准分子祛除残胶设备制造技术

技术编号:31049203 阅读:13 留言:0更新日期:2021-11-30 06:02
本实用新型专利技术涉及准分子灯照射技术领域,具体来说是一种准分子祛除残胶设备,至少包括一封闭的工作区域,所述工作区域底部为抽拉式的可旋转操作平台;至少一个准分子灯箱,设置于共工作区域顶部;至少一个氮气输入口,用于向工作区域内输入氮气,从而控制氧气浓度;至少一个吸风罩和吹风罩,分别设置于工作区域的两侧。本实用新型专利技术同现有技术相比,其优点在于:结构简单、紧凑;通过氮气的输入能控制工作区域的氧气浓度,从而达到更好的祛胶效果;准分子灯箱的散热效果好,能长期稳定的工作;设置了反光板增加了照射面积。反光板增加了照射面积。反光板增加了照射面积。

【技术实现步骤摘要】
18.灯管冷却风机 19.灯箱 20.反光板调节支架 21.吹风罩 22.旋转装置 23.电源 24.平台 25.吸风罩。
具体实施方式
[0017]参见图1、图2和图3,该设备可分为四个区域:电源及控制区域14、隔层15、工作区域16和灯头及显示区域17。电源及控制区域14主要为电源总开关4及电源23。工作区域16和电源及控制区域14之间有隔层15。在工作区域16中,是通过操作门6来操纵该区域,平台24底部有一旋转装置22,在左侧有进风/氮气入口13,氮气通过此处进入工作区域,并调节内部氧气浓度,内部还连接着吸风罩25,在右侧有第三出风口,内部还连接着吹风罩20,其内部的顶部有反光板调节支架20,在外部操作门6的上方有一观察窗7。灯头及显示区域17底部为灯箱19,其正面是状态显示灯8、触摸屏9和急停按钮10组成,其左侧是第二出风口12,右侧是过滤窗2,顶部为三色报警灯1和第一出风口11。
[0018]以上所述,仅为此技术的具体实施方式,但本技术的保护范围不局限于此,任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内,根据本技术的技术方案和新型的构思加于等同替换或改变,都应涵盖在本技术的保护范围之内。

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种准分子祛除残胶设备,其特征在于至少包括一封闭的工作区域,所述工作区域底部为抽拉式的可旋转操作平台;至少一个准分子灯箱,设置于共工作区域顶部;至少一个氮气输入口,用于向工作区域内输入氮气,从而控制氧气浓度;至少一个吸风罩和吹风罩,分别设置于工作区域的两侧。2.如权利要求1所述的一种准分子祛除残胶设备,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:李生强
申请(专利权)人:上海五临天机电科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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