磁记录媒体及其制造方法技术

一种磁录记媒体，其特征在于，在基体表面上通过金属底层来形成强磁性金属层并使用磁化反转的磁记录媒体，其中，强磁性金属层的氧浓度被控制在１００ｐｐｍ（重量）以下。（*该技术在2014年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。更详细地来说，本专利技术涉及价格低廉、制造简单、磁性优良的高密度。本专利技术的磁记录媒体最适合用于硬磁盘、软磁盘和磁带等。
技术介绍
现有的，已知有以下技术。图23是作为磁记录媒体的一个例子来说明硬磁盘的概略图。在图23中，图23(a)是磁记录媒体的整体立体图；图23(b)是图23(a)的A-A’部分的断面图。基体1是在铝基板2的表面上制作出非磁性(Ni-P)层3而形成的。而后，在该基板1上依次制作叠层；Cr底层4、强磁性金属层5和保护层6。非磁性(Ni-P)层3是利用电镀法或溅射法在直径89mm(3.5英寸)、厚度1.27mm(50密耳)的圆盘状铝基板2的表面上形成的，以此构成基体1。并且，在非磁性(Ni-P)层3的表面上，通过机械研究处理形成同心圆状的伤痕(以下称为纹理)。一般来说，非磁性(Ni-P)层3的表面光洁度，即在半径方向上测量时的平均中心线光洁度Ra，为5nm-15nm(毫微米)。而且，利用电镀法、蒸发淀积法、溅射法在上述基体1的表面上形成Cr底层4和强磁性金属层5(一般是Co合金属磁性膜)，最后，为了保护强磁性金属层5的表面，利用溅射法淀积一层由碳素等构成的保护层6。典型的各膜层厚度，非磁性(Ni-P)层3为5μm-15μm，Cr底层4为50nm-150nm，强磁性金属层5为30-nm-100nm，保护层6为20nm-50nm。为了提高上述媒体的记录密度，在媒体的磁特性中尤其要提高矫顽磁力。最近，用户的需要正在从具有矫顽磁力1200-1600奥斯特的媒体向具有矫顽磁力1800奥斯特以上的媒体转移。在与此相适应的磁记录媒体中，过去采用的矫顽磁力增大方法，已有以下几种技术①改变强磁性金属层的成分。②减小强磁性金属层的晶粒。③从磁性上使强磁性金属层的晶粒弧立起来。但是，在上述现有技术中，存在以下问题(1)①的技术，在强磁性金属层中包含Pt的情况下效果良好。但是，由于其成本高，而且媒体噪声也大，所以需要进行改进。若改用其他材料，则容易受到成膜气氛的影响，难以达到1800奥斯特以上矫顽磁力。(2)②技术，通过减小底层的膜厚，可以减小晶粒，但是，若晶粒过小，则媒体噪声增大，效果不好。(3)③的技术，通过成膜后的高温加热处理，利用底层Cr的扩散来实现。但必须考虑成膜室内产生气体的影响等，因而制造工艺复杂，不是好方法。另一方面，磁记录媒体的制造方法，现有以下几种技术。④提高成膜时的基体表面温度。⑤调整基体电位。⑥调整成膜气压。但是，在上述的现有技术中，存在以下问题。(4)④的技术，成膜室内产生的气体量增加，制造工艺不稳定，不是好方法。(5)⑤的技术，由于即使改变原有基体电位也无效，异常放电也经常产生，成膜工序不稳定，所以不是好方法。(6)⑥的技术，在可能放电的范围内(1m乇-30m乇)，看不出比过去更好的效果。现将上述(1)的现状加以总结归纳，示于表1。改变强磁性金属层的成分是增大矫顽磁力的方法之一。在此情况下，其基本合金广泛采用CoNiCr、CoCrTa、CoCrPt等。表1总结归纳了这三种合金的各个项目的性能优劣程度比较。表中的数字1表示在3种合金中性能最好 < /p><p>也就是说，CoNiCr与其他材料相比，优点是价格低廉，但缺点是矫顽磁力有限，而且媒体噪声大。CoCrTa与其他材料相比，优点是媒体噪声小，标准化矫顽磁力强，缺点是容易受成膜气氛的影响，所以大批量生产工艺难以稳定。CoCrPt与其他材料相比，优点是容易制作出很高的矫顽磁力，是，由于采用Pt贵金属，所以成本高，媒体噪声也比CoCrTa的大。因此，迫切需要研制出这样一种，即特点是构成强磁性金属层的材料是廉价的，具有1800奥斯特以上的高矫顽磁力，先录的媒体噪声小。本专利技术的目的在于提供这样一种磁记录媒体，即能够利用在强磁性金属层中不包含Pt的材料来达到高矫顽磁力，材料价格低廉，媒体噪声也小，而且制造工序简单。再者，本专利技术的目的还在于提供这样的一种磁记录媒体的制造方法，即成膜时的基体表面温度即使较低，也能制成高矫顽磁力的媒体，基体电位和成膜气体压力可以和过去一样。专利技术的公开本专利技术的磁记录媒体，其特征在于，在基体的表面上通过金属底层形成强磁性金属层，利用磁化(通)反转的磁记录媒体，把该强性金属层的氧浓度定为100wtpm以下。再者，本专利技术的磁记录媒体，其特征在于，在基体的表面上，通过金属底层来形成强磁性金属层，利用磁化反转的磁记录媒体，把该金属底层的氧浓度控制在100wtppm以下。另外，本专利技术的磁记录媒体，其特征在于，把上述强磁性金属层的氧浓度降低到100wtppm以下。再者，本专利技术的磁记录媒体，其特征在于，在基体的表面上，形成强磁性金属层并利用磁化反转的磁记录媒体，该强磁性金属层的氧浓度控制在100wtppm以下。本专利技术的磁记录媒体的制造方法，其特征在于，在基体的表面上利用溅射法依次形成金属底层和强磁性金属层的磁记录媒体的制造方法中，成膜所用的Ar气的杂质浓度为10ppb以下。