提供了一种用于检查显示装置的方法和一种用于制造显示装置的方法，所述用于检查显示装置的方法包括以下步骤：准备包括子像素的目标基底，在子像素中设置有发光元件；将子像素的第一区域中的每个划分为第二区域；获得第二区域中的每个的灰度值；使用灰度值来生成随机数；通过反映随机数中的变量来计算第一区域中的每个的代表值；以及对第一区域的代表值求和来计算子像素的发光元件的数量。来计算子像素的发光元件的数量。来计算子像素的发光元件的数量。
【技术实现步骤摘要】
用于检查显示装置的方法和用于制造显示装置的方法
[0001]公开涉及一种用于检查显示装置的方法和一种用于制造显示装置的方法。
技术介绍
[0002]随着多媒体技术发展，显示装置变得越来越重要。因此，目前在使用诸如有机发光显示装置和液晶显示(LCD)装置的各种类型的显示装置。
[0003]显示装置用于显示图像，并且可以包括诸如有机发光显示面板或液晶显示面板的显示面板。其中，发光显示面板可以包括发光元件。例如，发光二极管(LED)可以包括使用有机材料作为荧光材料的有机发光二极管(OLED)和使用无机材料作为荧光材料的无机发光二极管。
[0004]将理解的是，该
技术介绍
部分部分地旨在提供用于理解技术的有用的背景。然而，该
技术介绍
部分还可以包括不作为在这里公开的主题的对应的有效提交日期之前相关领域技术人员已知或理解的内容的一部分的想法、构思或认识。
技术实现思路
[0005]公开的方面可以提供一种用于检查显示装置的方法，通过该方法可以检查设置在子像素中的发光元件的数量。
[0006]公开的方面可以提供一种用于检查显示装置的方法，该方法可以减少工艺节拍时间。
[0007]公开的方面还可以提供一种用于制造显示装置的方法，该方法使用用于检查显示装置的方法。
[0008]应注意的是，公开的方面不限于上述方面；并且通过以下描述，专利技术的其他方面对于本领域技术人员将是明显的。
[0009]根据公开的实施例，可以能够通过基于基底上的图像而通过计算代表值来计算发光元件的数量，从而减少工艺节拍时间。
[0010]应注意的是，公开的效果不限于上述效果，并且通过以下描述，公开的其他效果对于本领域技术人员而言将是明显的。
[0011]根据公开的实施例，用于检查显示装置的方法可以包括以下步骤：准备包括子像素的目标基底，在子像素中设置有发光元件；将子像素的多个第一区域中的每个划分为多个第二区域；获得多个第二区域中的每个的灰度值；使用灰度值来生成随机数；通过反映随机数中的变量来计算多个第一区域中的每个的代表值；以及对多个第一区域的代表值求和来计算子像素的发光元件的数量。
[0012]在实施例中，获得灰度值的步骤可以包括通过使用包括感测部分的检查设备扫描目标基底的整个区域来获得图像，并且可以通过模板匹配将目标基底的整个区域转换为单个图像。
[0013]在实施例中，生成随机数的步骤可以包括使用多个第二区域中的每个的灰度值的
最小值和最大值的蒙特卡罗模拟来生成随机数，并且随机数可以是在最小值与最大值之间的可以随机选择的值。
[0014]在实施例中，变量可以是灰度值、微X值、微Y值、全局X值和全局Y值中的至少一个。
[0015]在实施例中，微X值可以是可以获得灰度值的第一区域在对应的子像素中的位置的x坐标，微Y值可以是可以获得灰度值的第一区域在对应的子像素中的位置的y坐标，全局X值可以是可以获得灰度值的第一区域在目标基底中的位置的x坐标，并且全局Y值可以是可以获得灰度值的第一区域在目标基底中的位置的y坐标。
[0016]在实施例中，灰度值、微X值和全局X值可以减小随机数的值，并且微Y值和全局Y值可以增大随机数的值。
[0017]在实施例中，多个第一区域中的每个的代表值可以与发光元件的对应的数量相关联。
[0018]在实施例中，可以通过使用装备有感测部分的检查设备测量目标基底来获得多个第二区域中的每个的灰度值，并且感测部分可以是时间延迟积分(TDI)扫描相机。
[0019]在实施例中，所述方法还可以包括：将子像素的发光元件的数量与参考值比较；以及基于比较步骤的结果来确定目标基底的状况。
[0020]根据公开的实施例，用于制造显示装置的方法可以包括：在包括子像素的目标基底上设置发光元件；用包括感测部分的检查设备扫描目标基底来获得图像；将子像素的多个第一区域中的每个划分为多个第二区域；获得多个第二区域中的每个的灰度值；使用灰度值生成随机数；通过反映随机数中的变量来计算多个第一区域中的每个的代表值；通过对多个第一区域的代表值求和来计算子像素的发光元件的数量；基于子像素的发光元件的数量来确定目标基底的状况；在目标基底上形成第一绝缘层；以及形成与发光元件接触的第一接触电极和第二接触电极。
附图说明
