磁记录媒体及其制造方法技术

本发明专利技术的目的在于提供一种磁记录媒体及其制造方法，该磁记录媒体为具有由ＣｏＮｉＣｒ或ＣｏＣｒＰｔ合金磁性膜形成的强磁性金属层的磁记录媒体，其电磁转换特性中的Ｓ／Ｎ比值较高，并且在大批量生产时可稳定地获得矫顽力。本发明专利技术的磁记录媒体为下述的磁通反转型磁记录媒体，在其基体表面上通过金属衬层，形成至少由ＣｏＮｉＣｒ或ＣｏＣｒＰｔ构成的强磁件金属层，上述强磁性金属层的氧浓度在１００ｐｐｍ（重量）以下，其特征在于，在形成强磁性金属层的晶粒之间具有非晶形结构构成的晶界层。本发明专利技术的磁记录媒体的制造方法的特征在于，形成上述金属衬层和／或上述强磁性金属层时的基体表面温度是６０℃～１５０℃。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。具体来说，本专利技术涉及下述的高密度，该磁记录媒体具有高的矫顽力和标准矫顽力，并且具有良好的S/N比值。本专利技术的磁记录媒体特别适合用于硬磁盘，软磁盘和磁带等。
技术介绍
业已知道，已有的包括下面的技术。附图说明图10为作为磁记录媒体的一个实例的硬磁盘的示意图。在图10中，图10(a)为磁记录媒体的整体斜视图，图10(b)的沿图10(a)中为A-A’线的局部剖面图。作为基体1，使用Al基板2的表面上设置非磁性(Ni-P)层3的基体。之后，在该基体1上依次层叠Cr衬层4，强磁性金属层5以及保护层6。通过电镀法或溅射法在下述Al基板2表面上形成非磁性(Ni-P)层3，从而形成基体1，该Al基板2为圆盘形，其直径为89mm(3.5英寸)，其厚度为1.27mm(50密耳)。另外，通过机械研磨处理，在非磁性(Ni-P)层3表面上形成呈同心圆形的痕迹(后面称为纹理)。一般来说，非磁性(Ni-P)层3的表面粗糙度，即沿半径方向测定时的平均中心线粗糙度Ra为5nm～15nm。此外，Cr衬层4和强磁性金属层5(一般为Co合金系磁性膜)通过溅射法形成于上述基体1的表面上，最后通过溅射法形成碳等构成的保护层6，对强磁性金属层5的表面进行保护。典型的每个层的厚度为下述值，即非磁性(Ni-P)层35μm～15μm，Cr衬层450nm～150nm，强磁性金属层530nm～100nm，保护层620nm～50nm。具有上述层结构的已有的磁记录媒体是在下述的条件下制造的，该条件为溅射成膜之前的成膜室所达到的真空度为10-7乇，，并且成膜时所采用的Al气体中的杂质浓度在1ppm以上。在按照上述制造方法得到的磁记录媒体中，特别是在含有Ta元素的强磁性金属层5(比如，CoCrTa合金磁性膜)的场合，在形成强磁性金属层的晶粒之间存在有非晶形结构形成的晶界层，以及该晶界层由非磁性合金组成构成，这些是由中井等人报导的(J.Nakai，E.Kusumoto，M.Kuwabara，T.Miyamoto，M.R.Visokay，K.Yoshikawa and K.Itayama，“Relation BetweenMicrostructure of Grain Boundary and the Intergranular Exchange in CoCrTa ThinFilm for Longitudinal Recording Media”，IEEE Trans.Magn.，vol.30，No.6，pp.3969，1994)。但是，在不含有Ta元素的强磁性金属层(比如，CoNiCr或CoCrPt合金磁性膜)的场合，未看到具有上述的晶界层。另外，上述文献还指出在强磁性金属层含有Ta元素的场合，磁记录媒体的标准矫顽力(表示为Hc/Hkgrain)具有大于0.3的值，与此相对，在不含有Ta的场合，则上述矫顽力小于0.3。此外，国际专利申请PCT/JP94/01184号公报中公开了下述的技术，该技术涉及一种廉价的高密度，该磁记录媒体在不采用高价的强磁性金属层的情况下，具有高的矫顽力，在通过金属衬层在基体表面上形成强磁性金属层、利用磁通反转的磁记录媒体中，通过使成膜时所使用的Ar气体中的杂质浓度保持在10ppb以下，使金属衬层或/和强磁性金属层的氧浓度在100ppm(重量)以下。另外，上述文献还指出，由于在形成上述金属衬层之前，使用其杂质浓度在10ppb以下的Ar气体，通过高频溅射法对上述基体表面进行清洁处理，使上述基体表面去除0.2nm～1nm，这样可进一步增加矫顽力。上述文献还指出，磁记录媒体的标准矫顽力与媒体噪音之间具有相关性，为了获得噪音较低的媒体，应将标准矫顽力设定在0.3以上、0.5以下。磁记录媒体的标准矫顽力(表示为Hc/Hkgrain)指矫顽力Hc与晶粒的各向异性磁场Hkgrain的比值，表示晶粒隔磁性的提高程度。