【技术实现步骤摘要】
一种去氧化清洗设备的去氧化清洗槽结构
[0001]本技术涉及PM4去氧化清洗领域，尤其是涉及一种去氧化清洗设备的去氧化清洗槽结构。
技术介绍
[0002]PM4去氧化清洗设备主要是用于电脑硬盘零部件、印刷电路板、芯片、光通信元气件、光学玻璃等零件的清洗加工，保证清洗后的工件表面不能有油污、水渍、新增划伤，清洗后的工件表面干燥。
[0003]为了方便工件的去氧化清洗加工，现有的PM4去氧化清洗设备配备有清洗篮，清洗篮用于放置多个工件，清洗篮便于多个工件的集成化清洗加工，如何进行高效清洗是现有PM4去氧化清洗设备需要解决的技术问题，现有的PM4去氧化清洗设备在对多个工件进行集中清洗时，存在工件去氧化清洗效果不好、清洗篮内置不稳定，清洗液温度不可控以及工件表面清洗液体残留的问题，本专利基于现有的技术问题，对清洗装置进行结构改进。
技术实现思路
[0004]本技术的目的是为了解决现有技术存在的缺陷，提供一种去氧化清洗设备的去氧化清洗槽结构。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用的技术方案如下：>[0006]一种去本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种去氧化清洗设备的去氧化清洗槽结构，包括清洗槽槽体，设置在清洗槽槽体内的清洗喷淋机构，安装在清洗槽槽体底部的加热机构、出液导流组件以及设置在清洗槽槽体顶部的切水机构，其特征在于，所述清洗喷淋机构包括设置在所述清洗槽槽体内壁上的喷淋管以及设置在喷淋管上的多个喷嘴；所述加热机构包括设置在所述清洗槽槽体内腔底部的电加热管，与电加热管连接的电接头，电接头固定安装在清洗槽槽体上；所述切水机构包括设置在清洗槽槽体顶部的吹气管以及安装在吹气管上的多个吹气风嘴。2.根据权利要求1所述的一种去氧化清洗设备的去氧化清洗槽结构，其特征在于，所述出液导流组件包括设置在清洗槽槽体底部呈漏斗状的倾斜导流板以及设置在倾斜导流板端部的液体导出管。3.根据权利要求1或2所述的一种去氧化清洗设备的去氧化清洗槽结构，其特征在于，所述清洗槽槽体内腔的底部设有清洗篮支撑组件，清洗篮支撑组件包括安装在清洗槽槽体内壁上的两个相互对称的支撑板，设置在支撑板上的限位卡爪，限位卡爪固定支撑清洗篮，清洗篮上安置...
【专利技术属性】
技术研发人员：王瑞华，田晓波，
申请(专利权)人：上海台姆超声设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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