一种平行电极旋转镀膜设备制造技术

本发明专利技术属于气相沉积技术领域，公开了一种平行电极旋转镀膜设备。该平行电极镀膜设备通过第一电极组件和第二电极组件对待镀膜工件进行化学气相沉积镀膜，治具轴上插设有托盘，托盘用于盛放待镀膜工件，同时公转组件带动治具组件沿预设中心转动，自转组件带动治具轴绕自身轴线转动，不仅治具组件的安装更加便捷，还能实现镀膜的均匀性；同时，本实施例中的定位组件上插设有第一电极组件和第二电极组件，能够防止第一电极组件、第二电极组件或治具组件发生形变时互相接触，提高了镀膜的质量和均匀性。匀性。匀性。

【技术实现步骤摘要】
一种平行电极旋转镀膜设备


[0001]本专利技术涉及气相沉积
，尤其涉及一种平行电极旋转镀膜设备。

技术介绍

[0002]目前在PECVD(化学气相沉积)的电极镀膜系统主要是利用不同极性的固定电极片之间形成的电场激发气体电离产生等离子体对产品进行镀膜。现有的圆柱形腔体平行电极旋转镀膜系统存在以下几个问题：(1)电极板变形导致电极板之间的间距不一致，会引起射频反射功率的波动大，电容难以匹配；(2)变形的电极板容易与治具剐蹭，甚至碰撞治具上的被镀膜工件；(3)电极之间的空间狭窄，治具很难在多层电极中取放自如；(4)如果治具盘插入不到位，容易从工件架上脱出导致器件的损坏；(5)自转中心装配杆上方是与多个自转杆相连的大环型轴承座，其没有与公转中心相连，在安装治具时容易变形。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种平行电极旋转镀膜设备，其治具安装方便快捷，还能够防止电极板与治具之间的剐蹭，提高了镀膜的均匀性和效率。
[0004]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0005]该平行电极旋转镀膜设备包括沿竖直方向固定设置的第一电极组件、沿竖直方向固定设置的第二电极组件、治具组件、公转组件和自转组件；治具组件包括治具轴，在治具轴上插设有与治具轴相垂直的托盘和定位组件，托盘设置于第一电极组件和第二电极组件之间，托盘用于盛放待镀膜工件；第一电极组件和第二电极组件互相绝缘并均插设于定位组件上；公转组件用于驱动治具轴绕预设中心转动；自转组件与治具轴传动连接，用于驱动治具轴绕自身轴线转动。
[0006]可选地，第一电极组件包括固定架和第一电极片，第一电极片固设于固定架上；第二电极组件包括第二电极片，第二电极片固设于固定架上，第二电极片与第一电极片隔层交替分布，托盘设置于第一电极片与第二电极片之间。
[0007]可选地，定位组件包括上下固接的第一楔形块和第二楔形块，第一楔形块和第二楔形块之间夹设有一个第一电极片或一个第二电极片。
[0008]可选地，治具组件还包括定位块，定位块插设于治具轴上，定位块设置于托盘和定位组件之间。
[0009]可选地，多个托盘、多个定位组件和多个定位块依次堆叠组装成托盘组件，托盘组件上方固设有第一固定块，相邻两个托盘组件之间设置有第二固定块，第一固定块固接于第二固定块，第二固定块的插接槽固设于治具轴上。
[0010]可选地，第二固定块上壁面设置有固定凸台，固定凸台插设于上方的托盘组件的定位组件的固定通孔内。
[0011]可选地，第二固定块上设置有第二固定孔，第二固定孔内插设有销轴，销轴向下插设于下方的托盘组件的第一固定块的第一固定孔内。
[0012]可选地，公转组件包括转动平台和抽气导流柱，预设中心为转动平台的中心轴线，抽气导流柱固设于转动平台上并与中心轴线同轴，治具轴的上端通过行星架与抽气导流柱固接，转动平台能够绕中心轴线转动。
[0013]可选地，治具组件设置有多个，多个治具组件沿中心轴线的周向间隔设置。
[0014]可选地，托盘设置有一个或多个，多个托盘沿竖直方向间隔分布。
[0015]有益效果：
[0016]该平行电极镀膜设备通过第一电极组件和第二电极组件对待镀膜工件进行化学气相沉积镀膜，治具轴上插设有托盘，托盘用于盛放待镀膜工件，同时公转组件带动治具组件沿预设中心转动，自转组件带动治具轴绕自身轴线转动，不仅治具组件的安装更加便捷，还能实现镀膜的均匀性；同时，本实施例中的定位组件上插设有第一电极组件和第二电极组件，能够防止第一电极组件或第二电极组件发生形变时与治具组件接触，保证了治具组件工作时不会带电，安装时也不会接地或与电极组件接触，因此提高了镀膜的质量和均匀性。
附图说明
