【技术实现步骤摘要】
高稳定性准分子激光器装置
[0001]本申请涉及激光器领域，具体涉及一种高稳定性准分子激光器装置。
技术介绍
[0002]准分子激光器输出的激光因具有波长短、线宽窄、能量高的特点，被广泛应用于半导体的芯片加工领域，例如：准分子激光器输出的激光是光刻机领域最常见的光源。
[0003]随着芯片加工工艺的不断发展，对芯片的尺寸要求已经达到了28nm、14nm甚至是更小。因此，对用于加工芯片的准分子激光器的要求也越来越高。不仅需要激光器能够释放更高的能量以及具备更窄的光谱，同时需要激光器在工作过程中具备稳定性较高的中心波长。对准分子激光器能量和中心波长在线测量、中心波长和能量闭环装置和闭环反馈控制提出了更高的要求。
[0004]在专利US6539046和US6317448，提出了采用的FP标准具和光栅联合的中心波长测量法，FP标准具有极高的波长灵敏度，但测量范围比较小，无法满足准分子激光器全量程测量的需求，为此，需要用光栅法对中心波长先进行粗测，然后用FP标准具进行精测，以实现中心波长大范围和高精度测量。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高稳定性准分子激光器装置，其特征在于，包括：放电谐振腔(1)、线宽压窄模块(2)、检测模块以及控制模块(4)；所述线宽压窄模块(2)包括沿由所述放电谐振腔(1)第一侧激光出射方向依次设置的扩束装置(5)和中阶梯光栅(6)；所述检测模块包括中心波长精测装置(3a)和中心波长粗测装置(3b)；其中，所述中心波长粗测装置(3b)包括反射装置(7)、光束会聚装置(8)及第一光电探测装置(9)，所述反射装置(7)用于将所述放电谐振腔(1)第一侧出射的部分光束传输至所述中阶梯光栅(6)，所述光束会聚装置(8)设置于所述中阶梯光栅(6)的出射方向，用于将前述部分光束经所述中阶梯光栅(6)的出射光会聚后传输至所述第一光电探测装置(9)；所述中心波长精测装置(3a)设置于与所述放电谐振腔(1)第一侧相对的第二侧，用于接收由所述第二侧出射的激光束，并进行中心波长精测；所述控制模块(4)分别与所述放电谐振腔(1)、所述中心波长精测装置(3a)和中心波长粗测装置(3b)相连接，用于根据所述中心波长精测装置(3a)和中心波长粗测装置(3b)的测量结果，对所述放电谐振腔(1)中的参数进行调整。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述扩束装置(5)为扩束棱镜组；所述反射装置(7)设置于所述扩束棱镜组的光束入射的一侧，且位于所述扩束装置(5)的入射面对入射光反射后的光路中；所述反射装置(7)的设置角度满足在接收所述反射光后将其二次反射至所述中阶梯光栅(6)。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述光束会聚装置(8)为凸透镜或凹面镜；所述第一光电探测装置(9)为电荷耦合器件；所述光束会聚装置(8)，用于会聚所述色散后的出射光，使所述会聚后的光照射在所述第一光电探测装置(9)的探测表面，形成干涉条纹；所述第一光电探测装置(9)，用于接收所述干涉条纹，将所述干涉条纹转化为对应的干涉条纹信息，并将所述干涉条纹信息发送至所述控制模块(4)。4.根据权利要求1至3任一所述的装置，其特征在于，所述反射装置(7)和光束会聚装置(8)设置于所述线宽压窄模块(2)内部。5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述中心波长精测装置(3a)包括沿光束出射方向依次设置的第一分束镜(12)、匀光器(13)、第二分束镜(14)、准直镜(15)、FP标准具(16)、第二会聚镜(17)以及第二光电探测装置(18)；所述第一分束镜(12)，用于接收由所述放电谐振腔(1)第二侧发射的激光，并对所述激光进行分束，并将分束后的其中一束激光照在所述匀光器(13)上；所述匀光器(13)设置于所述第一分束镜(14)和所述第二分束镜(17)之间，用于对激光匀化，使匀化后的激光进入所述第二分束镜(17)；所述第二分束镜(14)，用于对经所述匀光器(13)出射的激光进行分束，并将其中一束激光照射在所...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘广义，江锐，徐向宇，赵江山，苏国强，刘斌，冯泽斌，
申请(专利权)人：北京科益虹源光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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