中子和γ-射线屏蔽材料制造技术

中子和α—射线屏蔽材料。本发明专利技术是关于ｘ、α辐射，微粒辐射及粒子轰击的防护领域。材料具有质量轻，易做变形加工、耐冲击、耐弯曲、耐拉伸等特点。适用于需要经常变形的物质和从事研制和使用放射性物质的人员的防护材料。（*该技术在2010年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
辐射屏蔽高分子材料，特别是中子和γ—射线屏蔽材料，其特征为将中子吸收物质和γ—射线防护物质均匀分散在聚合物为聚乙稀醇或聚乙稀中，制成防中子和γ射线的板材。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：段谨源，张兴祥，于俊林，牛建津，金剑，王学晨，张华，
申请(专利权)人：天津纺织工学院，
类型：发明
国别省市：12[中国|天津]