显微术方法和系统技术方案

披露了一种用于光学显微镜的样品支架。该样品支架包括等离子体层，该等离子体层限定周期性亚微米结构阵列，其中，该周期性亚微米结构阵列包括分开的等离子体区域的阵列。这些区域可以是圆形、圆环形、椭圆形、十字形、矩形、正方形、线形、条形。还披露了使用这种样品支架和其他样品支架执行反射显微术和荧光显微术的方法。方法。方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显微术方法和系统


[0001]本披露内容涉及光学显微术领域。在一种形式中，本披露内容提供了使用光学显微镜和增强的样品支架的系统和方法。

技术介绍

[0002]以拉筹伯大学名义的PCT/AU2018/050496(其全部内容通过引用并入本文)披露了光学显微术的系统和方法，这些系统和方法通过使用具有等离子体层的样品支架提供了增强的图像对比度，该等离子体层包括周期性亚微米结构阵列。在本披露内容中，提及纳米载玻片是指根据PCT/AU2018/050496或申请人于2018年11月29日提交的名称为“Microscopy method and system[显微术方法和系统]”的共同未决澳大利亚专利申请2018904553以及要求与本申请同一天提交的AU2018904553的优先权的国际专利申请的教导的样品支架，这两个申请的内容出于所有目的通过引用并入本文。使用这种样品支架的显微术方法在本文中称为组织等离子体(histoplasmonics)或颜色对比度显微术，缩写为CCM。样品被放置在该样品支架上、邻近等离子体层。在使用中，照射样品和样品支架并产生样品本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在光学显微镜中使用的样品支架，该样品支架包括：等离子体层，该等离子体层限定周期性亚微米结构阵列；以及其中，该样品支架被配置为支撑物体，使得当支撑该物体时，该周期性亚微米结构阵列邻近该物体；其中，该周期性亚微米结构阵列包括分开的等离子体区域的阵列。2.如权利要求1所述的样品支架，其中，这些等离子体区域是等离子体材料的岛。3.如权利要求1或2所述的样品支架，其中，这些亚微米结构成周期性阵列布置，这些亚微米结构之间的间距在200nm至500nm的范围内。4.如前述权利要求中任一项所述的样品支架，其中，该周期性阵列是1维或2维阵列。5.如前述权利要求中任一项所述的样品支架，其中，这些亚微米结构具有50nm至300nm范围内的最大尺寸。6.如前述权利要求中任一项所述的样品支架，其中，这些亚微米结构是跨约100nm至200nm之间的等离子体材料的区域。7.如前述权利要求中任一项所述的样品支架，其中，这些等离子体区域被成形为以下任意一种或多种：圆形、圆环形、椭圆形、十字形、矩形、正方形、线形、条形。8.如前述权利要求中任一项所述的样品支架，其中，该等离子体由选自以下任何一种的一种或多种金属形成：Al、Ag、Au、Ni、Pt和Pd。9.如前述权利要求中任一项所述的样品支架，其中，该等离子体层具有20nm至300nm范围内的厚度。10.如前述权利要求中任一项所述的样品支架，其中，该分开的等离子体区域的阵列被布置成在第一方向和第二方向上在相邻等离子体区域之间具有相等或不相等间隔的阵列。11.如权利要求10所述的样品支架，其中，该第一方向和该第二方向是正交方向。12.如前述权利要求中任一项所述的样品支架，其中，该样品支架包括衬底，该衬底连接至该等离子体层的第一表面的至少一部分，以便为该等离子体层提供机械支撑。13.如权利要求12所述的样品支架，其中，该样品支架包括在该等离子体层的上侧的光学透明保护层，以用于隔离该等离子体层。14.如权利要求13所述的样品支架，其中，该光学透明保护层具有小于150nm的厚度。15.如权利要求13所述的样品支架，其中，该光学透明保护层具有具有小于80nm的厚度。16.如权利要求13至15中任一项所述的样品支架，其中，该光学透明保护层包括以下任何一种或多种：氧化硅、氮化硅、透明金属氧化物和聚合物。17.如前述权利要求中任一项所述的样品支架，其中，该样品支架被布置成在使用中使得穿过该样品透射到该等离子体层的光能够从该样品支架反射，以产生包括该反射光的图像。18.如权利要求17所述的样品支架，其中，入射光照射该样品和该样品支架，并与该样品和该等离子体层相互作用。19.如权利要求17或18中任一项所述的样品支架，其中，该反射光包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：B，
申请(专利权)人：乐卓博大学，
类型：发明
国别省市：