一种用于无创清洗的射流发射器组件制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于无创清洗的射流发射器组件，其构成包括有射流等离子体发生器、激振超声波发射头及可拼装式组合支架，其特点是，射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔地设置于可拼装式组合支架。射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔、或呈一字形、或呈三角形设置于可拼装式组合支架。本实用新型专利技术将等离子体发生器与激振超声波发射头组合为一体，同时工作，增加了等离子体工作气体射流的速度和压力，增加了工作气体与被清洗物品表面的作用时间和作用力，从而提升了清洗效率和效果。采用可拼装式组合支架来组装构建组件，使清洗设备技术参数的调整方便灵活，扩大了设备清洗应用领域。扩大了设备清洗应用领域。扩大了设备清洗应用领域。

【技术实现步骤摘要】
一种用于无创清洗的射流发射器组件


[0001]本技术涉及一种低温等离子体清洗设备中的射流发射器组件。

技术介绍

[0002]低温等离子体清洗设备是在常温常压下，完成对半导体封装引线框架、硅晶圆芯片、电子元件、印刷线路板、精密机械零件等清洗。低温等离子体清洗机理是，将高频高压电源施加于低温等离子体发生装置，该发生装置中通入相应工艺要求的介质气体，使装置形成辉光放电，从而电离流经的介质气体，进而产生高能量的无序的等离子体状态工作气体。利用等离子体状态工作气体内的物理高能粒子和化学活性基团作用于被清洗物品的表面，通过化学反应和物理作用达到氧化物还原和污染物清洗目的。
[0003]低温等离子体发生装置是该清洗设备的核心，如何使等离子体状态工作气体有效地作用于被清洗物品的表面，成为低温等离子体发生装置研究改进的一个重要技术目标。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提供一种低温等离子体射流发射器组件。
[0005]为实现上述目的，本技术的技术方案是， 一种用于无创清洗的射流发射器组件，其构成包括有射流等离子体发生器、激振超声波发射头及可拼装式组合支架，其特征在于：所述射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔地设置于可拼装式组合支架。
[0006]在上述技术方案中，射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔、呈一字形设置于可拼装式组合支架。
[0007]在上述技术方案中，射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔、呈三角形设置于可拼装式组合支架。
[0008]在上述技术方案中，所述的射流等离子体发生器为同时输入主射流气体和辅助气体，在常温常压下产生低温等离子体。
[0009]在上述技术方案中，所述主射流气体为惰性气体，所述辅助气体为用于氧化反应的氧气或用于还原反应的氢气。
[0010]在上述技术方案中，所述激振超声波发射头为开口式空气能量输出型。
[0011]在上述技术方案中，所述空气能量为流量可调的压缩空气。
[0012]本技术的优点是，将等离子体发生器与激振超声波发射头组合为一体，同时工作，增加了等离子体工作气体射流的速度和压力，增加了工作气体与被清洗物品表面的作用时间和作用力，从而提升了清洗效率和效果。采用可拼装式组合支架来组装构建组件，使清洗设备技术参数的调整方便灵活，扩大了设备清洗应用领域。
附图说明
[0013]图1是本技术实施例一，等离子体发生器和激振超声波发射头呈一字形排列的射流发射器组件结构示意图。
[0014]图2是本技术实施例二，等离子体发生器和激振超声波发射头呈三角形排列的射流发射器组件结构示意图。
[0015]以上附图中，1是可拼装式组合支架，2是等离子体发生器，3是激振超声波发射头，4是可拼装式组合支架，5是等离子体发生器，6是激振超声波发射头。
具体实施方式
[0016]实施例一、本实施例为等离子体发生器和激振超声波发射头呈一字形排列的射流发射器组件，其结构如附图1所示。
[0017]在本实施例中，等离子体发生器2与激振超声波发射头3呈一字形间隔安装于可拼装式组合支架1。等离子体发生器2与激振超声波发射头3的数量比例为五比四。惰性气体为其主射流气体，氢气为其辅助气体，主射流气体和辅助气体混合后送入到等离子发生器放电极附近，通过辉光放电，形成等离子体状态工作气体束流，与此同时，开口式空气能量输出型激振超声波发射头3通入流量可调的压缩空气，也形成压缩空气流，等离子体状态工作气体射流和激振超声波发射头的压缩空气流一并喷射到被清洗物品表面，利用等离子体状态工作气体内的物理高能粒子和化学活性基团作用于被清洗物品的表面，通过化学反应和物理作用达到氧化物还原和污染物清洗目的。
[0018]实施例二、本实施例为等离子体发生器和激振超声波发射头呈三角形排列的束流发射器组件，其结构如附图2所示。
[0019]在本实施例中，等离子体发生器5与激振超声波发射头6呈三角形间隔安装于可拼装式组合支架4。
[0020]本实施例中，射流发射器件等离子体状态工作气体和激振超声波发射头的压缩空气流的作用范围较大。
[0021]本实施例中，等离子体发生器5与激振超声波发射头6的数量比例为五比二。本实施例射流发射器件等离子体状态工作气体浓度与相应提高。
[0022]本实施例中，惰性气体为其主射流气体，氧气为其辅助气体，用以清洗表面污染物（如，油污等）。本实施例清洗机理如实施例一，不重复叙述。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于无创清洗的射流发射器组件，其构成包括有射流等离子体发生器、激振超声波发射头及可拼装式组合支架，其特征在于：所述射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔地设置于可拼装式组合支架。2.根据权利要求1所述的一种用于无创清洗的射流发射器组件，其特征在于：射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔、呈一字形设置于可拼装式组合支架。3.根据权利要求1所述的一种用于无创清洗的射流发射器组件，其特征在于：射流等离子体发生器、激振超声波发射头彼此间隔、呈三角形设置于可拼装式组合支架。4.根据权利要求1或2或3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：程宇宸，程方，
申请(专利权)人：南京华科皓纳电气科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：