显示模组及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:30790325 阅读:11 留言:0更新日期:2021-11-16 07:53
本公开提供一种显示模组及其制备方法、显示装置。所述显示模组包括:显示基板,包括第一区域及至少部分围绕所述第一区域的第二区域,所述第一区域用于实现所述显示基板的弯折;抗冲击层,设置于所述显示基板上,且所述抗冲击层在所述第一区域设置有凹槽;填充层,设置于所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧,且至少部分所述填充层设置于所述凹槽中;其中,所述填充层的抗弯折性能大于所述抗冲击层的抗弯折性能,且所述填充层的抗机械性能小于所述抗冲击层的抗机械性能。本公开所述显示模组及其制备方法、显示装置,能够在保证弯折区的抗弯折性能的同时,提升显示模组的抗冲击性能。提升显示模组的抗冲击性能。提升显示模组的抗冲击性能。

【技术实现步骤摘要】
显示模组及其制备方法、显示装置


[0001]本公开涉及显示
,尤其涉及一种显示模组及其制备方法、显示装置。

技术介绍

[0002]近年来,柔性有机电致发光二极管(Organic Light

Emitting Diode,简称为OLED)显示产品特别是柔性显示产品的应用越来越广泛。柔性OLED显示产品往往采用CPI、PET或UTG等柔性盖板组合来实现可弯折性,较薄的柔性盖板设计往往不利于产品的抗冲击性能提升。为保证产品优异的抗弯折性能通常会舍弃产品的抗机械性能,这使得折叠显示产品的抗机械性能,特别是落球落笔性能表现欠佳。

