半导体工业废水一体化处理系统技术方案

本实用新型专利技术涉及半导体工业废水一体化处理系统，包括箱体，所述箱体内开设有处理腔和容纳槽，所述容纳槽位于所述处理腔的正下方，所述箱体的顶端固定设有沉淀箱，所述沉淀箱的一侧顶端固定设有泵体，所述泵体的输入端固定连接有抽水管，所述抽水管的底端延伸至所述沉淀箱内，所述泵体的输出端固定连接有送水管，所述送水管的底端延伸至所述处理腔内，所述处理腔内的中部固定设有过滤网，所述处理腔的下侧内壁上对称固定设有紫外线照射灯，所述箱体的一侧顶端固定设有加液管，所述加液管的底端延伸至所述处理腔内，本实用新型专利技术有效的降低了设备的生产成本，同时可以有效的对污水中产生的气体进行过滤，进而避免气体直接排放污染环境。境。境。

【技术实现步骤摘要】
半导体工业废水一体化处理系统


[0001]本技术涉及半导体工业废水一体化处理系统，属于工业废水处理设备


技术介绍

[0002]工业废水包括生产废水、生产污水及冷却水，是指工业生产过程中产生的废水和废液，其中含有随水流失的工业生产用料、中间产物、副产品以及生产过程中产生的污染物，工业废水种类繁多，成分复杂，例如电解盐工业废水中含有汞，重金属冶炼工业废水含铅、镉等各种金属，电镀工业废水中含氰化物和铬等各种重金属，石油炼制工业废水中含酚，农药制造工业废水中含各种农药等，由于工业废水中常含有多种有毒物质，污染环境对人类健康有很大危害。
[0003]工业废水在排放前需要对其进行处理，但现有的污水处理装置较为复杂繁琐，使得装置成本较高，且废水处理时产生的气体直接排放至大气中，进而导致环境污染。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供半导体工业废水一体化处理系统，本技术结构简单，使用方便，有效的降低了设备的生产成本，同时可以有效的对污水中产生的气体进行过滤，进而避免气体直接排放污染环境，以解决上述背景技术中提出的问题。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.半导体工业废水一体化处理系统，包括箱体（1），其特征在于：所述箱体（1）内开设有处理腔（2）和容纳槽（3），所述容纳槽（3）位于所述处理腔（2）的正下方，所述箱体（1）的顶端固定设有沉淀箱（4），所述沉淀箱（4）的一侧顶端固定设有泵体（5），所述泵体（5）的输入端固定连接有抽水管（6），所述抽水管（6）的底端延伸至所述沉淀箱（4）内，所述泵体（5）的输出端固定连接有送水管（7），所述送水管（7）的底端延伸至所述处理腔（2）内，所述处理腔（2）内的中部固定设有过滤网（8），所述处理腔（2）的下侧内壁上对称固定设有紫外线照射灯（9），所述箱体（1）的一侧顶端固定设有加液管（10），所述加液管（10）的底端延伸至所述处理腔（2）内，所述箱体（1）靠近所述加液管（10）的一侧上部外壁上固定设有曝气装置（11），所述曝气装置（11）的输出端固定连接有送气管（12），所述送气管（12）的底端延伸至所述处理腔（2）内且固定连接有输气管（13），所述输气管（13）的另一侧阵列固定设有多个曝气管（14），所述箱体（1）远离所述加液管（10）的一侧顶端固定设有排气管一（15），所述排气管一（15）的另一端固定连接有过滤...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡健，
申请(专利权)人：苏州市咏盛系统工程有限公司，
类型：新型
国别省市：