二吸附孔的两侧。
[0012]可选的，多个所述第二吸附孔沿所述吸附面的宽度方向间隔排布；或者，多个所述第二吸附孔沿所述吸附面的长度方向间隔排布。
[0013]可选的，所述平台本体还设有进气通道；所述吸附孔与所述进气通道连通，以通过所述进气通道与所述真空发生装置连接。
[0014]可选的，所述平台本体包括基板、以及凸设于所述基板上的吸附凸台，所述吸附面设置于所述吸附凸台的顶面。
[0015]本技术技术方案，通过在吸附面上设置通气孔，还在平台本体异于吸附面的表面设置泄气孔，并通过泄气孔将通气孔与大气环境连通，以在真空发生装置停止时，空气
能够从泄气孔、通气孔进入至导光板的侧面与吸附面之间，从而消除导光板的侧面与吸附面之间的负压，以便于将导光板从吸附面上转移。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0017]图1为本技术真空吸附平台一实施例的结构示意图；
[0018]图2为图1中的真空吸附平台的正视图；
[0019]图3为图2中沿剖面线A
‑
A的剖视图；
[0020]图4为图2中沿剖面线B
‑
B的剖视图；
[0021]图5为图2中沿剖面线C
‑
C的剖视图；
[0022]图6为图2的仰视图；
[0023]图7为图6中沿剖面线D
‑
D的剖视图；
[0024]图8为图2的后视图。
[0025]附图标号说明：
[0026]标号名称标号名称100真空吸附平台20吸附孔10平台本体21第一吸附孔11吸附面22第二吸附孔12沉槽30通气孔13基板31泄气孔14吸附凸台32连通通道15连接孔40进气通道16第一安装孔41第一进气通道17第二安装孔42第二进气通道18定位孔
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[0027]本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0028]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]需要说明，若本技术实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0030]另外，若本技术实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第
二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本技术要求的保护范围之内。
[0031]本技术提出一种真空吸附平台100，用于吸附导光板，以将导光板固定，从而便于抛光装置对导光板的侧边进行抛光。
[0032]在本技术实施例中，如图1
‑
图3所示，所述真空吸附平台100包括平台本体10，所述平台本体10设有吸附面11，所述吸附面11设置有吸附孔20和通气孔30；其中，所述吸附孔20用于与真空发生装置连接；所述平台本体10在其异于所述吸附面11的表面还设置有泄气孔31，所述泄气孔31用于将所述通气孔30与大气环境连通。
[0033]具体地，平台本体10可以呈板状，也可以呈平板上凸设有凸台的形状，平台本体10用于将真空吸附平台100安装在抛光装置的安装座上。吸附面11的面积可以与平台本体10的上表面的面积相等，也可以小于平台本体10的上表面面积。吸附面11的形状与导光板的形状相同，吸附面11用于吸附以及承载导光板。吸附孔20沿上下方向延伸设置；吸附孔20与真空发生装置相连，为吸附导光板提供吸附力。
[0034]所述泄气孔31设置在所述平台本体10的异于所述吸附面11的表面上；其中，所述平台本体10的异于所述吸附面11的表面，应当指的是平台本体10上的不同且不属于吸附面11的表面，例如平台本体10的侧面或底面或低于吸附面11的其他表面。
[0035]本技术的技术方案，通过在吸附面11上设置通气孔，还在平台本体10异于吸附面11本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空吸附平台，其特征在于，包括平台本体，所述平台本体设有吸附面，所述吸附面设置有吸附孔和通气孔；其中，所述吸附孔用于与真空发生装置连接；所述平台本体在其异于所述吸附面的表面还设置有泄气孔，所述泄气孔用于将所述通气孔与大气环境连通。2.如权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，所述泄气孔设置在所述平台本体的底面；所述平台本体内部还设有连通通道，所述连通通道沿上下方向延伸，以将所述通气孔与所述泄气孔连通。3.如权利要求2所述的真空吸附平台，其特征在于，所述平台本体的底面设有沉槽，所述泄气孔设置在所述沉槽内。4.如权利要求1
‑
3任一项所述的真空吸附平台，其特征在于，所述通气孔的数量为多个；多个所述通气孔沿所述吸附面的宽度方向间隔排布；或者，多个所述通气孔沿所述吸附面的长度方向间隔排布。5.如权利要求4所述的真空吸附平台，其特征在于，所述通气孔的孔径为2.5mm
‑
3.5mm；和/或，在同一方向上间隔排布的...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕金峰，潘灿彬，刘基，潘连兴，
申请(专利权)人：万载南极光电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：