磁记录媒体及其制造方法技术

本发明专利技术的目的在于提供一种磁记录媒体及其造方法，在该磁记录媒体中由于设置α层和β层，从而不依赖于基体材质，可获得高的矫顽力。本发明专利技术的磁记录媒体为下述的磁通反转型磁记录媒体，在其基体表面上通过或不通过至少由Ｃｒ构成的金属衬层，设置由Ｃｏ合金构成的强磁性金属层，而且，上述金属衬层或／和上述强磁件金属层的氧浓度是１００ｐｐｍ（重量）以下，其特征在于，在上述基体与金属衬层或强磁性金属层之间设置α层和β层，该α层至少由镍（Ｎｉ）和磷（Ｐ）的金属及氧化物构成，上述β层至少具有酯基。另外，本明的磁记录媒体的制造方法的特征在于，用于形成上述α层、β层、金属衬层及强磁性金属层的成膜室所达到的真空度是１０↑［－９］乇以下。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有高矫顽力的。本专利技术的磁记录媒体特别适合用于硬磁盘，软磁盘和磁带等。
技术介绍
业已知道，已有的包括下面的技术。附图说明图11是作为已有的磁记录媒体的一个实例的硬磁盘的示意图。在图11中，图11(a)为磁记录媒体的整体斜视图，图11(b)为沿图11(a)中的A-A’线的局部剖面图。基体1是这样形成的，即在Al基板2的表面上设置非磁性(Ni-P)层3。之后，在该基板1上依次层叠Cr衬层4，强磁性金属层5以及保护层6。通过电镀法或溅射法在下述Al基板2表面上形成非磁性(Ni-P)层3，从而形成基体1，该Al基板2为圆盘形，其直径为89mm(3.5英寸)、厚度为1.27mm(50密耳)。另外，通过机械研磨处理，在非磁性(Ni-P)层3表面上形成呈同心圆形的痕迹(后面称为纹理)。一般来说，非磁性(Ni-P)层3的表面粗糙度，即沿半径方向测定时的平均中心线粗糙度Ra为5nm～15nm。此外，Cr衬层4和强磁性金属层5(一般为Co合金系磁性膜)通过溅射法形成于上述基体1的表面上，最后通过溅射法形成碳等构成的保护层6，对强磁性金属层5的表面进行保护。典型的每个层的厚度为下述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录媒体，它是在其基体表面上通过至少由Ｃｒ形成的金属衬层，设置由Ｃｏ合金构成的强磁性金属层，而且上述金属衬层或／和上述强磁性金属层的氧浓度在１００ｐｐｍ（重量）以下，利用磁通反转的磁记录媒体，其特征在于，在上述基体和金属衬层之间设置有α层和β层，该α层至少由镍（Ｎｉ）和磷（Ｐ）的金属及氧化物构成，上述β层至少具有酯基。

【技术特征摘要】
1.一种磁记录媒体，它是在其基体表面上通过至少由Cr形成的金属衬层，设置由Co合金构成的强磁性金属层，而且上述金属衬层或/和上述强磁性金属层的氧浓度在100ppm(重量)以下，利用磁通反转的磁记录媒体，其特征在于，在上述基体和金属衬层之间设置有α层和β层，该α层至少由镍(Ni)和磷(P)的金属及氧化物构成，上述β层至少具有酯基。2.根据权利要求1所述的磁记录媒体，其特征在于，该磁记录媒体的层结构是基体/α层/β层/金属衬层/强磁性金属层。3.一种磁记录媒体，它是在其基体表面上设置至少由Co合金构成的强磁性金属层，而且该强磁性金属层的氧浓度在100ppm(重量)以下的磁记录媒体，其特征在于，在上述基体和上述金属衬层之间设置α层和β层，该α层至少由镍(Ni)和磷(P)的金属及氧化物构成，上述β层至少具有酯基。4.根据权利要求3所述的磁记录媒体，其特征在于，该磁...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥研，
申请(专利权)人：高桥研，
类型：发明
国别省市：JP[日本]