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平面衍射透镜、平面衍射透镜制造方法及光学成像系统技术方案

技术编号:31160187 阅读:40 留言:0更新日期:2021-12-04 10:24
本发明专利技术的一种平面衍射透镜、平面衍射透镜制造方法及光学成像系统,包括能够透光的基底及不透光的金属薄膜,金属薄膜具有基底两侧且对称分布的半环带组,位于基底一侧的半环带组与位于基底另一侧的半环带组之间有切角,两组半环带组均包括若干层同心椭圆半环带,相邻两层同心椭圆半环带间均间隔一层能够透光的空气层。该平面衍射透镜结构简单,制造成本低,且经过该平面衍射透镜光束能够在焦平面产生均匀亚波长横向光针光场(线光源)。匀亚波长横向光针光场(线光源)。匀亚波长横向光针光场(线光源)。

【技术实现步骤摘要】
平面衍射透镜、平面衍射透镜制造方法及光学成像系统


[0001]本专利技术涉及信息光学和光场调控
,特别是涉及一种平面衍射透镜、平面衍射透镜制造方法及光学成像系统。

技术介绍

[0002]光学显微成像技术在现代科学研究和生产生活中发挥着不可替代的作用。在显微成像技术的众多特征中,光学分辨率是最核心的性能指标,而其中光学透镜的性能是制约系统分辨率的关键因素。受限于光的波动特性的本质,基于传统光学透镜构建的显微成像系统始终无法突破由阿贝衍射极限和瑞利判据所决定的分辨率极限。此外,基于光学折射原理的传统透镜还具有体积大,价格高,不利于系统集成的缺点。
[0003]当前光学技术的发展,表现出了向轻量化和平面化发展的趋势,其典型代表就是由二维衍射光学透镜代替传统的三维体材料折射透镜来实现对光场的调制和成像应用。衍射透镜的研究日益成为当前光学理论和光学工程方向的前沿领域。作为衍射光学元件的典型代表,同心圆环波带片型的衍射透镜具有二维平面构型,尺寸紧凑,重量轻的诸多优点,在高端光学成像系统里被广泛应用。此外,衍射光学原理为人们提供了一种高度自由的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种平面衍射透镜,该所述平面衍射透镜用于产生超越衍射极限的线光源,其特征在于,包括:能够透光的基底;及不透光的金属薄膜,所述金属薄膜覆盖于所述基底的一面,所述金属薄膜具有位于所述基底两侧且对称分布的半环带组,位于所述基底一侧的所述半环带组与位于所述基底另一侧的所述半环带组之间有切角,两组所述半环带组均包括若干层同心椭圆半环带,相邻两层所述同心椭圆半环带间均间隔一层能够透光的空气层。2.根据权利要求1所述的平面衍射透镜,其特征在于,每一层所述同心椭圆半环带均具有长轴和短轴,每一层所述同心椭圆半环带的长轴与每一层所述同心椭圆半环带的短轴比值范围均是[1.1~1.4]。3.根据权利要求2所述的平面衍射透镜,其特征在于,位于最外侧的所述同心椭圆半环带的短轴长度范围是50μm。4.根据权利要求1所述的平面衍射透镜,其特征在于,所述切角范围是[0
°
,60
°
]。5.根据权利要求1所述的平面衍射透镜,其特征在于,两组所述半环带组均包括40层所述同心椭圆半环带。6.根据权利要求5所述的平面衍射透镜,其特征在于,每一层所述同心椭圆半环带的环带宽度范围均是[400nm,900nm]。7.一种平面衍射透镜制造方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S71、使基底的一面覆盖一层光刻胶层;步骤S72、对所述光刻...

【专利技术属性】
技术研发人员:秦飞雷健李向平
申请(专利权)人:暨南大学
类型:发明
国别省市:

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