[0021]通过参照附图详细描述公开的实施例，公开的上述和其他方面和特征将变得更加明显。
[0022]图1是根据公开的实施例的显示装置的示意性平面图。
[0023]图2是示出根据公开的实施例的显示装置的像素的示意性平面图。
[0024]图3是沿着图2的线Q1
‑
Q1'、线Q2
‑
Q2'和线Q3
‑
Q3'截取的示意性剖视图。
[0025]图4是示出根据公开的实施例的发光元件的示意性透视图。
[0026]图5是示出根据公开的另一实施例的发光元件的示意性透视图。
[0027]图6是根据公开的实施例的喷墨印刷设备的示意性透视图。
[0028]图7是示出根据公开的实施例的检查设备的示意性透视图。
[0029]图8是示出根据公开的实施例的检查设备的示意性平面图。
[0030]图9是用于示出根据公开的实施例的用于制造显示装置的方法的流程图。
[0031]图10是示出根据公开的实施例的制造显示装置的工艺步骤的一部分的示意性剖视图。
[0032]图11是示出在根据公开的实施例的制造显示装置的工艺步骤中的一个工艺步骤的子像素的示意性平面图。
[0033]图12是示出根据公开的实施例的制造显示装置的工艺步骤的一部分的示意性剖视图。
[0034]图13是示出在根据公开的实施例的制造显示装置的工艺步骤中的一个工艺步骤的子像素的示意性平面图。
[0035]图14是示出根据公开的实施例的制造显示装置的工艺步骤的一部分的示意性剖视图。
[0036]图15是示出在根据公开的实施例的制造显示装置的工艺步骤中的一个工艺步骤的子像素的示意性平面图。
[0037]图16是示出通过根据公开的实施例的检查设备测量的子像素的区域的示意性平面图。
[0038]图17是示出单个子像素的灰度值分布的示意性曲线图。
[0039]图18是示出针对不同子像素的发光元件的代表值和数量的示意性曲线图。
具体实施方式
[0040]现在，将在下文中参照其中示出了专利技术的实施例的附图更充分地描述专利技术。然而，本专利技术可以以许多不同的形式实施，并且不应被解释为限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是彻底的和完整的，并且将向本领域的技术人员充分传达专利技术的范围。
[0041]贯穿说明书，相同的附图标号表示相同的组件。
[0042]除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式(例如，“一个(种/者)”、所述(该))的使用也可以包括复数形式。术语“和/或”出于其意思和解释的目的而旨在包括术本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于检查显示装置的方法，所述方法包括以下步骤：准备包括子像素的目标基底，在所述子像素中设置有发光元件；将所述子像素的多个第一区域中的每个划分为多个第二区域；获得所述多个第二区域中的每个的灰度值；使用所述灰度值来生成随机数；通过反映所述随机数中的变量来计算所述多个第一区域中的每个的代表值；以及对所述多个第一区域的所述代表值求和来计算所述子像素的所述发光元件的数量。2.根据权利要求1所述的方法，其中，获得所述灰度值的步骤包括通过使用包括感测部分的检查设备扫描所述目标基底的整个区域来获得图像，并且其中，通过模板匹配将所述目标基底的所述整个区域转换为单个图像。3.根据权利要求1所述的方法，其中，生成所述随机数的步骤包括使用所述多个第二区域中的每个的所述灰度值的最小值和最大值的蒙特卡罗模拟来生成所述随机数，并且其中，所述随机数是在所述最小值与所述最大值之间的被随机选择的值。4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述变量是灰度值、微X值、微Y值、全局X值和全局Y值中的至少一个。5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述微X值是获得所述灰度值处的所述第一区域在对应的子像素中的位置的x坐标，所述微Y值是获得所述灰度值处的所述第一区域在所述对应的子像素中的所述位置的y坐标，所述全局X值是获得所述灰度值处的所述第一区域在所述目标基底中的位置的x坐标，并且所述全局Y值是获得所述灰度值处的所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员：李炯珍，芮相宪，吴世允，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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