一种SiC/SiC复合材料高致密多层基体及制备方法技术

技术编号:31238243 阅读:34 留言:0更新日期:2021-12-08 10:24
本发明专利技术涉及一种SiC/SiC复合材料高致密多层基体及制备方法,将配置好的SiC颗粒(SiC

【技术实现步骤摘要】
一种SiC/SiC复合材料高致密多层基体及制备方法


[0001]本专利技术属于复合材料的制备方法,涉及一种SiC/SiC复合材料高致密多层基体及制备方法。

技术介绍

[0002]SiC/SiC复合材料因其耐高温、耐磨损、耐腐蚀、高比强度、高比模量、高韧性、抗蠕变等诸多优点,在航空航天热结构部件等领域具有巨大的应用前景。随着我国航空航天事业的不断发展,发动机推重比逐渐提高,高的涵道比、总压比不断提高,更高服役温度,更高应力要求以及腐蚀性环境,对发动机热端结构部件用SiC/SiC复合材料提出更高强韧性、更高损伤容限,以及更高致密度要求。材料的制备工艺决定其微结构与性能,亟待发展先进工艺方法制备高致密高强韧SiC/SiC复合材料来应对新的挑战。
[0003]SiC/SiC的制备方法包括CVI(化学气相渗透)、PIP(先驱体浸渍裂解)、MI(熔体浸渗)、RMI(反应熔体浸渗)和组合工艺。CVI和PIP法制备的复合材料存在较大的开气孔率(10%~15%),高温腐蚀性环境下易失效,不满足高致密的要求;MI制备的复合材料存在大量残余硅(~13%)力学本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种SiC/SiC复合材料高致密多层基体,包括SiC纤维、BN和CVI SiC;其特征在于:SiC颗粒层为CVI SiC外第一层结构,SiC颗粒层外部为由溶解

析出机理获得SiC反应阻挡层和由扩散机理控制形成SiC反应扩散层,然后依次为SiC纳米晶组成的Si薄层包裹SiC颗粒层、阻挡层和扩散层,最外层为SiC粗晶层;所述SiC颗粒层包含由浸渍获得的贴壁分布的SiC
P
、由CVI沉积在CVI SiC表面的PyC反应生成的层状SiC
R
和PyC溶解析出形成的SiC纳米晶和Si;所述SiC粗晶层由微米级颗粒填孔获得。2.一种权利要求1所述SiC/SiC复合材料高致密多层基体的制备方法,其特征在于步骤如下:步骤1、多孔SiC/SiC复材的制备:采用CVI工艺在编织后的SiC纤维上沉积BN界面,再采用CVI工艺沉积SiC基体至半致密化状态,得多孔SiC/SiC复材;步骤2、配置300~500nm SiC颗粒水基浆料:将质量分数为0.5~1.0wt.%四甲基氢氧化铵TMAH和体积分数为3~5vol.%的SiC颗粒加入到去离子水中,球磨后获得均匀分散浆料;步骤3、300~500nmSiC颗粒水基浆料的浸渍:真空浸渍:将多孔SiC/SiC复材放入玻璃干燥皿中,抽真空至玻璃皿内压力低于0.09Mpa,保持10~20min后,将SiC/SiC复材浸入步骤2获得的浆料中保持10~15min;压力浸渍:将多孔SiC/SiC复材连同浆料放入密闭容器中加压0.8Mp...

【专利技术属性】
技术研发人员:成来飞叶昉郭广达宋超坤张立同
申请(专利权)人:西北工业大学
类型:发明
国别省市:

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