封装结构、封装结构的制作方法以及量子处理器技术

技术编号:30883912 阅读:29 留言:0更新日期:2021-11-22 20:22
本发明专利技术公开了一种封装结构、封装结构的制作方法以及量子处理器。其中,该封装结构,包括:基底;共面波导,包括间隔设置在基底表面上的两个地线和信号线,信号线位于两个地线之间;空气悬梁桥,一端与一个地线连接,另一端与另一个地线连接,且空气悬梁桥与信号线的远离基底的表面之间具有间隔;至少一个补偿结构,至少一个补偿结构位于基底的表面上。本发明专利技术缓解了由于空气悬梁桥造成的介质损耗的技术问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
封装结构、封装结构的制作方法以及量子处理器


[0001]本专利技术涉及量子芯片领域,具体而言,涉及一种封装结构、封装结构的制作方法以及量子处理器。

技术介绍

[0002]在超导量子计算芯片领域,基于空气悬梁桥(Air bridge)的3D集成已经是超导封装结构的常规方案。现有技术中,大多借助于光刻胶热熔法和去胶工艺,在共面波导(Coplanar Waveguide,简称CPW)两端加工出拱桥形结构悬空的Air bridge,以此来连接两端的地线,从而实现封装结构的3D封装方案。
[0003]基于Air bridge的3D集成可以在平面型芯片上发展3D型布线结构,提高多量子比特的集成度。另外,还可以抑制CPW的高阶模与多比特间的信号串扰,提高器件信噪比。
[0004]但是,引入越多的Air bridge将会增加能量损耗,从而会显著降低CPW的Qi值,进而影响整个封装结构的性能。
[0005]经过理论与实验分析,确认损耗的来自于Air bridge表面附着的介质损耗。由于Air bridge在加工成形过程中不可避免的需要借助本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种封装结构,其特征在于,包括:基底;共面波导,包括间隔设置在基底表面上的两个地线和信号线,所述信号线位于所述两个地线之间;空气悬梁桥,一端与一个所述地线连接,另一端与另一个所述地线连接,且所述空气悬梁桥与所述信号线的远离所述基底的表面之间具有间隔;至少一个补偿结构,至少一个所述补偿结构位于所述基底的表面上。2.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,至少一个所述补偿结构位于所述基底的表面上和所述共面波导的表面上。3.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,至少一个所述补偿结构位于所述基底的表面上和所述空气悬梁桥的表面上。4.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,至少一个所述补偿结构位于所述基底的表面上、所述共面波导的表面上以及所述空气悬梁桥的表面上。5.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述补偿结构有多个,其中,至少一个所述补偿结构位于所述共面波导的表面上且不位于所述基底的表面上。6.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述补偿结构有多个,其中,至少一个所述补偿结构位于所述共面波导的表面上和所述空气悬梁桥的表面上,且不位于所述基底的表面上。7.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述补偿结构有多个,至少一个所述补偿结构仅位于所述空气悬梁桥的表面上。8.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述补偿结构位于所述地线的侧壁上和/或所述信号线的侧壁上。9.根据权利要求8所述的封装结构,其特征在于,所述补偿结构位于所述地线和所述信号线之间的间隔中。10.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述补偿结构的裸露表面为曲面。11.根据权利要求10所述的封装结构,其特征在于,所述补偿结构的裸露表面在预定方向上的截面形状为半椭圆形或半圆形,所述预定方向为所述封装结构的厚度方向。12.根据权利要求1至11中任一项所述的封装结构,其特征在于,所述补偿结构的材料包括超导材料。13.根据权利要求1至11中任一项所述的封装结构,其特征在于,所述补偿结构为中空结构。14.一种封装结构,其特征在于,包括:基底;共面波导,包括间隔设置在基底表面上的两个地线和信号线,所述信号线位于所述两个地线之间;空气悬梁桥,一端与一个所述地线连接,另一端与另一个所述地线连接,且所述空气悬梁桥与所述信号线的远离所述基底的表面之间具有间隔;至少一个补偿结构,至少一个所述补偿结构位于所述共面波导的表面上。15.根据权利要求14所述的封装结构,其特征在于,至少一个所述补偿结构位于所述共
面波导的表面上和所述空气悬梁桥的表面上。16.一种封装结构,其特征在于,包括:基底;共面波导,包括间隔设置在基底表面上的两个地线和信号线,所述信号线位于所述两个地线之间;空气悬梁桥,一端与一个所述地线连接,另一端与另一个所述地线连接,且所述空气悬梁桥与所述信号线的远离所述基底的表面之间具有间隔;至少一个补偿结构,至少一个所述补偿结构位于所述空气悬梁桥的表面上。17.一种封装结构的制作方法,其特征在于,包括:提供基底;在所述基底的表面上形成共面波导、补偿结构和空气悬梁桥,形成权利要求1至16中任一项所述的封装结构,其中,所述共面波导包括间隔设置在所述基底的表面上的两个地线和信号线,所述信号线位于所述两个地线之间,所述空气悬梁桥的一端与一个所述地线连接,另一端与另一个所述地线连接,且所述空气悬梁桥与所述信号线的远离所述基底的表面之间具有间隔。18.根据权利要求17所述的制作方法,其特征在于,在所述基底的表面上形成共面波导、补偿结构和空气悬梁桥,包括:在所述基底的表面上形成所述共面波导和补偿结构;在所述共面波导的表面上形成所述空气悬梁桥。19.根据权利要求18所述的制作方法,其特征在于,在所述基底的表面上形成所述共面波导和补偿结构,包括:在所述基底的表面上设置波导材料层;在所述波导材料层的表面上设置第一光刻胶层;对所述第一光刻胶层和所述波导材料层进行至少一次刻蚀,形成所述共面波导和位于所述共面波导表面上的所述补偿结构。20.根据权利要求19所述的制作方法,其特征在于,对所述第一光刻胶层和所述波导材料层进行至少一次刻蚀,形成所述共面波导和位于所述共面波...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐华秦金
申请(专利权)人:阿里巴巴集团控股有限公司
类型:发明
国别省市:

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