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一种可设计空间变化的周期性纳米光栅制造技术
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文档序号:30735692
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本实用新型提供了一种可设计空间变化的周期性纳米光栅,包括底部的基底层和上部的光栅层,所述光栅层包括多个交替排列的凸起和凹槽,所述纳米光栅是等腰梯形的,所述凸起的宽度自纳米光栅的一侧向另一侧依次逐渐减小,所述凹槽的宽度也自纳米光栅的一侧向另一...
该专利属于璞璘科技(杭州)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过璞璘科技(杭州)有限公司授权不得商用。
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