本发明专利技术是一种具有外部清洁用电浆源的半导体制程设备及其外部电浆源，该外部电浆源包含一电浆源产生装置、一射频电源供应装置及一切换装置；其中该切换装置连接于射频电源供应装置与该电浆电源产生装置之间，以决定该射频电源供应装置产生的射频电源输出至该电浆电源产生装置或该半导体制程设备；由于该外部电浆源与该半导体制程设备使用相同频率的射频电源，故能有效减少外部电浆源设置的空间，加上电浆源产生装置未内建射频电源供应装置，有效减少设置于半导体制程设备上所占的空间，有助于安装及后续检修作业。助于安装及后续检修作业。助于安装及后续检修作业。
【技术实现步骤摘要】
具有外部电浆源的半导体制程设备及其外部电浆源
[0001]本专利技术关于一种远端电浆源设备，尤指一种具有外部电浆源的半导体制程设备及其外部电浆源。
技术介绍
[0002]半导体设备厂的半导体制程设备，例如PECVD电浆处理设备，使用二组射频电源供应器，于其中反应腔室内产生电浆对晶圆进行半导体制程，而在制程结束后需要对反应腔室加以清洗，为了加强清洁效率，会额外装设一远端电浆源设备。
[0003]如图4所示，该远端电浆源设备70被应用在半导体制程设备50提供清洁其反应腔室51的电浆源，加速反应腔室的清洁效果。一般来说，该远端电浆源设备70会装设在半导体制程设备50的上方，方便输出清洁用电浆源至该些反应腔室51；然而，由于该远端电浆源设备70内设有一射频电源电路71、一匹配网络72及一电浆室73，该射频电源电路71专属提供该电浆室73用的射频电源，一般为400Hz低频的射频电源，该电浆室73内通入气体后即解离产生电浆源，该电浆源即对该半导体制程设备50的反应腔室51进行清洁。
[0004]依据实际维修经验，该远端电浆源设备70经常维修部分是匹配网络72用元件，因为远端电浆源设备70体积大且重量重，当检修人员于更换匹配网络72用元件时，须费力拆装该远端电浆源设备70，造成检修成本及费时费工，故而有必要进一步改良之。
技术实现思路
[0005]有鉴于上述既有整机式远端电浆源设备的缺点，本专利技术主要专利技术目的是提供一种具有外部清洁用电浆源的半导体制程设备。
[0006]欲达上述目的所使用的主要技术手段是令该具有外部清洁用电浆源的半导体制程设备包含有：
[0007]一设备本体，包含一反应腔室、一第一电极及一第二电极；
[0008]一第一射频电源供应器，电性连接至该第一电极；以及
[0009]一外部电浆源，包含：
[0010]一电浆源产生装置，设置在该设备本体上方，并包含：
[0011]一第一外壳，包含有一第一射频电源输入端、一交流电源输入端、一进气口及一电浆释放口；其中该电浆释放口与该反应腔室连通；
[0012]一电浆室，设置在该第一外壳内，并与该进气口及该电浆释放口连通；以及
[0013]一匹配网络，设置在该第一外壳内，与该第一射频电源输入端及该交流电源输入端电性连接，并与该电浆室耦接；
[0014]一切换器，包含有一第二射频电源输入端、一第一切换端及一第二切换端；其中该第一切换端电性连接至该电浆源产生装置的第一射频电源输入端，该第二切换端电性连接至该设备本体的第二电极；以及
[0015]一第二射频电源供应装置，包含有：
[0016]一第二外壳，包含有一射频电源输出端，该射频电源输出端电性连接至该切换器的第二射频电源输入端；以及
[0017]一射频电源电路，设置于该第二外壳内，并电性连接至该射频电源输出端。
[0018]由上述说明可知，本专利技术半导体制程设备设置一外部电浆源，该外部电浆源包含一电浆源产生装置、一第二射频电源供应装置及一切换器，该第二射频电源供应装置通过该切换器电性连接至该电浆源产生器与该设备本体，由该切换器决定该第二射频电源供应装置产生的射频电源输出至该电浆源产生器或该设备本体；如此，该电浆源产生装置不必内建射频电源电路，有效减少外部电浆源设置于半导体制程设备上所占的空间，以利后续检修作业；再者，由于该外部电浆源的第二射频电源供应装置可通过切换器提供射频电源予该设备本体，本专利技术的半导体制程设备可省却使用一台射频电源供应器。
[0019]欲达上述目的所使用的主要技术手段令该外部电浆源包含有：
[0020]一电浆源产生装置，包含：
[0021]一第一外壳，包含有一第一射频电源输入端、一交流电源输入端、一进气口及一电浆释放口；
[0022]一电浆室，设置在该第一外壳内，并与该进气口及该电浆释放口连通；以及
[0023]一匹配网络，设置在该第一外壳内，与该第一射频电源输入端及该交流电源输入端电性连接，并与该电浆室耦接；
