铝电解电容器的制作方法技术

一种电解电容器的制作方法，涉及铝电解电容器的制作方法。制作方法包括：选择正态分布孔洞直径为０．０５微米以上的铝箔作为电容的负极箔；卷制素子；将素子安装在外壳内，加入电解液。其中负极箔的制作包括以下步骤：选择中高压腐蚀铝箔；化成处理，化成电压为１～２５０ＶＦ。或者选择１０～２０Ｈｚ交流条件下腐蚀，化成电压１～５０ＶＦ。本发明专利技术使铝箔的孔洞结构改变，可提高使用该材料铝箔电容器的性能，并且极大程度上降低了产品的性价比。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。技术背景现有的铝电解电容器应用广泛。生产制造企业有多家，如东阳光、南晖、三鑫天尼、东联盛、日本JCC、日本KDK等等企业。现有的制造工艺主要关 注点在正极箔，通过提高正极箔的性能来提高电容器的性能。由于正极箔材 料的限制，导致电容器性能的提高不易达到。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提t共一种提高电容器性能的。本专利技术的目的可以这样实现，设计一种，包括 以下步骤A、 选择正态分布孔洞直径为0.05微米以上的铝箔作为电容的负极箔；B、 巻制素子；C、 将素子安装在外壳内，加入电解液。本专利技术解决了因纹波电流和充放电引起的负极引出处离子富集现象以及 局部发热现象，并减少电解液中离子堵塞引起的碰撞发热问题。提高电容器 储能充放电性能、提高电容抗大波纹电流能力、提高电容在半波功率补偿能 力。具体实施方式以下结合实施例对本专利技术作进一步的描述。一种，包括以下步骤A、 选择正态分布孔洞直径为0.05微米以上的铝箔作为电容的负极箔；B、 巻制素子；c、将素子安装在外壳内，加入电解液。选择化成电压为1 150VF化成处理生产的正态分布孔洞直径为0.2微米 以上的中高压腐蚀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种铝电解电容器的制作方法，其特征在于包括以下步骤：　　　　Ａ、选择正态分布孔洞直径为０．０５微米以上的铝箔作为电容的负极箔；　　　　Ｂ、卷制素子；　　　　Ｃ、将素子安装在外壳内，加入电解液。

【技术特征摘要】
CN 2007-4-19 2007100740608;CN 2007-8-3 200710075381. 一种铝电解电容器的制作方法，其特征在于包括以下步骤A、选择正态分布孔洞直径为0.05微米以上的铝箔作为电容的负极箔；B、卷制素子；C、将素子安装在外壳内，加入电解液。2、 根据权利要求l所述的铝电解电容器的制作方法，其特征在于选择化成电压为1 150VF化成处理生产的正态分布孔洞直径为0.2微米以上的 中高压腐蚀铝箔作为电容的负极箔。3、 根据权利要求2所述的铝电解电容器的制作方法，其特征在于所 述化成处理时间在10分钟至2小时之间。4、 根据权利要求2所述的铝电解电容器的制作方法，其特征在于所 述化成处理所需的电流密度为5 50mA/c...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱健雄，
申请(专利权)人：朱健雄，
类型：发明
国别省市：33[中国|浙江]