晶圆烘干槽、晶圆烘干装置制造方法及图纸

本申请涉及晶圆烘干设备技术领域，提供了一种晶圆烘干槽、晶圆烘干装置，用于对晶圆进行烘干。晶圆烘干槽包括：槽体；管道系统，管道系统用于朝向槽体内的不同方向通入气体，以在槽体内交汇形成混合气流场。本申请将多个晶圆置于槽体内，通过管道系统从多个方向朝向槽体内通入气体，可以在槽体内形成混合气流场，混合气流场是流动的，因此，在槽体内形成的烘干区域能够覆盖整个晶圆尺寸范围，以保证晶圆表面的洁净度。面的洁净度。面的洁净度。

【技术实现步骤摘要】
晶圆烘干槽、晶圆烘干装置


[0001]本申请属于晶圆干燥
，具体而言，涉及晶圆烘干槽、晶圆烘干装置。

技术介绍

[0002]在相关技术中，在半导体行业，晶圆干燥工序是必不可少的，不仅需要做到将晶圆表面烘干，还要保证晶圆表面的洁净度。目前行业里发展出多种晶圆干燥设备，但这些设备对于晶圆的烘干区域没有做区分或针对性设计，导致烘干区域很难覆盖整个晶圆尺寸范围。

技术实现思路

[0003]根据本技术的实施例旨在解决或改善上述技术问题。
[0004]根据本技术的实施例的第一目的在于提供一种硅晶烘干槽。
[0005]技术根据本技术的实施例的第二目的在于提供一种晶圆烘干装置。
[0006]为实现根据本技术的实施例的第一目的，本技术的技术方案提供了一种晶圆烘干槽，用于对晶圆进行烘干，晶圆烘干槽包括：槽体，其内适于放置多个晶圆；管道系统，管道系统用于朝向槽体内的不同方向通入气体，以在槽体内交汇形成混合气流场。
[0007]在该技术方案中，将多个晶圆置于槽体内，通过管道系统从多个方向朝向槽体内通入气体，例如氮气，可本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆烘干槽(100)，用于对晶圆(200)进行烘干，其特征在于，所述晶圆烘干槽(100)包括：槽体(110)，其内适于放置多个所述晶圆(200)；管道系统(120)，所述管道系统(120)用于朝向所述槽体(110)内的不同方向通入气体，以在所述槽体(110)内交汇形成混合气流场。2.根据权利要求1所述的晶圆烘干槽(100)，其特征在于，所述管道系统(120)包括：上部吹气管(122)，位于所述槽体(110)的顶部，所述上部吹气管(122)用于向下喷出第一气体；下部吹气管(124)，位于所述槽体(110)内的侧面，所述下部吹气管(124)用于水平喷出第二气体；第一出风口(126)，位于所述槽体(110)的底部；其中，所述第一气体、所述第二气体在所述槽体(110)内交汇且部分气体通过所述第一出风口(126)排出所述槽体(110)，形成竖直气流场。3.根据权利要求2所述的晶圆烘干槽(100)，其特征在于，所述下部吹气管(124)至少设置为两个，两个所述下部吹气管(124)对设在所述槽体(110)的侧部；其中，两个所述下部吹气管(124)适于相对吹出第二气体，以使所述第一气体、所述第二气体在多个所述晶圆(200)的间隙处交汇。4.根据权利要求2所述的晶圆烘干槽(100)，其特征在于，所述管道系统(120)还包括：第二出风口(128)，设于所述槽体(110)的侧壁上；其中，所述第一气体、所述第二气体在所述槽体(110)内交汇且部分气体通过所述第二出风口(128)排出所述槽体(110)，形成水平气流场。5.根据权利要求4所述的晶圆烘干槽(100)，其特征在于，所述第二出风口(128)至少设置为两个，两个所述第二出风口(128)对设在所述槽体(110)内的侧部；其中，所述第二出风口(128)的高...

【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，陈雷，成旭，李雄朋，申斌，谈丽文，邱瑞，饶相松，
申请(专利权)人：创微微电子常州有限公司，
类型：新型
国别省市：