镀膜设备制造技术

本发明专利技术的实施例提供了一种镀膜设备，包括：等离子体组件，包括：第一电极组件；第二电极组件，与第一电极组件的间隙形成沉积空间，物料位于沉积空间；热丝组件，用于利用温度场使反应物分解。本发明专利技术的技术方案中，同时采用等离子体增强化学气相沉积和热丝化学气相沉积工艺对硅片进行镀膜，热丝组件能够减弱离子轰击的副作用，降低由于离子轰击导致膜层产生缺陷的可能性，且热丝组件的无离子轰击作用有利于提高沉积薄膜的质量，结合第一电极组件和第二电极组件的等离子体增强的作用，薄膜的沉积面积均匀性好，降低了热丝本身镀膜的可能性，有利于实现太阳能电池的规模化生产，达到高速沉积微晶硅和纳米硅的目的，提高产品质量。量。量。

【技术实现步骤摘要】
镀膜设备


[0001]本专利技术的实施例涉及异质结太阳能电池生产
，具体而言，涉及一种镀膜设备。

技术介绍

[0002]相关技术的等离子体增强化学气相沉积工艺中，由于需要发射中频或射频(RF)，镀膜过程中离子会对沉积的薄膜进行轰击，虽然随着等离子体射频频率的提高，离子轰击能力逐渐降低，但是依然会存在，且等离子体射频频率提高的副作用是有效的均匀面积减少。
[0003]此外，相关技术的热丝化学气相沉积工艺中，虽然没有离子轰击的副作用，但是其成膜均匀性受到自身热丝特性的限制，热丝自身也会被镀膜从而导致镀膜稳定性受到影响，难以做到大面积的均匀性和规模生产。

技术实现思路

[0004]为了解决上述技术问题至少之一，本专利技术的实施例的目的在于提供一种镀膜设备。
[0005]为实现上述目的，本专利技术的实施例提供了一种镀膜设备，包括：等离子体组件，包括：第一电极组件；第二电极组件，与第一电极组件极性相反，第二电极组件与第一电极组件的间隙形成沉积空间；热丝组件，设于第一电极组件与第二电极组件之间，或热丝组件绕设于第一电极本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备(100)，其特征在于，包括：第一电极组件(111)；第二电极组件(112)，与所述第一电极组件(111)极性相反，所述第二电极组件(112)与所述第一电极组件(111)的间隙形成沉积空间(113)；热丝组件(120)，设于所述第一电极组件(111)与所述第二电极组件(112)之间，或所述热丝组件(120)绕设于所述第一电极组件(111)以及所述第二电极组件(112)的外周，所述热丝组件(120)用于利用温度场使反应物分解，其中，物料(200)位于所述沉积空间(113)内，所述物料(200)与所述第一电极组件(111)平行，且所述物料(200)与所述第二电极组件(112)平行。2.根据权利要求1所述的镀膜设备(100)，其特征在于，所述镀膜设备(100)为板式结构，所述热丝组件(120)包括：安装框架(121)，设于所述沉积空间(113)；加热丝(122)，穿设于所述安装框架(121)。3.根据权利要求2所述的镀膜设备(100)，其特征在于，所述加热丝(122)的数量为多个，多个所述加热丝(122)平行设置。4.根据权利要求3所述的镀膜设备(100)，其特征在于，多个所述加热丝(122)首尾相连。5.根据权利要求1所述的镀膜设备(100)，其特征在于，所述镀膜设备(100)为筒式结构，所述镀膜设备(100)还包括：筒体(130)，所述第一电极组件(111)与所述第二电极组件(112)均设于所述筒体(130)内部，所述物料(200)能够沿所述筒体(130)的长度方向运动。6.根据权利要求5所述的镀膜设备(100)，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，梁建军，杨虎，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：发明
国别省市：