即，强磁性金属层的标准矫顽力高，意味着构成强磁性金属层的每个晶粒的磁性相互作用降低，从而可获得高的矫顽力。另外可知道，在进行更高的高频记录以便实现高密度记录的场合，磁通反转的过渡区域对记录信号构成噪音源。即，在上述过渡区域的混乱大，或范围较大的场合，会形成下述的磁记录媒体，该磁记录媒体中的噪音变高趋向增加，记录再生特性差。现有的磁记录媒体，在强磁性金属层为CoCrTa合金磁性膜的场合，的确容易获得噪音较低的媒体，在强磁性金属层为CoNiCr或CoCrPt合金磁性膜的场合，上述噪音趋向增加。由于具有由CoCrTa合金磁性膜组成的强磁性金属层的磁记录媒体容易受到成膜气氛的影响，这样很难制造在大批量生产时保持稳定的高矫顽力的媒体。与此相对，在强磁性金属层为CoNiCr或CoCrPt合金磁性膜的场合，有在大批量生产时可稳定地获得矫顽力的优点。因此，希望提供一种，该磁记录媒体具有由在大批量生产时可稳定地获得矫顽力的CoNiCr或CoCrPt合金磁性膜组成的强磁性金属层，保持电磁转换特性中的S/N比值(S表示记录信号，N表示媒体噪音)高的特点。本专利技术的第1目的在于提供一种磁记录媒体，该磁记录媒体具有由CoNiCr或CoCrPt合金磁性膜组成的强磁性金属层，其电磁转换特性中的S/N比值(S表示记录信号，N表示媒体噪音)高，并且在大批量生产时可稳定地获得矫顽力。本专利技术的第2目的在于提供一种磁记录媒体制造方法，该方法即使在成膜过程中的基体表面温度较低的情况下，或不对基体外加偏电压的情况下，仍可很容易地形成具有高矫顽力的媒体。专利技术的公开本专利技术的磁记录媒体是磁通反转型磁记录媒体，在其基体表面上通过金属衬层，形成由至少由CoNiCr组成的强磁性金属层，上述强磁性金属层的氧浓度在100ppm(重量)以下，其特征在于，在形成强磁性金属层的晶粒之间具有非晶形结构构成的晶界层。另外，本专利技术的磁记录媒体是磁通反转型磁记录媒体，在其基体表面上通过金属衬层，形成由至少由CoCrPt组成的强磁性金属层，上述强磁性金属层的氧浓度在100ppm(重量)以下，其特征在于，在形成强磁性金属层的晶粒之间具有非晶形结构构成的晶界层。上述磁记录媒体的另一特征在于，上述晶界层为非磁性的，并且上述强磁性金属层包含作为第4元素的Ta。上述磁记录媒体的又一特征在于，上述金属衬层为Cr，并且上述金属衬层的膜厚度在5nm～30nm的范围内。上述磁记录媒体的再一特征在于，本专利技术的磁记录媒体与上述的磁记录媒体不同，它不通过金属衬层，在上述基体表面上形成上述强磁性金属层。本专利技术的磁记录媒体的制造方法涉及下述的制造方法，其中上述金属衬层和/或上述强磁性金属层的形成方法为溅射法，其特征在于，形成上述金属衬层和/或上述强磁性金属层时的基体表面温度是60℃～150℃。上述磁记录媒体的制造方法的另一特征在于，在形成上述金属衬层和/或上述强磁性金属层时，对上述基体除由等离子体产生的自偏压以外，不施加电偏压。按照权利要求1所述的专利技术，在具有由CoNiCr组成的强磁性金属层的在沿其表面方向进行磁性记录的媒体中，由于在形成上述强磁性金属层的晶粒之间具有由非晶形结构构成的晶界层，所以可获得高的矫顽力和标准矫顽力，并且具有良好的S/N比值。按照权利要求2所述的专利技术，在具有由CoCrPt组成的强磁性金属本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录媒体，该磁记录媒体为磁通反转型，在其基体表面上通过金属衬层，形成至少由ＣｏＮｉＣｒ构成的强磁性金属层，上述强磁性金属层的氧浓度在１００ｐｐｍ（重量）以下，其特征在于，在形成强磁性金属层的晶粒之间具有非晶形结构构成的晶界层。

【技术特征摘要】
1.一种磁记录媒体，该磁记录媒体为磁通反转型，在其基体表面上通过金属衬层，形成至少由CoNiCr构成的强磁性金属层，上述强磁性金属层的氧浓度在100ppm(重量)以下，其特征在于，在形成强磁性金属层的晶粒之间具有非晶形结构构成的晶界层。2.一种磁记录媒体，该磁记录媒体为磁通反转型，在其基体表面上通过金属衬层，形成至少由CoCrPt构成的强磁性金属层，上述强磁性金属层的氧浓度在100ppm(重量)以下，其特征在于，在形成强磁性金属层的晶粒之间具有非晶形结构构成的晶界层。3.根据权利要求1或2所述的磁记录媒体，其特征在于，上述晶界层是非磁性的。4.根据权利要求1～3中任何一项所述的磁记录媒体，其特征在于，上述强磁性金属层包含作为第4元素的Ta。5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥研，
申请(专利权)人：高桥研，
类型：发明
国别省市：JP[日本]