一种清洗用的真空射频电极制造技术

本实用新型专利技术公开了一种清洗用的真空射频电极，包括真空室，所述真空室内设置有真空箱，所述真空室一侧设置有混汽罐，混汽罐与所述真空箱通过连接管连通，所述真空箱内设置有射频管，射频管的侧壁与所述连接管连通，所述射频管的一侧壁设置有出料管，出料管贯穿所述真空箱，并延伸至所述真空室内，射频管内设置有介质管，所述介质管内设置有绝缘支柱，介质管的内侧壁上设置有水冷RF电感，所述水冷RF电感贯穿所述绝缘支柱的侧壁，且延伸至所述绝缘支柱内，所述真空箱一侧设置有真空负偏压。本实用新型专利技术通过等离子清洗并不会破坏被处理的材料或者产品的固有特性，因而不会影响玻璃的正常使用，具有很好的保护效果，对环境零污染。对环境零污染。对环境零污染。

【技术实现步骤摘要】
一种清洗用的真空射频电极


[0001]本技术涉及玻璃清洗技术设备领域，具体涉及一种清洗用的真空射频电极。

技术介绍

[0002]传统的清洗工艺一般是采用洗涤溶液清洗、酸清洗、去离子水清洗和超声波清洗，这些清洗手段都不可避免会带来清洗废液的排放和清洗废液的后续处理问题，这不但会造成环境污染，而且清洗成本较大。

技术实现思路

[0003]为解决上述技术问题，本技术提供以下的技术方案：
[0004]本技术提供了一种清洗用的真空射频电极，
[0005]包括真空室，所述真空室内设置有真空箱，所述真空室一侧设置有混汽罐，所述混汽罐与所述真空箱通过连接管连通，所述真空箱内设置有射频管，所述射频管的侧壁与所述连接管连通，所述射频管的一侧壁设置有出料管，所述出料管贯穿所述真空箱，并延伸至所述真空室内，所述混汽罐内的气体可通过所述连接管输送至所述射频管内，并通过所述出料管输送至所述真空室内，所述射频管内设置有介质管，所述介质管内设置有绝缘支柱，所述介质管的内侧壁上设置有水冷RF电感，所述水冷RF电感贯穿所述绝缘支柱的侧壁，且延伸至所述绝缘支柱内，所述真空箱一侧设置有真空负偏压，所述真空负偏压与所述水冷RF电感之间形成射频电流。
[0006]优选的，所述真空箱一侧设置有带磁铁围板，所述出料管贯穿设置所述带磁铁围板的侧壁。
[0007]优选的，所述真空负偏压与所述出料管之间形成一个通道，所述通道用以放置待清洗的产品。
[0008]优选的，所述混汽罐内的反应气体经真空环境与所述射频电流的作用下，形成等离子形态，从而对产品的表面进行清洗。
[0009]优选的，所述介质管采用陶瓷材质或玻璃材质。
[0010]优选的，所述出料管的横截面设置为三角形结构，所述三角形结构便于增大等离子体的喷射面积。
[0011]本技术有益效果
[0012]操作人员打开混汽罐的开关，混汽罐内的气体通过连接管输送至射频管内，并通过出料管输送至真空室内，再将玻璃置入在真空负偏压与出料管之间的通道内，混汽罐内的反应气体经真空环境与射频电流的作用下，形成等离子形态，通过出料管喷射出从而对玻璃的表面进行清洗，等离子气体与玻璃表面的有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，通过工作气体流将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁的目的，等离子清洗并不会破坏被处理的材料或者产品的固有特性，因而不会影响玻璃的正常使用，具有很好的保护效果，对环境零污染。
附图说明
[0013]图1为本技术结构示意图。
[0014]图2为本技术射频管结构放大图。
[0015]附图标记说明：1
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真空室，2
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真空箱，3
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混汽罐，4
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连接管，5
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射频管，6
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出料管，7
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介质管，8
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绝缘支柱，9
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水冷RF电感，10
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真空负偏压，11
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带磁铁围板。
具体实施方式
[0016]下面将结合本技术的实施例中的附图，对本技术的实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0017]实施例
[0018]如图1
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图2所示，本技术提供了一种清洗用的真空射频电极，
[0019]包括真空室1，所述真空室1内设置有真空箱2，所述真空室1一侧设置有混汽罐3，所述混汽罐3与所述真空箱2通过连接管4连通，所述真空箱2内设置有射频管5，所述射频管5的侧壁与所述连接管4连通，所述射频管5的一侧壁设置有出料管6，所述出料管6贯穿所述真空箱2，并延伸至所述真空室1内，所述混汽罐3内的气体可通过所述连接管4输送至所述射频管5内，并通过所述出料管6输送至所述真空室1内，所述射频管5内设置有介质管7，所述介质管7内设置有绝缘支柱8，所述介质管7的内侧壁上设置有水冷RF电感9，所述水冷RF电感9贯穿所述绝缘支柱8的侧壁，且延伸至所述绝缘支柱8内，所述真空箱2一侧设置有真空负偏压10，所述真空负偏压10与所述水冷RF电感9之间形成射频电流，
[0020]所述真空负偏压10与所述出料管6之间形成一个通道，所述通道用以放置待清洗的产品，在本实施例中，所述产品采用玻璃；
[0021]所述混汽罐3内的反应气体经真空环境与所述射频电流的作用下，形成等离子形态，从而对玻璃的表面进行清洗；
[0022]操作人员打开混汽罐3的开关，混汽罐3内的气体通过连接管4输送至射频管5内，并通过出料管6输送至真空室1内，再将玻璃置入在真空负偏压10与出料管6之间的通道内，混汽罐3内的反应气体经真空环境与射频电流的作用下，形成等离子形态，通过出料管6喷射出从而对玻璃的表面进行清洗，等离子气体与玻璃表面的有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，通过工作气体流将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁的目的，等离子清洗并不会破坏被处理的材料或者产品的固有特性，因而不会影响玻璃的正常使用，具有很好的保护效果，对环境零污染；
[0023]所述真空箱2一侧设置有带磁铁围板11，所述出料管6贯穿设置所述带磁铁围板11的侧壁；
[0024]所述介质管7采用陶瓷材质或玻璃材质；
[0025]所述出料管6的横截面设置为三角形结构，所述三角形结构便于增大等离子体的喷射面积。
[0026]最后应说明的是：以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员
来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗用的真空射频电极，其特征在于，包括真空室，所述真空室内设置有真空箱，所述真空室一侧设置有混汽罐，所述混汽罐与所述真空箱通过连接管连通，所述真空箱内设置有射频管，所述射频管的侧壁与所述连接管连通，所述射频管的一侧壁设置有出料管，所述出料管贯穿所述真空箱，并延伸至所述真空室内，所述混汽罐内的气体可通过所述连接管输送至所述射频管内，并通过所述出料管输送至所述真空室内，所述射频管内设置有介质管，所述介质管内设置有绝缘支柱，所述介质管的内侧壁上设置有水冷RF电感，所述水冷RF电感贯穿所述绝缘支柱的侧壁，且延伸至所述绝缘支柱内，所述真空箱一侧设置有真空负偏压，所述真空负偏压与所述水冷RF电感之间形成射频电流。2.根据权利要求1所述的一种清洗...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘德宝，王金林，
申请(专利权)人：江西华丽丰科技有限公司，
类型：新型
国别省市：