[0024]一切换器，包含有一第二射频电源输入端、一第一切换端及一第二切换端；其中该第一切换端电性连接至该电浆源产生装置的第一射频电源输入端；以及
[0025]一射频电源供应装置，包含有：
[0026]一第二外壳，包含有一射频电源输出端，该射频电源输出端电性连接至该切换器的第二射频电源输入端；以及
[0027]一射频电源电路，设置于该第二外壳内，并电性连接至该射频电源输出端。
[0028]由上述说明可知，本专利技术外部电浆源包含一电浆源产生装置、一射频电源供应装置及一切换器，该射频电源供应装置通过该切换器电性连接至该电浆源产生器与该设备本体，由该切换器决定该射频电源供应装置产生的射频电源输出至该电浆源产生器或该设备本体；如此，该电浆源产生装置不必内建射频电源电路，有效减少外部电浆源设置于半导体制程设备上所占的空间及重量，以利后续检修作业。
附图说明
[0029]图1：本专利技术具有外部清洁用电浆源的半导体制程设备装设的一结构示意图。
[0030]图2：本专利技术具有外部电浆源的一结构示意图。
[0031]图3：本专利技术匹配网络的一电路图。
[0032]图4：既有远端电浆源设备装设于一半导体制程设备的一结构示意图。
[0033]其中，附图标记：
[0034]1:外部电浆源
[0035]10:电浆源产生装置
[0036]11:第一外壳
[0037]111:第一射频电源输入端
[0038]112:第一交流电源输入端
[0039]113:进气口
[0040]114:电浆释放口
[0041]12:电浆室
[0042]20:匹配网络
[0043]21:匹配网络单元
[0044]211:固定阻抗元件
[0045]212:可变阻抗元件
[0046]213:致动器
[0047]22:电源电路
[0048]30:第二射频电源供应装置
[0049]31:第二外壳
[0050]311:射频电源输出端
[0051]312:第二交流电源输入端
[0052]32:射频电源电路
[0053]40:切换器
[0054]41:第二射频电源输入端
[0055]42:第一切换端
[0056]43:第二切换端
[0057]50:设备本体
[0058]51:反应腔室
[0059]511:第一电极
[0060]512:第二电极
[0061]52:第一射频电源供应器
[0062]53:阻抗匹配器
[0063]70:远端电浆设备
具体实施方式
[0064]本专利技术针对使用外部电浆源进行反应腔体清洁的半导体制程设备的改良，使其检修作业更加简便也减低设备配置成本。以下谨以实施例及图式详加说明本专利技术
技术实现思路
本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种具有外部清洁用电浆源的半导体制程设备，其特征在于，包括：一设备本体，包含一反应腔室、一第一电极及一第二电极；一第一射频电源供应器，电性连接至该第一电极；以及一外部电浆源，包含：一电浆源产生装置，设置在该设备本体上方，并包含：一第一外壳，包含有一第一射频电源输入端、一第一交流电源输入端、一进气口及一电浆释放口；其中该电浆释放口与该反应腔室连通；一电浆室，设置在该第一外壳内，并与该进气口及该电浆释放口连通；以及一匹配网络，设置在该第一外壳内，与该第一射频电源输入端及该第一交流电源输入端电性连接，并与该电浆室耦接；一切换器，包含有一第二射频电源输入端、一第一切换端及一第二切换端；其中该第一切换端电性连接至该电浆源产生装置的第一射频电源输入端，该第二切换端电性连接至该设备本体的第二电极；以及一第二射频电源供应装置，包含有：一第二外壳，包含有一射频电源输出端，该射频电源输出端电性连接至该切换器的第二射频电源输入端；以及一射频电源电路，设置于该第二外壳内，并电性连接至该射频电源输出端。2.如权利要求1所述的具有外部清洁用电浆源的半导体制程设备，其特征在于：该匹配网络的交流电源输入端连接至一交流电源；以及该切换器的第二切换端通过一阻抗匹配器电性连接至该设备本体的第一电极。3.如权利要求1或2所述的具有外部清洁用电浆源的半导体制程设备，其特征在于：该第二外壳包含有一第二交流电源输入端，以电性连接至该交流电源；以及该射频电源电路电性连接至该第二交流电源输入端。4.如权利要求3所述的具有外部清洁用电浆源的半导体制程设备，其特征在于，该射频电源电路产生一高频的变频射频电源。5...
【专利技术属性】
技术研发人员：洪再和，
申请(专利权)人：洪再和，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。