一种用于无创清洗的射流发射器组件制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于无创清洗的射流发射器组件，其构成包括有射流等离子体发生器、激振超声波发射头及可拼装式组合支架，其特点是，射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔地设置于可拼装式组合支架。射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔、或呈一字形、或呈三角形设置于可拼装式组合支架。本实用新型专利技术将等离子体发生器与激振超声波发射头组合为一体，同时工作，增加了等离子体工作气体射流的速度和压力，增加了工作气体与被清洗物品表面的作用时间和作用力，从而提升了清洗效率和效果。采用可拼装式组合支架来组装构建组件，使清洗设备技术参数的调整方便灵活，扩大了设备清洗应用领域。扩大了设备清洗应用领域。扩大了设备清洗应用领域。

【技术实现步骤摘要】
一种用于无创清洗的射流发射器组件


[0001]本技术涉及一种低温等离子体清洗设备中的射流发射器组件。

技术介绍

[0002]低温等离子体清洗设备是在常温常压下，完成对半导体封装引线框架、硅晶圆芯片、电子元件、印刷线路板、精密机械零件等清洗。低温等离子体清洗机理是，将高频高压电源施加于低温等离子体发生装置，该发生装置中通入相应工艺要求的介质气体，使装置形成辉光放电，从而电离流经的介质气体，进而产生高能量的无序的等离子体状态工作气体。利用等离子体状态工作气体内的物理高能粒子和化学活性基团作用于被清洗物品的表面，通过化学反应和物理作用达到氧化物还原和污染物清洗目的。
[0003]低温等离子体发生装置是该清洗设备的核心，如何使等离子体状态工作气体有效地作用于被清洗物品的表面，成为低温等离子体发生装置研究改进的一个重要技术目标。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提供一种低温等离子体射流发射器组件。
[0005]为实现上述目的，本技术的技术方案是， 一种用于无创清洗的射流发射器组件，其构成包括有射流等离子体发生器、激本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于无创清洗的射流发射器组件，其构成包括有射流等离子体发生器、激振超声波发射头及可拼装式组合支架，其特征在于：所述射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔地设置于可拼装式组合支架。2.根据权利要求1所述的一种用于无创清洗的射流发射器组件，其特征在于：射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔、呈一字形设置于可拼装式组合支架。3.根据权利要求1所述的一种用于无创清洗的射流发射器组件，其特征在于：射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔、呈三角形设置于可拼装式组合支架。4.根据权利要求1或2或3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：程宇宸，程方，
申请(专利权)人：南京华科皓纳电气科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：