一种可设计空间变化的周期性纳米光栅制造技术

本实用新型专利技术提供了一种可设计空间变化的周期性纳米光栅，包括底部的基底层和上部的光栅层，所述光栅层包括多个交替排列的凸起和凹槽，所述纳米光栅是等腰梯形的，所述凸起的宽度自纳米光栅的一侧向另一侧依次逐渐减小，所述凹槽的宽度也自纳米光栅的一侧向另一侧依次逐渐减小。本实用新型专利技术的一种可设计空间变化的周期性纳米光栅，通过将弹性材料PDMS拉伸制成非等宽等间距的纳米光栅，可以根据实际需要设计可变的宽度和间距以适应空间变化，可满足空间和周期变化的光学处理应用需求，可应用于空间和周期变化的光学传感系统、纳米光子设备中，适用范围更广，具有很大的应用价值和前景。具有很大的应用价值和前景。具有很大的应用价值和前景。

【技术实现步骤摘要】
一种可设计空间变化的周期性纳米光栅


[0001]本技术属于纳米光栅领域，具体是一种可设计空间变化的周期性纳米光栅。

技术介绍

[0002]由大量等宽等间距的平行狭缝构成的光学器件称为光栅，一般常用的光栅是在玻璃片上刻出大量平行刻痕制成，刻痕为不透光部分，两刻痕之间的光滑部分可以透光，相当于一狭缝。精制的光栅，在1cm宽度内刻有几千条乃至上万条刻痕。目前,光栅的应用多集中在纳米尺度，制作纳米光栅的方法多种多样，但是目前所有的纳米光栅均是等宽等间距的，其应用范围有限，不能满足空间周期变化的光学处理应用需求。

技术实现思路

[0003]为了解决上述技术问题，本技术提供了一种可设计空间变化的周期性纳米光栅。
[0004]本技术的技术方案如下：
[0005]一种可设计空间变化的周期性纳米光栅，其包括底部的基底层和上部的光栅层，所述光栅层包括多个交替排列的凸起和凹槽，所述纳米光栅是等腰梯形的，所述凸起的宽度自纳米光栅的一侧向另一侧依次逐渐减小，所述凹槽的宽度也自纳米光栅的一侧向另一侧依次逐渐减小。
[0006]所述凸起的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可设计空间变化的周期性纳米光栅，其特征在于其包括底部的基底层（1）和上部的光栅层（2），所述光栅层（2）包括多个交替排列的凸起（3）和凹槽（4），所述纳米光栅是等腰梯形的，所述凸起（3）的宽度自纳米光栅的一侧向另一侧依次逐渐减小，所述凹槽（4）的宽度也自纳米光栅的一侧向另一侧依次逐渐减小。2.如权利要求1所述的一种可设计空间变化的周期性纳米光栅，其特征在于所述凸起（3）的宽度自纳米光栅的较窄的一侧向较宽的一侧逐渐减小，所述凹槽（4）的宽度也自纳米光栅的较窄的一侧向较宽的一侧逐渐减小。3.如权利要求1所述的一种可设计空间变化的周期性纳米光栅，其特征在于所述每个凹槽（4）的宽度与凹槽（4）一侧相邻的凸起（3）的宽度相同。4.如权利要求3所...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓萌萌，
申请(专利权)人：璞璘科技杭州有限公司，
类型：新型
国别省市：