【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
辐射屏蔽高分子材料,特别是中子和γ-射线屏蔽材料。其特征为将中子吸收物质和γ-射线防护物质均匀分散在聚合物为聚乙稀醇或聚乙稀中,制成防中子和γ射线的板材。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员:段瑾源,张兴祥,于俊林,牛建津,金剑,王学晨,张华,
申请(专利权)人:天津纺织工学院,
类型:发明
国别省市:12[中国|天津]
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