【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光片显微镜和用于确定样本空间中的物体折射率的方法
[0001]本专利技术涉及一种光片显微镜。本专利技术还涉及一种借助光片显微镜获取测量变量的方法。
技术介绍
[0002]在光片显微镜中，如果盖玻片或载玻片在光片显微镜的样本空间中被布置在样本和成像物镜之间，则样本的成像受到盖玻片或载玻片的影响。样本的图像还受到两种光学介质的影响，这些介质从相对侧与盖玻片或载玻片邻接。例如，这些光学介质由浸没介质和包围样本的包埋介质形成，该浸没介质既邻接盖玻片，又邻接物镜，该包埋介质邻接背离物镜的盖玻片表面。
[0003]特别是对于像差的有效校正，一方面希望知道盖玻片的厚度，因为该厚度决定了待由物镜检测的探测光在穿过盖玻片时所历经的光路长度。另一方面，希望知道在显微镜的样本空间中彼此邻接的各种不同的光学介质的折射率。这些光学介质由于它们不同的折射率，形成了折射率急剧变化的界面。这些界面中的每一个对光学成像都有不同的影响，这取决于那里的折射率突变有多大。
[0004]另一个光学参数是盖玻片或载玻片与成像物镜之间的距离。例如，要实现...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.光片显微镜(100、200、300、400)包括：样本空间(116)，在该样本空间中可设置盖玻片或载玻片(118)，该盖玻片或载玻片具有限定一个部分反射界面的表面(138、140)和限定另一个部分反射界面的另一表面(138、140)，其中，两个界面布置在相距所述物镜(120)不同的距离处；光学系统(107)，该光学系统带有面向所述盖玻片或载玻片(118)的物镜(120)；被设计用于产生光片(134)的照明机构(102)；传感器(150)；和处理器(110)，其中，两个界面的形成方式为，两个光学介质(117、119)可安置到所述样本空间(116)中，并与盖玻片或载玻片(116)的两个表面邻接，其中，所述光片显微镜(100、200、300、400)形成用于检测测量变量的测量装置，该测量装置被设计用于，将所述光片(134)穿过所述光学系统(107)倾斜入射地转向到所述盖玻片或载玻片(118)上，通过部分地在所述界面处反射所述光片(134)来产生反射光束(142、142a、142b)，通过部分地在所述另一个界面处反射所述光片(134)来产生另一反射光束(142、142a、142b)，接收穿过所述光学系统(107)的两个反射光束(142、142a、142b)并转向到所述传感器(150)上，所述传感器(150)被设计用于检测所述两个反射光束(142、142a、142b)的强度和/或入射位置，所述处理器被设计用于基于所述两个反射光束(142、142a、142b)的所检测的强度和/或入射位置来确定测量变量，并且所述处理器(110)被设计用于基于所述两个反射光束(142、142a、142b)的所检测的强度来确定所述两个光学介质(117、119)之一的折射率作为测量变量。2.根据权利要求1所述的光片显微镜(100、200、300、400)，其中，所述处理器被设计用于基于所述两个反射光束(142、142a、142b)之一的所检测到的入射位置来确定所述盖玻片或载玻片(116)相距所述物镜(120)沿该物镜的光轴(O2)的距离作为所述测量变量。3.根据权利要求1或2所述的光片显微镜(100、200、300、400)，其中，所述盖玻片或载玻片(116)的两个表面构造为彼此平面平行。4.根据前述权利要求中任一项所述的光片显微镜(100、200、300、400)，其中，所述处理器(110)被设计用于基于所述两个反射光束(142、142a、142b)的所检测到的入射位置来确定所述盖玻片或载玻片(116)的厚度作为测量变量。5.根据前述权利要求中任一项所述的光片显微镜(100、200、300、400)，其中，一个光学介质(119)是用于样本的包埋介质，该包埋介质与所述盖玻片或载玻片(116)的两个表面之一邻接。6.根据前述权利要求中任一项所述的光片显微镜(100、200、300、400)，其中，另一光学介质(119)是浸没介质，该浸没介质与所述盖玻片或载玻片(116)的另一表面和所述物镜(120)邻接。7.根据前述权利要求中任一项所述的光片显微镜(100、200、300、400)，其中，所述测量装置被设计用于，在所述界面处通过所述光片(134)产生测量图案，
通过所述反射光束(142、142a、142b)将所述测量图案成像到所述传感器(150)上，所述传感器(150)被设计用于以空间强度分布(...
【专利技术属性】
技术研发人员：亚历山大，
申请(专利权)人：莱卡微系统CMS有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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