一种公转自转平台及真空化学反应腔体制造技术

本实用新型专利技术公开了一种公转自转平台及真空化学反应腔体，属于旋转平台技术领域。本实用新型专利技术的公转自转平台，将自转驱动组件安装在公转台底部的安装空间内，进而解决了现有技术中齿轮组至少设置两层，体积庞大的问题，具有结构紧凑，承载能力强的优点。在公转台的中心开设第一避让通孔，用于安装射频电极组件，进而在公转台旋转时不干涉射频电极组件，改善了射频电极组件导电连接问题。本实用新型专利技术的真空化学反应腔体，通过应用上述公转自转平台，还提高了真空环境利用率。提高了真空环境利用率。提高了真空环境利用率。

【技术实现步骤摘要】
一种公转自转平台及真空化学反应腔体


[0001]本技术涉及旋转平台
，尤其涉及一种公转自转平台及真空化学反应腔体。

技术介绍

[0002]真空环境空间宝贵，现有的应用在化学反应腔体内的公转自转平台大都体积较大，空间利用率低，导致真空环境浪费，还会干涉射频电极组件。而且这些公转自转平台的齿轮组为了满足公转和自转的需求，至少设置两层齿轮组，体积庞大。有些厂家为了节省空间，将齿轮的厚度减小，这种处理手段又会降低平台的运载能力，同时还会缩短平台的使用寿命。

