碟片原版制造技术

本发明专利技术是有关于一种碟片原版，其包含一基板、一图案化光阻层以及一金属层。基板具有一预录区及一资料区，预录区具有至少一预录凹槽，图案化光阻层设置于资料区，金属层覆盖图案化光阻层及预录凹槽。因依据本发明专利技术的一种碟片原版具有沟槽深度不同于资料区沟槽的预录凹槽。与现有习知技术相较，本发明专利技术结构强度提高，因此可重复进行电铸及剥离制程，并容易控制图案化光阻层的沟槽形状成为Ｕ字形，而能精确定义碟片原版的沟槽尺寸。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及 一 种碟片原版，特别是涉及 一 种用以制备碟片模版(stamper)的碟片原版。
技术介绍
随着资讯与多媒体世代的来临，电子产品对储存介质的储存密度及容 量的需求也不断地增加。现有习知的储存介质主要分成两大类磁记录介 质及光记录介质。目前市场上是以光记录介质占优势，其包含只读型光盘 (CD-R0M)、可写一次型光盘(CD-R)、可重复读写型光盘(CD-RW)、只读型 数字视频光盘(DVD-ROM )、可写一次型数字视频光盘(DVD-R )、可重复读 写型数字视频光盘(DVD-RW， DVD+RW)及动态随机存储数字视频光盘 (DVD-RAM)等。光记录介质生产过程中， 一般都是利用具有沟槽或凹洞的碟片模版， 配合射出成形的方法，以制作与碟片模版具有相对应图案的基板，再利用 此具有预沟槽的基板(pre-grooved substrate)来进行后续制程以大量生 产光记录介质。为获得碟片模版，则需先制作一碟片原版。如图l所示，一种现有习知 碟片原版制作过程包含步骤Sll至步骤S13。请同时参照图2A至图2D，方 便说明现有习知碟片原版的制作过程。请参照图1及图2A所示，步骤Sll是涂布一光阻层13于一基板11上， 为了加强光阻层13与基板11之间的结合力，可先涂布一接着剂(primer) 12于基板11上再涂布光阻层13。而接着剂12可为一介面活化剂 (surfactant)或一粘着促进齐寸(adhesion promoter )。请参照图1、图2B及图2C所示，步骤S12是激光刻版(Laser Beam Recording, LBR )光阻层13并进行显影步骤，藉由显影把刻版的讯号显像 出来，形成一图案化光阻层13a于基板ll上。请参照图1及图2D所示，步骤SI3是在显影完成的图案化光阻层13a 上'戚镀一薄金属层15。其中，金属层的材质可为镍钒合金，即完成碟片原 版的制作。完成碟片原版后，可利用金属层15作为后续电铸(electroforming) 步骤的导电层。电铸步骤是将金属层加厚再将金属层与碟片原版剥离，则 此金属层即为父模版(father stamper )。藉由父模版并重复电铸及剥离步骤，即可制成复数个母模版(motherstamper),而每个母模版可继续重复电铸及剥离步骤，以制成复数个子模 版(son stamper )。父才莫版或子才莫版可用于大量生产光记录介质，以射出 成形具有沟槽(groove)的碟片基板。然而，现有习知技术的碟片原版利用图案化光阻层13a来形成沟槽的 形状，由于结构强度不够，因此无法进行多次父模版的电铸分离制程，沟 槽宽度亦不易精准控制。另外，为符合特定规格，以增进碟片与光盘机的 相容性，碟片原版需具有一资料区(data area)及一预录区(embossed area),由于预录区用于记录烧录策略或制造厂商资讯，因此资料区及预录 区的沟槽需具有不同深度，但以上述制作方法并不易达成。因此，如何提供一种碟片原版，能够解决碟片原版无法重复使用，形 成不同沟槽深度，且能提高沟槽宽度控制的稳定性，已成为重要课题之一。由此可见，上述现有的碟片原版在结构与使用上，显然仍存在有不便 与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不 费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而 一般产品又没有适切结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决 的问题。因此如何能创设一种新型的碟片原版，实属当前重要研发课题之 一，亦成为当前业界极需改进的目标。有鉴于上述现有的碟片原版存在的缺陷，本专利技术人基于从事此类产品 设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研 究创新，以期创设一种新型的碟片原版，能够改进一般现有的碟片原版，使 其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后， 终于创设出确具实用价值的本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，克服现有的碟片原版存在的缺陷，而提供一种新 型的碟片原版，所要解决的技术问题是使其结构强度高并具有不同于沟槽 深度的预录凹槽，且图案化光阻层的宽度控制较容易且稳定，非常适于实 用。