【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于稀土材料制造领域，涉及一种厚度均匀的稀土合金铸片及其制备方法。 技术背景NdFeB磁体由于优异的磁性能被广泛地应用于计算机、信息电子、国防等领域，在高新技 术及人们的日常生活中起着非常重要的作用。随着器件的小型化和智能化，高性能钕铁硼磁 体的应用会越来越广。磁体用钕铁硼合金的制备工艺主要分为铸锭工艺和铸片工艺。其中传 统的铸锭工艺由于冷却速缓慢，在铸造过程中一方面容易形成a-Fe， a-Fe具有可变形性并降 低合金粉碎时的粉碎效率，而且影响成分波动、粒度分布，降低磁体性能，另一方面容易造 成钕铁硼合金微观组织中富R相的偏析，导致富R相在铸锭中形成局部大聚集体，使富R相与 ivr,4B相混合不均匀。为了解决上述问题，提出了铸片工艺。铸片工艺的出现是传统铸锭工艺 的一次重大变革，在铸片工艺中，将熔融合金浇铸到旋转的水冷辊上形成厚度为0.1 1.0mm 的合金铸片。在浇铸过程中，熔融合金通过迅速冷却固化，抑制了(x-Fe的析出，而且组织细 小，结晶粒微细分散，晶界面积大，由于富R相在晶界内扩散得很薄，所以富R相在基体中分 散均匀，从而改善母合金的微观...
【技术保护点】
一种稀土合金铸片，其特征在于：至少８０％的合金铸片厚度分布在［μ－０．１ｍｍ，μ＋０．１ｍｍ］的范围内，σ↑［２］≤０．０１１ｍｍ↑［２］，其中μ为合金铸片的平均厚度，范围为０．１～１．０ｍｍ；σ↑［２］为合金铸片厚度的方差，表示合金铸片厚度的分散程度。
【技术特征摘要】
CN 2007-4-16 200710090138.51. 一种稀土合金铸片，其特征在于至少80％的合金铸片厚度分布在[μ-0.1mm，μ+0.1mm]的范围内，σ2≤0.011mm2，其中μ为合金铸片的平均厚度，范围为0.1～1.0mm；σ2为合金铸片厚度的方差，表示合金铸片厚度的分散程度。2. 根据权利要求1所述的一种稀土合金铸片，其特征在于合金铸片中主相Nd2FewB晶粒为 柱状晶，柱状晶的体积百分数至少为80%,柱状晶的宽度为0.2 50.0ixm，长度为1.0 500 ti m。3. 根据权利要求l所述的稀土合金铸片，其特征在于合金铸片的成分为R(Fe， M)B， R代 表包括Sc、 Y在内的17种稀土元素中的一种或多种，百分含量为26.0 50.0wt%， M为除 Fe以外的过渡族元素、Al、 Ga、 In、 C、 N、 Si、 Ge、 Sn、 Pb、 Mg、 Ca中的一种或多种，百 分含量为0 10.0wt%， B是硼，百分含量为0 1.5wt%，余量为铁及不可避免的杂质。4. 根据权利要求l所述的稀土合金铸片，其特征在于合金铸片的成分为R(Fe， M)B， R代 表包括Sc、 Y在内的17种稀土元素中的一种或多种，百分含量为26.0 38.0wt%， M为除 Fe以外的过渡族元素、Al、 Ga、 In、 C、 N、 Si、 Ge、 Sn、 Pb、 Mg、 Ca中的一种或多种，百 分含量为0 10.0wt%， B是硼，百分含量为0.8 1.5wt%，余量为铁及不可避免的杂质。5. 根据权利要求l所述的稀土合金铸片，其特征在于合金铸片的成分为R(Fe， M)B， R代 表包括Sc、 Y在内的17种稀土元素中的一种或多种，百分含量为28.0 35.0wt%， M为Ti、 V、 Cr、 Mn、 Co、 Ni、 Cu、 Zn、 Zr、 Nb、 Mo、 Ta、 W、 Al、 Ga、 C、 Ge、 Sn、 Pb、 Mg、 Ca中的一种或多种，百分含量为0 8.0wt%， B是硼，百分含量为0.8 1.5wt%，余量为铁 及不可避免的杂质。6. 根据权利要求1所述的稀土合金铸片，其特征在于至少90%合金铸片的厚度分布在& -O.lmm， li+0.1mm]的范围内，o 2《0.01mm2。...
【专利技术属性】
技术研发人员：于敦波，李红卫，徐静，李世鹏，李宗安，颜世宏，胡权霞，袁永强，李扩社，
申请(专利权)人：有研稀土新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
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