技术实现思路

[0003]本技术的一个目的在于提供一种公转自转平台，结构紧凑，承载能力强，还不会干涉射频电极组件。
[0004]本技术的另一个目的在于提供一种真空化学反应腔体，通过应用上述公转自转平台，提高了真空环境利用率。
[0005]为实现上述目的，提供以下技术方案：
[0006]一方面，提供了一种公转自转平台，包括：
[0007]公转台，可转动地设置于设备底座上；所述公转台的底部设有安装空间；所述公转台的中心设有第一避让通孔；
[0008]多个自转台，多个所述自转台可转动地设置于所述公转台上；
[0009]公转驱动组件，被配置为驱动所述公转台转动；
[0010]自转驱动组件，被配置为驱动多个所述自转台转动；所述自转驱动组件设置于所述安装空间内。
[0011]作为公转自转平台的优选方案，所述自转驱动组件包括：
[0012]内外齿齿轮，可转动地设置于所述安装空间内，多个所述自转台均与所述内外齿齿轮传动连接；
[0013]自转驱动件，被配置为驱动所述内外齿齿轮转动。
[0014]作为公转自转平台的优选方案，所述自转驱动组件还包括：
[0015]自转主动齿轮，设置于所述自转驱动件上，所述自转主动齿轮与所述内外齿齿轮啮合；
[0016]多个自转从动齿轮，所述自转台均设有所述自转从动齿轮，所述自转从动齿轮与所述内外齿齿轮啮合。
[0017]作为公转自转平台的优选方案，所述自转驱动组件还包括转接件，所述内外齿齿轮与所述转接件固定连接，所述转接件可转动地设置于所述公转台的底部，所述转接件的中心设有与所述第一避让通孔相配合的第二避让通孔。
[0018]作为公转自转平台的优选方案，所述设备底座上设有调节通孔和多组连接孔，所述自转驱动件穿设在所述调节通孔内，多组所述连接孔沿所述调节通孔的径向间隔设置，所述自转驱动件与多组所述连接孔择一连接。
[0019]作为公转自转平台的优选方案，所述公转驱动组件包括：
[0020]公转回转支承齿轮，设置于所述公转台的底部，所述公转回转支承齿轮与所述设备底座转动连接；
[0021]公转驱动件，被配置为驱动所述公转回转支承齿轮转动。
[0022]作为公转自转平台的优选方案，所述设备底座上设有空心的支撑柱，所述公转回转支承齿轮可转动地套设在所述支撑柱上，所述公转回转支承齿轮与所述支撑柱之间形成所述安装空间。
[0023]作为公转自转平台的优选方案，所述公转驱动组件还包括公转主动齿轮，所述公转主动齿轮设置于所述公转驱动件上，所述公转主动齿轮与所述公转回转支承齿轮啮合。
[0024]作为公转自转平台的优选方案，所述自转台的上表面均高于所述公转台。
[0025]另一方面，提供了一种真空化学反应腔体，包括如上所述的公转自转平台，所述设备底座为所述真空化学反应腔体的底部。
[0026]与现有技术相比，本技术的有益效果：
[0027]本技术的公转自转平台，包括公转台、多个自转台、公转驱动组件和自转驱动组件，公转台可转动地设置于设备底座上；公转台的底部设有安装空间；公转台的中心设有第一避让通孔；多个自转台可转动地设置于公转台上；公转驱动组件被配置为驱动公转台转动；自转驱动组件被配置为驱动多个自转台转动；自转驱动组件设置于安装空间内。将自转驱动组件安装在公转台底部的安装空间内，进而解决了现有技术中齿轮组至少设置两层，体积庞大的问题，具有结构紧凑，承载能力强的优点。在公转台的中心开设第一避让通孔，用于安装射频电极组件，进而在公转台旋转时不干涉射频电极组件，改善了射频电极组件导电连接问题。
[0028]本技术的真空化学反应腔体，通过应用上述公转自转平台，还提高了真空环境利用率。
附图说明
[0029]图1为本技术实施例中公转自转平台的结构示意图；
[0030]图2为本技术实施例中公转自转平台的侧视图；
[0031]图3为本技术实施例中公转自转平台的剖视图。
[0032]附图标记：
[0033]100、设备底座；101、安装轴；102、调节通孔；103、连接孔；104、支撑柱；
[0034]1、公转台；11、安装空间；12、第一避让通孔；
[0035]2、自转台；21、自转转轴；
[0036]3、公转驱动组件；31、公转回转支承齿轮；32、公转驱动件；33、公转主动齿轮；
[0037]4、自转驱动组件；41、内外齿齿轮；42、自转驱动件；43、自转主动齿轮；44、自转从动齿轮；45、转接件；451、转接环；452、转接座；4521、第二避让通孔。
具体实施方式
[0038]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0039]因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0040]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0041]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0042]在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种公转自转平台，其特征在于，包括：公转台(1)，可转动地设置于设备底座(100)上；所述公转台(1)的底部设有安装空间(11)；所述公转台(1)的中心设有第一避让通孔(12)；多个自转台(2)，多个所述自转台(2)可转动地设置于所述公转台(1)上；公转驱动组件(3)，被配置为驱动所述公转台(1)转动；自转驱动组件(4)，被配置为驱动多个所述自转台(2)转动；所述自转驱动组件(4)设置于所述安装空间(11)内。2.根据权利要求1所述的公转自转平台，其特征在于，所述自转驱动组件(4)包括：内外齿齿轮(41)，可转动地设置于所述安装空间(11)内，多个所述自转台(2)均与所述内外齿齿轮(41)传动连接；自转驱动件(42)，被配置为驱动所述内外齿齿轮(41)转动。3.根据权利要求2所述的公转自转平台，其特征在于，所述自转驱动组件(4)还包括：自转主动齿轮(43)，设置于所述自转驱动件(42)上，所述自转主动齿轮(43)与所述内外齿齿轮(41)啮合；多个自转从动齿轮(44)，所述自转台(2)均设有所述自转从动齿轮(44)，所述自转从动齿轮(44)与所述内外齿齿轮(41)啮合。4.根据权利要求2所述的公转自转平台，其特征在于，所述自转驱动组件(4)还包括转接件(45)，所述内外齿齿轮(41)与所述转接件(45)固定连接，所述转接件(45)可转动地设置于所述公转台(1)的底部，所述转接件(45)的中心设有与所述第一避让通孔(12)相配合的第二避让通孔(4521)。5.根据权利要求2所述的公转自...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓必龙，张向东，
申请(专利权)人：龙鳞深圳新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：