[0017]图1是本专利技术具体实施方式提供的平行电极旋转镀膜设备的示意图；
[0018]图2是本专利技术具体实施方式提供的治具组件的示意图；
[0019]图3是本专利技术具体实施方式提供的托盘组件的示意图；
[0020]图4是本专利技术具体实施方式提供的托盘组件部分部件的爆炸示意图。
[0021]图中：
[0022]10、待镀膜工件；
[0023]100、固定架；110、第一电极片；120、第二电极片；
[0024]200、治具组件；210、治具轴；220、托盘；230、定位组件；231、第一楔形块；232、第二楔形块；2321、固定通孔；233、固定销；240、定位块；251、第一固定块；2511、第一固定孔；252、第二固定块；2521、插接槽；2522、固定凸台；2523、第二固定孔；253、销轴；
[0025]300、转动平台；400、自转组件；510、抽气导流柱；520、行星架。
具体实施方式
[0026]下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。
[0027]在本专利技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0028]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特
征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0029]在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
[0030]请参考图1和图2，在本实施例中，该平行电极旋转镀膜设备包括沿竖直方向固定设置的第一电极组件、沿竖直方向固定设置的第二电极组件、治具组件200、公转组件和自转组件400；治具组件200包括治具轴210，在治具轴210上插设有与治具轴210相垂直的托盘220和定位组件230，托盘220设置于第一电极组件和第二电极组件之间，托盘220用于盛放待镀膜工件10；第一电极组件和第二电极组件互相绝缘并均插设于定位组件230上；公转组件用于驱动治具轴210绕预设中心转动；自转组件400与治具轴210传动连接本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种平行电极旋转镀膜设备，其特征在于，包括：第一电极组件，沿竖直方向固定设置；第二电极组件，沿竖直方向固定设置；治具组件(200)，包括治具轴(210)，在所述治具轴(210)上插设有与所述治具轴(210)相垂直的托盘(220)和定位组件(230)，所述托盘(220)设置于所述第一电极组件和所述第二电极组件之间，所述托盘(220)用于盛放待镀膜工件(10)；所述第一电极组件和所述第二电极组件互相绝缘并均插设于所述定位组件(230)上；公转组件，用于驱动所述治具轴(210)绕预设中心转动；自转组件(400)，与所述治具轴(210)传动连接，用于驱动所述治具轴(210)绕自身轴线转动。2.根据权利要求1所述的平行电极旋转镀膜设备，其特征在于，所述第一电极组件包括固定架(100)和第一电极片(110)，所述第二电极组件包括第二电极片(120)，所述第一电极片(110)和所述第二电极片(120)均固设于所述固定架(100)上；所述第二电极片(120)与所述第一电极片(110)隔层交替分布，所述托盘(220)设置于所述第一电极片(110)与所述第二电极片(120)之间。3.根据权利要求2所述的平行电极旋转镀膜设备，其特征在于，所述定位组件(230)包括上下固接的第一楔形块(231)和第二楔形块(232)，所述第一楔形块(231)和第二楔形块(232)之间夹设有一个所述第一电极片(110)或一个所述第二电极片(120)。4.根据权利要求1所述的平行电极旋转镀膜设备，其特征在于，所述治具组件(200)还包括定位块(240)，所述定位块(240)插设于所述治具轴(210)上，所述定位块(240)设置于所述托盘(220)和所述定位组件(230)之间。5.根据权利要求4所述的平行电极...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓必龙，张向东，郑利勇，
申请(专利权)人：龙鳞深圳新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：