上述Ar气杂质浓度如果定为100ppt以下，那么，效果更好。本专利技术的磁记录媒体制造方法，其特征在于，在形成上述金属底层之前，利用杂质浓度为10ppb以下的氩气，以高频溅射法对上述基体的表面进行清洁处理，除掉0.2(nm)毫微米-1(nm)毫微米的表面层。上述的本专利技术磁记录媒体的制造方法，在上述强磁性金属层直接形成到上述基体表面上时也是有效的。并且，上述基体的特征在于，表面上形成非磁性层。本专利技术的磁记录媒体的制造方法是，在形成上述金属底层和(或)强磁性金属层时，在上述基体上加负的偏压，最好是加-100V～-400V的偏压，达到的真空度最好是8×10-8乇(Torr)以下。并且，上述基体的表面温度，最好是60℃-150℃。上述本专利技术的磁记录媒体的制造方法，即使在基体的表面光洁度Ra为3毫微米(nm)以下的情况下也是有效的。而且，在形成金属底层和(或)强磁性金属层时所用的气体为(Ar＋N2)或者(Ar＋H2)的情况下，也是适用的。本专利技术的作用本专利技术，在基体的表面上通过金属底层而形成强磁性金属层的磁记录媒体，把强磁性金属层的氧浓度控制在100wtppm以下，使得以杂质为核心进行结晶生长的粒子很少，所以，可以获得均匀晶粒，可以制成对膜面平行方向的高矫顽磁力的磁记录媒体。再者，本专利技术，在基体的表面上通过金属底层而形成强磁性金属层的磁记录媒体，把由铬等构成的金属底层的氧浓度控制在100wtppm以下，所以即使膜的厚度很薄也能生长出良好的结晶。其结果，构成强磁性金属层的晶粒的定向面控制程度(即hcp(水平共面)结构的C轴横置于膜面内的程度)提高了，所以，可以制成对膜面平行方向的高矫顽磁力的磁记录媒体。而且，本专利技术，在基体的表面上通过金属底层而形成强磁性金属层的磁记录媒体，强磁性金属层和金属底层，二者的氧浓度均被控制100wtppm以下，所以，金属底层的非磁性铬，不受强磁性金属层和金属底层中的杂质的影响，容易通过上述二层的界面，向强磁性金属层的晶粒间扩散。其结果使强磁性金属层的各晶粒的磁性孤立(隔离)度提高，所以，能够制成对膜面平行方向的高矫顽磁力的磁记录媒体。本专利技术的磁记录媒体，金属底层的膜厚最好控制在2.5毫微米本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁录记媒体，其特征在于，在基体表面上通过金属底层来形成强磁性金属层并使用磁化反转的磁记录媒体，其中，强磁性金属层的氧浓度被控制在100ppm(重量)以下。2.一种磁记录媒体，其特征在于，在基体表面上通过金属底层来形成强磁性金属层并利用磁化反转的磁记录媒体，其中，金属底层的氧浓度被控制在100ppm(重量)以下。3.如权利要求2所述的磁记录媒体，其特征在于，上述强磁性金属层的氧浓度被控制在100ppm(重量)以下。4.如权利要求1或2或3所述的磁记录媒体，其特征在于，上述强磁性金属层是Co基合金。5.如权利要求1或2或3或4所述的磁记录媒体，其特征在于，上述Co基合金是CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoPtNi、CoNiCrTa、CoCrPtTa中的任一种合金。6.如权利要求1或2或3或4或5中所述的磁记录媒体，其特征在于，上述金属底层是Cr。7.如权利要求1或2或3或4或5或6所述的磁记录媒体，其特征在于，上述金属底层的膜厚为2.5-100毫微米。8.如权利要求1至7中任一项所述的磁记录媒体，其特征在于，上述金属底层的膜厚为5-30毫微米。9.如权利要求1至8中任一项所述的磁记录媒体中，其特征在于，上述强磁性金属层的膜厚为2.5-40毫微米。10.如权利要求1至9中任一项所述的磁记录媒体，其特征在于，上述强磁性金属层的膜厚为5-20毫微米。11.一种磁记录媒体，在基体表面上形成强磁性金属层并利用了磁化反转，其特征在于，其中，其强磁性金属层的氧浓度是在100ppm(重量)以下。12.如权利要求11所述的磁记录媒体，其特征在于，上述强磁性金属层是Co基合金。13.如权利要求11或12所述的磁记录媒体，其特征在于，上述Co基合金是CoCr、CoCrTa、CoPt中的任一种合金。14.如权利要求1至13中任一项所述的磁记录媒体，其特征在于，在上述基体的表面上形成非磁性层。15.如权利要求1至14中任一项所述的磁记录媒体，其特征在于，上述强磁性金属层的标准化矫顽磁力(用Hc/Hkgrain表示)为0.3以上0.5以下。16.如权利要求1至15中任一项所述的磁记录媒体，其特征在于，上述基体是Al合金。17.如权利要求1至15中任一项所述的磁记录媒体，其特征在于，上述基体是玻璃。18.如权利要求1至15中任一项所述的磁记录媒体，其特征在于，上述基体是硅。19.一种磁记录媒体的制造方法，其特征在于，在基体表面上利用溅射法依次形成金属底层和强磁性金属层，成膜时所用用A...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥研，
申请(专利权)人：高桥研，保谷株式会社，
类型：发明
国别省市：