一种光刻机上台面板位置调节方法、调节机构及光刻机技术

本发明专利技术涉及光刻机技术领域，更具体地说，它涉及一种光刻机上台面板位置调节方法以及应用该调节方法的调节机构和光刻机，其中，上述的上台面板位置调节方法包括以下步骤：分别测量上台面板的各个角与光刻机下台面板之间的距离；以上台面板的一个角与下台面板之间的距离为基准，将上台面板其它角与下台面板之间的距离分别与该基准进行比较，并根据比较结果对上台面板所述其它角的位置进行调节，使上台面板的各个角与下台面板之间的距离一致。根据本发明专利技术的技术方案，其可以对上台面板各个角的位置进行调节，当上台面板的各个角与下台面板之间的距离一致时，可以使上台面板与下台面板平行，从而上台面板上的掩模板与下台面板上的晶圆也平行。晶圆也平行。晶圆也平行。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻机上台面板位置调节方法、调节机构及光刻机


[0001]本专利技术涉及光刻机
，特别涉及一种光刻机上台面板位置调节方法以及应用该调节方法的调节机构和光刻机。

技术介绍

[0002]光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩模板上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。
[0003]现有的光刻机包括上台面板和下台面板，掩模板固定在上台面板上，晶圆放置在下台面板上，为了提高加工精度，一般要求掩模板与晶圆平行，故如何保证掩模板与晶圆平行成了本领域急需解决的技术问题。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术提供一种光刻机上台面板位置调节方法以及应用该调节方法的调节机构和光刻机，主要所要解决的技术问题是：如何保证上台面板上的掩模板与下台面板上的晶圆平行。
[0005]为达到上述目的，本专利技术主要提供如下技术方案。
[0006]一方面，本专利技术的实施例提供一种光刻机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻机上台面板位置调节方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：分别测量上台面板(6)的各个角与光刻机下台面板(9)之间的距离；步骤S2：以上台面板(6)的一个角与下台面板(9)之间的距离为基准，将上台面板(6)其它角与下台面板(9)之间的距离分别与该基准进行比较，并根据比较结果对上台面板(6)所述其它角的位置进行调节，使上台面板(6)的各个角与下台面板(9)之间的距离一致。2.根据权利要求1所述的光刻机上台面板位置调节方法，其特征在于，所述上台面板(6)具有四个角，所述步骤S2具体为：以上台面板(6)的四个角中与下台面板(9)之间的最大距离Lmax作为基准，上台面板(6)的其它三个角与下台面板(9)之间的距离分别为M1、M2和M3，分别升高上台面板(6)的该其它三个角，该其它三个角各自升高的距离分别为L1、L2和L3；其中，Ln=Lmax
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Mn，n为1、2或3。3.根据权利要求1所述的光刻机上台面板位置调节方法，其特征在于，所述上台面板(6)具有四个角，所述步骤S2具体为：以上台面板(6)的四个角中与下台面板(9)之间的最小距离Lmin作为基准，上台面板(6)的其它三个角与下台面板(9)之间的距离分别为M1、M2和M3，分别降低上台面板(6)的该其它三个角，该其它三个角各自降低的距离分别为L1、L2和L3；其中，Ln= Mn
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Lmin，n为1、2或3。4.一种光刻机上台面板位置调节机构，其特征在于，包括机架(5)、传感器(8)、控制器和驱动机构，所述上台面板(6)可浮动地设置在所述机架(5)上；所述传感器(8)用于分别测量上台面板(6)的各个角与光刻机下台面板(9)之间的距离；所述控制器用于以上台面板(6)的一个角与下台面板(9)...

【专利技术属性】
技术研发人员：霍锦充，
申请(专利权)人：东莞王氏港建机械有限公司，
类型：发明
国别省市：