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。为达 到上述目的，依据本专利技术的碟片原版包含 一基板，具有一预录区及一资料 区，该预录区具有至少一预录凹槽； 一图案化光阻层，设置于该资料区；以 及一金属层，覆盖该图案化光阻层及该预录凹槽。前述的碟片原版，其中所述的预录凹槽的深度大于该图案化光阻层的 厚度。前述的碟片原版，其中所述的预录凹槽及该图案化光阻层藉由反应性 离子蚀刻方式形成。前述的碟片原版，其中所述的预录凹槽呈u型。 前述的碟片原版，其中所述的图案化光阻层的厚度为内厚外薄或内薄 外厚。前述的碟片原版，其中所述的基板的材质为玻璃、石英或陶瓷材料。 前述的碟片原版，其中所述的陶乾材料为一氧化物、 一氮化物或一碳 化物。前述的碟片原版，其中更包含 一接着剂，设置于该基板与该图案化 光阻层之间。前述的碟片原版，其中所述的金属层藉由沉积、涂布、印刷或电镀方 式形成。前述的碟片原版，其中所述的金属层的材质为镍钒合金。 本专利技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方 案，本专利技术碟片原版至少具有下列优点及有益效果因依据本专利技术的一种碟 片原版具有沟槽深度不同于资料区沟槽的预录凹槽。与现有习知技术相较， 本专利技术结构强度提高，因此可重复进行电铸及剥离制程，并容易控制图案 化光阻层的沟槽形状成为U字形，而能精确定义碟片原版的沟槽尺寸。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的 技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术的上述和 其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附 图，详细i兌明如下。附图说明图1为一种现有习知碟片原版制作过程的流程图； 图2为图1的碟片原版制作过程的示意图； 图3为应用于本专利技术的碟片原版制作过程的流程图；以及 图4A至图4D为本专利技术较佳实施例的一种碟片原版及其制作过程的示 意图。主要元件符号说明11、21:基板12、22:接着剂13、23:光阻层13a、23a:图案化光阻层24:预录凹槽15、25:金属层A:预录区B:资料区S11~S13、 S20 S25:碟片原版制作过程的流程步骤 具体实施例方式以下将参照相关图式，说明依据本专利技术较佳实施例的一种碟片原版，其 中相同的元件将以相同的附图标记加以说明。如图3所示， 一种应用于本专利技术的碟片原版制作过程包含步骤S21至 步骤S25。请同时参照图4A至图4D，方便说明碟片原版的制作过程。请参照图3及图4A所示，步骤S21是于一具有一预录区A及一资料区 B的基板21上设置一光阻层23。基板21的材质例如为一玻璃、 一石英或 一陶瓷材料，陶瓷材料例如为一氧化物、 一氮化物或一碳化物。依据实际 需求，基板可预先研磨及清洗，使表面平整。形成光阻层23的方式例如为;^走转涂布(spin-coating),藉由光阻层 23的厚度可决定资料区的沟槽深度，且厚度设置除了均匀厚度之外，亦可 使厚度不一致，例如为内厚外薄或内薄外厚，用以作出内深外浅或内浅外 深的沟槽。光阻本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种碟片原版，其特征在于：包含：　一基板，具有一预录区及一资料区，该预录区具有至少一预录凹槽；　一图案化光阻层，设置于该资料区；以及　一金属层，覆盖该图案化光阻层及该预录凹槽。

【技术特征摘要】
1、一种碟片原版，其特征在于包含一基板，具有一预录区及一资料区，该预录区具有至少一预录凹槽；一图案化光阻层，设置于该资料区；以及一金属层，覆盖该图案化光阻层及该预录凹槽。2、 根据权利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的预录凹槽 的深度大于该图案化光阻层的厚度。3、 根据权利要求l所述的碟片原版，其特征在于其中所述的预录凹槽 及该图案化光阻层藉由反应性离子蚀刻方式形成。4、根据权利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的预录凹槽 呈U型。5、 根据权利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的图案化...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴志蔚，林家平，赵贤文，
申请(专利权)人：精碟科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[]