技术实现思路

[0003]有鉴于此,本公开的目的在于提出一种显示模组及其制备方法、显示装置,以满足显示模组弯折区的抗弯折性能的同时,提升显示模组的抗冲击性能。
[0004]基于上述目的,本公开提供了一种显示模组,包括:
[0005]显示基板,包括第一区域及至少部分围绕所述第一区域的第二区域;所述第一区域用于实现所述显示基板的弯折;
[0006]抗冲击层,设置于所述显示基板上,且所述抗冲击层在所述第一区域设置有凹槽;
[0007]填充层,设置于所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧,且至少部分所述填充层设置于所述凹槽中;
[0008]其中,所述填充层的抗弯折性能大于所述抗冲击层的抗弯折性能,且所述填充层的抗机械性能小于所述抗冲击层的抗机械性能。
[0009]可选的,所述填充层远离所述显示基板的一侧与所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧齐平。
[0010]可选的,所述凹槽贯穿所述抗冲击层。
[0011]可选的,所述填充层的材料的模量小于所述抗冲击层的材料的模量,所述抗冲击层的材料的硬度高于所述填充层的材料的硬度。
[0012]可选的,所述凹槽的深度小于40μm,所述填充层材料包括光学胶。
[0013]可选的,还包括圆偏光片,所述圆偏光片包括:
[0014]偏光层,设置于所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧;
[0015]第一相位差膜,设置于所述偏光层与所述抗冲击层之间。
[0016]可选的,所述显示基板靠近所述偏光层一侧设置有阴极层;所述圆偏光片用于透射所述显示基板的部分出射光;将另一部分所述出射光反射至所述阴极层,使所述阴极层将另一部分所述出射光转化为阴极层反射光,且透射至少部分阴极层反射光。
[0017]可选的,所述显示基板靠近所述偏光层一侧设置有阴极层;所述显示模组还包括:
[0018]增亮膜,设置于所述圆偏光片与所述抗冲击层之间,用于将所述显示基板的部分出射光透射至所述圆偏光片后射出;将另一部分所述出射光反射至所述阴极层,使所述阴
极层将另一部分所述出射光转化为阴极层反射光后反射至所述增亮膜,且至少部分阴极层反射光经所述增亮膜、所述圆偏光片透射出。
[0019]可选的,所述增亮膜包括:
[0020]反射式偏光板,设置于所述第一相位差膜与所述抗冲击层之间,且所述反射式偏光板的透过角度与所述偏光层的透过角度相同;
[0021]第二相位差膜,设置于所述反射式偏光板与所述第一相位差膜之间;
[0022]其中,所述反射式偏光板的下偏角度与所述偏光层的透过轴的方向相同,所述第二相位差膜的慢轴与所述第一相位差膜的慢轴的方向相同。
[0023]可选的,所述反射式偏光板用于将所述显示基板的部分出射光转化为第一直线偏振光出射至所述第二相位差膜,将另一部分所述出射光转化为第二直线偏振光并反射至所述阴极层;
[0024]所述第二相位差膜用于将所述第一直线偏振光转化为第一圆偏振光出射至所述第一相位差膜;
[0025]所述第一相位差膜用于将所述第一圆偏振光转化为第三直线偏振光并出射至所述偏光层以通过所述偏光层射出;
[0026]所述阴极层用于将所述第二直线偏振光转化为阴极层反射光并出射至所述反射式偏光板;所述阴极层反射光包括分别与所述第一直线偏振光、所述第二直线偏振光的偏振方向相同的光线。
[0027]可选的,所述第一区域包括弯折区,所述第二区域包括非弯折区。
[0028]本公开还提供了一种显示装置,包括如上述任一项所述的显示模组。
[0029]本公开还提供了一种显示模组的制备方法,包括:
[0030]提供一显示基板,所述显示基板包括第一区域及至少部分围绕所述第一区域的第二区域;所述第一区域用于实现所述显示基板的弯折;
[0031]在所述显示基板上形成抗冲击层,且所述抗冲击层在所述第一区域设置有凹槽;
[0032]在所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧形成填充层,且至少部分所述填充层设置于所述凹槽中;
[0033]其中,所述填充层的抗弯折性能大于所述抗冲击层的抗弯折性能,且所述填充层的抗机械性能小于所述抗冲击层的抗机械性能。
[0034]可选的,所述显示模组包括增亮膜,所述增亮膜包括反射式偏光板和第二相位差膜;所述制备方法还包括:
[0035]将所述反射式偏光板与所述第二相位差膜贴合,形成所述增亮膜;
[0036]将所述增亮膜贴附于所述填充层上,其中所述反射式偏光板位于所述填充层与所述第二相位差膜之间。
[0037]可选的,所述显示模组包括增亮膜,所述增亮膜包括反射式偏光板和第二相位差膜;所述制备方法还包括:
[0038]在所述填充层上依次制作多层折射率不同的材料,形成所述反射式偏光板;
[0039]在所述反射式偏光板上涂布配向层,形成所述第二相位差膜。
[0040]从上面所述可以看出,本公开提供的显示基板及其制备方法、显示装置,通过在显示基板的封装层上设置具有更好抗机械性能的抗冲击层,从而提高非弯折区的抗机械性
能;在抗冲击层位于弯折区的部分进行凹槽设置,从而减薄弯折区处的抗冲击层的厚度,并采用具有更好抗弯折性能的填充层对该凹槽进行填充,从而提高弯折区处的抗弯折性能;从而在保证弯折区的抗弯折性能的同时,提升显示模组的抗机械性能。
附图说明
[0041]为了更清楚地说明本公开或相关技术中的技术方案,下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0042]图1为本公开实施例所述显示模组的结构示意图;
[0043]图2为本公开实施例所述显示模组的另一结构示意图;
[0044]图3为本公开实施例所述显示模组的又一结构示意图;
[0045]图4为本公开实施例所述显示模组的再一结构示意图;
[0046]图5为本公开实施例增亮膜原理示意图;
[0047]图6为本公开实施例所述显示模组的制备方法的流程示意图;
[0048]图7a为本公开实施例显示基板的结构示意图;
[0049]图7b为本公开实施例抗本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示模组,其特征在于,包括:显示基板,包括第一区域及至少部分围绕所述第一区域的第二区域;所述第一区域用于实现所述显示基板的弯折;抗冲击层,设置于所述显示基板上,且所述抗冲击层在所述第一区域设置有凹槽;填充层,设置于所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧,且至少部分所述填充层设置于所述凹槽中;其中,所述填充层的抗弯折性能大于所述抗冲击层的抗弯折性能,且所述填充层的抗机械性能小于所述抗冲击层的抗机械性能。2.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述填充层远离所述显示基板的一侧与所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧齐平。3.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述凹槽贯穿所述抗冲击层。4.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述填充层的材料的模量小于所述抗冲击层的材料的模量,所述抗冲击层的材料的硬度高于所述填充层的材料的硬度。5.根据权利要求4所述的显示模组,其特征在于,所述凹槽的深度小于40μm,所述填充层的材料包括光学胶。6.根据权利要求1

5任一项所述的显示模组,其特征在于,还包括圆偏光片,所述圆偏光片包括:偏光层,设置于所述抗冲击层远离所述显示基板的一侧;第一相位差膜,设置于所述偏光层与所述抗冲击层之间。7.根据权利要求6所述的显示模组,其特征在于,所述显示基板靠近所述偏光层一侧设置有阴极层;所述圆偏光片用于透射所述显示基板的部分出射光;将另一部分所述出射光反射至所述阴极层,使所述阴极层将另一部分所述出射光转化为阴极层反射光,且透射至少部分阴极层反射光。8.根据权利要求6所述的显示模组,其特征在于,所述显示基板靠近所述偏光层一侧设置有阴极层;所述显示模组还包括:增亮膜,设置于所述圆偏光片与所述抗冲击层之间,用于将所述显示基板的部分出射光透射至所述圆偏光片后射出;将另一部分所述出射光反射至所述阴极层,使所述阴极层将另一部分所述出射光转化为阴极层反射光后反射至所述增亮膜,且至少部分阴极层反射光经所述增亮膜、所述圆偏光片透射出。9.根据权利要求8所述的显示模组,其特征在于,所述增亮膜包括:反射式偏光板,设置于所述第一相位差膜与所述抗冲击层之间,且所述反射式偏光板的透过角度与所述偏光层的透过角度相同;第二相位差膜,设置于所述反射...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨阳庞孟媛陈立强李俊杉廖川东
申请(专利权)人:成都京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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